Produits Équipement thermique Four tubulaire

Four tubulaire

Le Lab Tube Furnace est un appareil électrique utilisé pour synthétiser et purifier des composés inorganiques et organiques. Il possède une cavité cylindrique entourée de serpentins chauffants dans une matrice thermiquement isolante.

La température est surveillée et régulée avec un thermocouple et un contrôleur numérique. Certains modèles ont plusieurs zones de chauffage et une interface RS-232 pour programmer des fonctions spécifiques.

Avec des éléments chauffants en matériaux comme le MoSi2, ces fours peuvent fonctionner jusqu'à 1800 °C, permettant des applications avancées. Les matériaux des tubes varient en fonction de la corrosivité des réactifs et peuvent inclure l'alumine, le Pyrex, le quartz fondu, le molybdène ou le tungstène.

Four tubulaire multizone

Four tubulaire multizone

Numéro d'article : KT-MTF

Four à tube chauffant Rtp

Four à tube chauffant Rtp

Numéro d'article : KT-RTP

Four à tubes vertical

Four à tubes vertical

Numéro d'article : KT-VTF

Four tubulaire à haute pression

Four tubulaire à haute pression

Numéro d'article : KT-PTF


Il existe différentes configurations de fours tubulaires de laboratoire, englobant les types divisés, non divisés, à gradient, rotatifs et oscillants. Selon le modèle spécifique, les fours tubulaires fendus et non fendus peuvent être positionnés horizontalement ou verticalement, avec le tube de travail orienté en conséquence.

L'utilisation d'un four tubulaire au lieu d'un four à chambre offre plusieurs avantages, notamment le fait qu'il est plus approprié pour la manipulation d'échantillons plus petits en raison de sa plus petite capacité volumique et de ses taux de chauffage plus rapides. Les tubes de travail scellés protègent la construction du four contre les contaminants, tout en simplifiant le maintien d'une atmosphère modifiée autour des échantillons.

FAQ

Qu'est-ce Qu'un Four Tubulaire ?

Le four tubulaire de laboratoire est un four tubulaire à haute température de chauffage externe classique, également appelé four de chauffage à paroi chaude.

Selon la température de travail différente, le matériau du tube de four peut généralement être des tubes de quartz transparents, des tubes en céramique d'alumine de haute pureté et des tubes en alliage métallique à haute résistance.

Pour répondre à différents objectifs de recherche thermique, le four tubulaire peut être conçu avec plusieurs zones de chauffage, de manière à avoir un contrôle flexible du gradient de température dans la chambre de travail du tube ; le tube de four peut fonctionner avec un environnement de travail à atmosphère contrôlée ou un environnement de travail sous vide poussé.

Qu'est-ce Qu'un Four CVD ?

Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est une technologie qui utilise diverses sources d'énergie telles que le chauffage, l'excitation du plasma ou le rayonnement lumineux pour faire réagir chimiquement des substances chimiques gazeuses ou en phase vapeur sur la phase gazeuse ou l'interface gaz-solide pour former des dépôts solides dans le réacteur au moyen de réaction chimique. Pour le dire simplement, deux ou plusieurs matières premières gazeuses sont introduites dans une chambre de réaction, puis elles réagissent l'une avec l'autre pour former un nouveau matériau et le déposer sur la surface du substrat.

Le four CVD est un système de four combiné avec une unité de four tubulaire à haute température, une unité de contrôle des gaz et une unité de vide, il est largement utilisé pour l'expérimentation et la production de préparation de matériaux composites, de processus microélectronique, d'optoélectronique semi-conducteur, d'utilisation de l'énergie solaire, de communication par fibre optique, supraconducteur technologie, domaine des revêtements de protection.

Comment Fonctionne Un Four Tubulaire ?

Les éléments chauffants du four tubulaire sont placés autour de la cavité cylindrique, le four ne peut chauffer les échantillons dans la cavité cylindrique que par rayonnement thermique indirect, car le tube du four peut empêcher le matériau de l'échantillon d'entrer en contact avec les éléments chauffants du four et les matériaux d'isolation, de sorte que le four tubulaire crée un propre isolé chauffer la chambre et réduire les risques de contamination de l'échantillon par le four.

Comment Fonctionne Le Four CVD ?

Le système de four CVD se compose d'une unité de four tubulaire à haute température, d'une unité de contrôle précise de la source de gaz réactif, d'une station de pompe à vide et des pièces d'assemblage correspondantes.

La pompe à vide consiste à éliminer l'air du tube de réaction et à s'assurer qu'il n'y a pas de gaz indésirables à l'intérieur du tube de réaction, après quoi le four tubulaire chauffera le tube de réaction à une température cible, puis l'unité de contrôle précise de la source de gaz de réaction peut introduire différents gaz avec un rapport défini dans le tube du four pour la réaction chimique, le dépôt chimique en phase vapeur sera formé dans le four CVD.

Quelle Est L'application Pour Le Four Tubulaire?

Le four tubulaire est principalement utilisé dans la métallurgie, le verre, le traitement thermique, les matériaux d'anode et de cathode au lithium, les nouvelles énergies, les abrasifs et d'autres industries, et est un équipement professionnel pour mesurer les matériaux dans certaines conditions de température.

Le four tubulaire présente une structure simple, une opération facile, un contrôle facile et une production continue.

Le four tubulaire est également largement appliqué dans les systèmes CVD (dépôt chimique en phase vapeur) et CVD amélioré par plasma.

Quel Gaz Est Utilisé Dans Le Procédé CVD ?

Il existe d'énormes sources de gaz pouvant être utilisées dans le processus CVD, les réactions chimiques courantes de CVD comprennent la pyrolyse, la photolyse, la réduction, l'oxydation, le redox, de sorte que les gaz impliqués dans ces réactions chimiques peuvent être utilisés dans le processus CVD.

Nous prenons la croissance du graphène CVD par exemple, les gaz utilisés dans le processus CVD seront CH4, H2, O2 et N2.

Combien De Différents Types De Four Tubulaire?

Le four tubulaire peut fonctionner avec différentes fonctions mécaniques en douceur, il existe donc de nombreux types de variantes de four tubulaire à différentes fins d'expérimentation, les fours à four typiques sont les suivants :

  • Four tubulaire horizontal
  • Four tubulaire vertical
  • Four tubulaire fendu
  • Four tubulaire rotatif
  • Four tubulaire basculant
  • Four tubulaire coulissant
  • Four tubulaire à chauffage et refroidissement rapides
  • Four tubulaire à alimentation et décharge continue

Quel Est L'avantage Du Système CVD ?

  • Une large gamme de films peut être produite, film métallique, film non métallique et film d'alliage multi-composants selon les besoins. En même temps, il peut préparer des cristaux de haute qualité difficiles à obtenir par d'autres méthodes, telles que GaN, BP, etc.
  • La vitesse de formation du film est rapide, généralement plusieurs microns par minute voire des centaines de microns par minute. Il est possible de déposer simultanément de grandes quantités de revêtements avec une composition uniforme, ce qui est incomparable aux autres méthodes de préparation de film, telles que l'épitaxie en phase liquide (LPE) et l'épitaxie par jet moléculaire (MBE).
  • Les conditions de travail sont réalisées dans des conditions de pression normale ou de vide faible, de sorte que le revêtement a une bonne diffraction et que les pièces aux formes complexes peuvent être uniformément revêtues, ce qui est bien supérieur au PVD.
  • En raison de la diffusion mutuelle du gaz de réaction, du produit de réaction et du substrat, un revêtement avec une bonne force d'adhérence peut être obtenu, ce qui est crucial pour la préparation de films renforcés en surface tels que des films résistants à l'usure et anti-corrosion.
  • Certains films se développent à une température bien inférieure au point de fusion du matériau du film. Dans des conditions de croissance à basse température, le gaz de réaction et la paroi du réacteur et les impuretés qu'ils contiennent ne réagissent presque pas, de sorte qu'un film de haute pureté et de bonne cristallinité peut être obtenu.
  • Le dépôt chimique en phase vapeur permet d'obtenir une surface de dépôt lisse. En effet, par rapport au LPE, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est effectué sous une saturation élevée, avec un taux de nucléation élevé, une densité de nucléation élevée et une distribution uniforme sur tout le plan, ce qui donne une surface lisse macroscopique. Dans le même temps, dans le dépôt chimique en phase vapeur, le libre parcours moyen des molécules (atomes) est beaucoup plus grand que le LPE, de sorte que la distribution spatiale des molécules est plus uniforme, ce qui favorise la formation d'une surface de dépôt lisse.
  • Faibles dommages causés par les radiations, condition nécessaire à la fabrication de semi-conducteurs à oxyde métallique (MOS) et d'autres dispositifs

Que Signifie PECVD ?

Le PECVD est une technologie qui utilise le plasma pour activer le gaz de réaction, favoriser la réaction chimique à la surface du substrat ou près de l'espace de surface et générer un film solide. Le principe de base de la technologie de dépôt chimique en phase vapeur par plasma est que, sous l'action d'un champ électrique RF ou CC, le gaz source est ionisé pour former un plasma, le plasma à basse température est utilisé comme source d'énergie, une quantité appropriée de gaz de réaction est introduit, et la décharge de plasma est utilisée pour activer le gaz de réaction et réaliser le dépôt chimique en phase vapeur.

Selon la méthode de génération de plasma, il peut être divisé en plasma RF, plasma DC et plasma micro-ondes CVD, etc.

Quelle Est La Différence Entre CVD Et PECVD ?

La différence entre la technologie PECVD et la technologie CVD traditionnelle est que le plasma contient un grand nombre d'électrons à haute énergie, qui peuvent fournir l'énergie d'activation requise dans le processus de dépôt chimique en phase vapeur, modifiant ainsi le mode d'alimentation en énergie du système de réaction. Étant donné que la température des électrons dans le plasma est aussi élevée que 10000K, la collision entre les électrons et les molécules de gaz peut favoriser la rupture de la liaison chimique et la recombinaison des molécules de gaz de réaction pour générer des groupes chimiques plus actifs, tandis que l'ensemble du système de réaction maintient une température plus basse.

Ainsi, par rapport au processus CVD, le PECVD peut effectuer le même processus de dépôt chimique en phase vapeur avec une température plus basse.

RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team di professionisti ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitate a contattarci!


Articles associés

Importance de la détection des fuites dans les fours à atmosphère contrôlée

Importance de la détection des fuites dans les fours à atmosphère contrôlée

Explique la nécessité de détecter les fuites dans les fours à atmosphère sous vide et les méthodes utilisées pour cette détection.

Lire la suite
Guide opérationnel pour les fours de protection contre les atmosphères inertes en atmosphère mixte

Guide opérationnel pour les fours de protection contre les atmosphères inertes en atmosphère mixte

Guide détaillé sur le fonctionnement d'un four de protection en atmosphère inerte dans une atmosphère mixte, mettant l'accent sur le contrôle des gaz, les mesures de sécurité et les ajustements du processus.

Lire la suite
Amélioration de l'utilisation des fours à atmosphère

Amélioration de l'utilisation des fours à atmosphère

Lignes directrices et précautions pour un fonctionnement efficace et sûr des fours à atmosphère.

Lire la suite
Comprendre le contrôle de la température des fours à atmosphère sous vide et le transfert de chaleur

Comprendre le contrôle de la température des fours à atmosphère sous vide et le transfert de chaleur

Un examen approfondi du contrôle de la température des fours à atmosphère sous vide et des différents mécanismes de transfert de chaleur.

Lire la suite
Classification et caractéristiques des fours de traitement thermique à atmosphère contrôlée

Classification et caractéristiques des fours de traitement thermique à atmosphère contrôlée

Une vue d'ensemble des différents types de fours de traitement thermique en atmosphère contrôlée et de leurs principales caractéristiques.

Lire la suite
Surveillance des gaz du four atmosphérique : Importance et applications

Surveillance des gaz du four atmosphérique : Importance et applications

Examine la nécessité et les méthodes de surveillance des gaz dans les fours à atmosphère contrôlée pour divers procédés à haute température.

Lire la suite
Choisir le bon four tubulaire pour le laboratoire

Choisir le bon four tubulaire pour le laboratoire

Lignes directrices pour la sélection des fours tubulaires en fonction de la température, de la taille de l'échantillon, des zones de température, des fonctions et des pompes à vide.

Lire la suite
Comprendre les fours tubulaires de laboratoire

Comprendre les fours tubulaires de laboratoire

Un examen approfondi de la structure, des avantages, de l'installation, des précautions et des différences entre les fours à résistance tubulaire et les fours à résistance à caisson.

Lire la suite

 
  <p>
   Avantages des fours tubulaires sous vide en termes d'économie d'énergie
  </p>

<p> Avantages des fours tubulaires sous vide en termes d'économie d'énergie </p>

<p> Explorer comment les fours tubulaires à atmosphère sous vide optimisent l'utilisation de l'énergie grâce à des techniques de conception et d'exploitation. </p>

Lire la suite
<html>
 <body>
  <p>
   Matériaux porteurs et propriétés réfractaires dans les fours à vide
  </p>
 </body>
</html>

<html> <body> <p> Matériaux porteurs et propriétés réfractaires dans les fours à vide </p> </body> </html>

<html> <body> <p> Un examen approfondi des matériaux et des propriétés réfractaires essentiels au fonctionnement des fours à vide, y compris leurs applications et les matériaux recommandés. </p> </body> </html>

Lire la suite
Fours à tubes sous vide : Entretien courant et questions fréquemment posées

Fours à tubes sous vide : Entretien courant et questions fréquemment posées

Lignes directrices et solutions pour l'entretien des fours à tubes sous vide et la résolution des problèmes courants.

Lire la suite
Types et applications des fours à vide

Types et applications des fours à vide

Vue d'ensemble des différents types de fours à vide et de leur utilisation dans divers processus de traitement thermique.

Lire la suite
Procédures d'utilisation des fours à vide de laboratoire

Procédures d'utilisation des fours à vide de laboratoire

Étapes détaillées de l'utilisation d'un four à vide en laboratoire.

Lire la suite
Fabrication de puces : Guide complet du processus de recuit

Fabrication de puces : Guide complet du processus de recuit

Exploration détaillée du processus de recuit dans la fabrication des semi-conducteurs, de ses types, de ses paramètres clés et de ses applications.

Lire la suite
Comparaison des procédés courants de recuit des semi-conducteurs

Comparaison des procédés courants de recuit des semi-conducteurs

Aperçu des différentes méthodes de recuit des semi-conducteurs et de leurs caractéristiques.

Lire la suite
Vue d'ensemble des équipements de traitement thermique couramment utilisés

Vue d'ensemble des équipements de traitement thermique couramment utilisés

Cet article traite des différents équipements de traitement thermique, de leur classification, de leur structure et de leurs applications.

Lire la suite
Points de bon sens pour le traitement thermique sous vide

Points de bon sens pour le traitement thermique sous vide

Considérations et pratiques clés dans les processus de traitement thermique sous vide.

Lire la suite
Introduction à la fusion par induction sous vide : Principes, processus et applications

Introduction à la fusion par induction sous vide : Principes, processus et applications

Une vue d'ensemble de la fusion par induction sous vide, de ses avantages, de ses applications et de la structure de l'équipement.

Lire la suite
Choisir le bon thermocouple pour les procédés de traitement thermique

Choisir le bon thermocouple pour les procédés de traitement thermique

Un guide pour sélectionner le thermocouple approprié pour les procédés de traitement thermique en fonction des normes et des exigences d'application.

Lire la suite
Progrès dans la technologie de la cémentation : Cémentation conventionnelle et cémentation sous vide à basse pression

Progrès dans la technologie de la cémentation : Cémentation conventionnelle et cémentation sous vide à basse pression

Cet article compare la cémentation conventionnelle et la cémentation sous vide à basse pression, en soulignant leurs différences et leurs avantages.

Lire la suite

Téléchargements

Catalogue de Four Tubulaire

Télécharger

Catalogue de Four Tubulaire

Télécharger

Catalogue de Four Cvd

Télécharger

Mots-clés populaires