Connaissance Quelle est l'épaisseur d'une cible de pulvérisation ?
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Équipe technique · Kintek Solution

Mis à jour il y a 3 mois

Quelle est l'épaisseur d'une cible de pulvérisation ?

L'épaisseur d'une cible de pulvérisation peut varier en fonction du matériau utilisé et de la nature du film mince créé.

Pour la pulvérisation magnétron de matériaux magnétiques tels que le nickel, on utilise une cible plus fine, généralement une feuille de moins de 1 mm d'épaisseur.

Pour les cibles métalliques normales, une épaisseur de 4 à 5 mm est considérée comme acceptable. Il en va de même pour les cibles d'oxyde.

La taille et la forme des cibles de pulvérisation peuvent également varier considérablement. Les plus petites cibles peuvent avoir un diamètre de moins d'un pouce (2,5 cm), tandis que les plus grandes cibles rectangulaires peuvent atteindre une longueur de plus d'un yard (0,9 m). Dans certains cas, des cibles plus grandes peuvent être nécessaires, et les fabricants peuvent créer des cibles segmentées reliées par des joints spéciaux.

Les formes couramment utilisées pour les cibles de pulvérisation sont circulaires et rectangulaires, bien que d'autres formes telles que les formes carrées et triangulaires puissent également être produites.

Les dimensions standard des cibles rondes vont de 1" à 20" de diamètre, et les cibles rectangulaires peuvent être disponibles dans des longueurs allant jusqu'à 2000 mm et plus, en fonction du métal et du fait qu'il s'agit d'une construction en une ou plusieurs pièces.

Les méthodes de fabrication des cibles de pulvérisation dépendent des propriétés du matériau de la cible et de son application. Les méthodes suivantes peuvent être utilisées : fusion et laminage sous vide, pressage à chaud, procédé spécial de frittage sous presse, pressage à chaud sous vide et forgeage.

Les cibles de pulvérisation sont généralement des plaques solides composées de métaux purs, d'alliages ou de composés tels que les oxydes ou les nitrures. L'épaisseur des revêtements déposés par pulvérisation est généralement comprise entre quelques angströms et quelques microns. Le film mince peut être constitué d'un seul matériau ou de plusieurs matériaux dans une structure en couches.

La pulvérisation réactive est un autre procédé dans lequel un gaz non inerte comme l'oxygène est utilisé en combinaison avec un matériau cible élémentaire pour créer une réaction chimique et former un nouveau film composé.

En résumé, l'épaisseur d'une cible de pulvérisation peut varier en fonction du matériau et de l'application, allant de moins de 1 mm pour les matériaux magnétiques à 4 ou 5 mm pour les cibles de métal et d'oxyde normales. La taille et la forme des cibles de pulvérisation peuvent également varier considérablement, les cibles rondes ayant un diamètre compris entre 1 et 20 pouces et les cibles rectangulaires étant disponibles dans des longueurs allant jusqu'à 2000 mm et plus.

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