Four tubulaire
Four tubulaire multizone
Numéro d'article : KT-MTF
Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations
- Max. température
- 1700 ℃
- Température de travail constante
- 1650 ℃
- Diamètre du tube du four
- 30 / 40 / 60 / 80 / 100 / 150 / 230mm
- Longueur de la zone de chauffage
- 300 / 450 / 600 / 800mm
- Quantité de zone de chauffage
- 1-10 zones
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Pour obtenir un champ de chauffage contrôlé et varié à gradient de température élevé ou un champ de chauffage constant de qualité supérieure, le four tubulaire multizone est le choix idéal pour cette exigence exigeante.
Chaque zone de chauffage du four tubulaire multizone est contrôlée indépendamment, il y a un capteur de température pour chaque zone de chauffage, de sorte que l'opérateur peut régler une température différente pour chaque zone de chauffage, de sorte qu'un champ thermique à gradient de température élevé sera créé, le chercheur peut continuer les tests et analyses thermiques avec une plus grande efficacité et sans perte de temps.
Caractéristiques
- Conception unique de zone de chauffage individuelle, garantissant les performances de chauffage pour chaque zone de chauffage indépendante
- Conception à double coque de four, flux d'air forcé entre la coque intérieure et extérieure, de manière à maintenir une basse température de la surface du four
- Contrôle de température programmable PID, excellente précision de contrôle et performances de chauffage stables, prise en charge de la télécommande et du contrôle centralisé
- Bride de vide en acier inoxydable avec divers orifices d'adaptation pour répondre aux différentes configurations de station de pompe à vide, bonne étanchéité et haute pression de vide
- TFM Pro applique un contrôleur à écran tactile TFT de 7 pouces, un réglage de programme plus convivial et une analyse des données d'historique, différentes recettes de programme peuvent être enregistrées et sélectionnées
Avantage de sécurité
- Le four tubulaire Kindle Tech possède une protection contre les surintensités et une fonction d'alarme de surchauffe, le four s'éteindra automatiquement une fois la surintensité détectée
- Four construit dans la fonction de détection de couple thermique, le four s'arrêtera de chauffer et l'alarme sera activée une fois le couple thermique rompu ou une panne détectée
- TFM Pro prend en charge la fonction de redémarrage en cas de panne de courant, le four reprendra le programme de chauffage du four lorsque le courant arrive après une panne
Spécifications techniques
| Modèle de four | KT-MTF | KT-MTF Pro |
| Contrôleur de température | Régulateur PID numérique | Contrôleur PID à écran tactile |
| Préréglage multi-programmes | Non | Oui |
| Panne de courant redémarrant | Non | Oui |
| Max. température | 1700℃ | |
| Température de travail constante | 1650℃ | |
| Matériau du tube du four | Quartz de haute qualité/alumine Al2O3 | |
| Diamètre du tube du four | 30 / 40 / 60 / 80 / 100 / 150 / 230mm | |
| Longueur de la zone de chauffage | 300 / 450 / 600 / 800 mm | |
| Quantité de zone de chauffage | 1-10 zones | |
| Solution d'étanchéité sous vide | Bride SS 304 avec joint torique | |
| Pression de vide nominale | 0.001Pa/10E5 torrs | |
| Pression positive nominale | 0.02Mpa/150 torrs | |
| Matériau de la chambre | Fibre d'alumine du Japon Al2O3 | |
| Élément chauffant | Bobine de fil Cr2Al2Mo2 | |
| Couple thermique | Type K/S/B | |
| Précision du contrôle de la température | ±1℃ | |
| Uniformité de la température | ±5℃ | |
| Alimentation électrique | AC110-220V, 50/60HZ | |
| D'autres tailles de tube d'alumine Al2O3 et longueur de zone de chauffage peuvent être personnalisées | ||
Forfait standard
| Non. | Description | Quantité |
| 1 | fourneau | 1 |
| 2 | Tube d'alumine | 1 |
| 3 | Bride de vide | 2 |
| 4 | Bloc thermique du tube | 2 |
| 5 | Crochet de bloc thermique de tube | 1 |
| 6 | Gant résistant à la chaleur | 1 |
| 7 | Mode d'emploi | 1 |
Configuration facultative
- Dans la détection et la surveillance des gaz à tube, comme H2, O2, etc.
- Surveillance et enregistrement indépendants de la température du four
- Port de communication RS 485 pour télécommande PC et exportation de données
- Insérez le contrôle du débit d'alimentation en gaz, comme le débitmètre massique et le débitmètre à flotteur
- Régulateur de température à écran tactile avec fonctions polyvalentes conviviales pour l'opérateur
- Configurations de stations de pompage à vide élevé, comme la pompe à vide à palettes, la pompe moléculaire, la pompe à diffusion
Avertissements
La sécurité des opérateurs est la question la plus importante ! Veuillez faire fonctionner l'équipement avec des précautions. Travailler avec des gaz inflammables, explosifs ou toxiques est très dangereux, les opérateurs doivent prendre toutes les précautions nécessaires avant de démarrer le équipement. Travailler en pression positive à l’intérieur des réacteurs ou des chambres est dangereux, l'opérateur doit suivre strictement les procédures de sécurité. Supplémentaire des précautions doivent également être prises lors de l'utilisation de matériaux réactifs à l'air, surtout sous vide. Une fuite peut aspirer de l'air dans l'appareil et provoquer un une réaction violente se produit.
Conçu pour vous
KinTek fournit un service et des équipements sur mesure aux clients du monde entier, notre travail d'équipe spécialisé et nos riches ingénieurs expérimentés sont capables de entreprendre les exigences en matière d'équipement matériel et logiciel sur mesure, et aider notre client à constituer l'équipement exclusif et personnalisé et solution!
FAQ
Qu'est-ce Qu'un Four Tubulaire ?
Le four tubulaire de laboratoire est un four tubulaire à haute température de chauffage externe classique, également appelé four de chauffage à paroi chaude.
Selon la température de travail différente, le matériau du tube de four peut généralement être des tubes de quartz transparents, des tubes en céramique d'alumine de haute pureté et des tubes en alliage métallique à haute résistance.
Pour répondre à différents objectifs de recherche thermique, le four tubulaire peut être conçu avec plusieurs zones de chauffage, de manière à avoir un contrôle flexible du gradient de température dans la chambre de travail du tube ; le tube de four peut fonctionner avec un environnement de travail à atmosphère contrôlée ou un environnement de travail sous vide poussé.
Qu'est-ce Qu'un Four CVD ?
Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est une technologie qui utilise diverses sources d'énergie telles que le chauffage, l'excitation du plasma ou le rayonnement lumineux pour faire réagir chimiquement des substances chimiques gazeuses ou en phase vapeur sur la phase gazeuse ou l'interface gaz-solide pour former des dépôts solides dans le réacteur au moyen de réaction chimique. Pour le dire simplement, deux ou plusieurs matières premières gazeuses sont introduites dans une chambre de réaction, puis elles réagissent l'une avec l'autre pour former un nouveau matériau et le déposer sur la surface du substrat.
Le four CVD est un système de four combiné avec une unité de four tubulaire à haute température, une unité de contrôle des gaz et une unité de vide, il est largement utilisé pour l'expérimentation et la production de préparation de matériaux composites, de processus microélectronique, d'optoélectronique semi-conducteur, d'utilisation de l'énergie solaire, de communication par fibre optique, supraconducteur technologie, domaine des revêtements de protection.
Comment Fonctionne Un Four Tubulaire ?
Les éléments chauffants du four tubulaire sont placés autour de la cavité cylindrique, le four ne peut chauffer les échantillons dans la cavité cylindrique que par rayonnement thermique indirect, car le tube du four peut empêcher le matériau de l'échantillon d'entrer en contact avec les éléments chauffants du four et les matériaux d'isolation, de sorte que le four tubulaire crée un propre isolé chauffer la chambre et réduire les risques de contamination de l'échantillon par le four.
Comment Fonctionne Le Four CVD ?
Le système de four CVD se compose d'une unité de four tubulaire à haute température, d'une unité de contrôle précise de la source de gaz réactif, d'une station de pompe à vide et des pièces d'assemblage correspondantes.
La pompe à vide consiste à éliminer l'air du tube de réaction et à s'assurer qu'il n'y a pas de gaz indésirables à l'intérieur du tube de réaction, après quoi le four tubulaire chauffera le tube de réaction à une température cible, puis l'unité de contrôle précise de la source de gaz de réaction peut introduire différents gaz avec un rapport défini dans le tube du four pour la réaction chimique, le dépôt chimique en phase vapeur sera formé dans le four CVD.
Quelle Est L'application Pour Le Four Tubulaire?
Le four tubulaire est principalement utilisé dans la métallurgie, le verre, le traitement thermique, les matériaux d'anode et de cathode au lithium, les nouvelles énergies, les abrasifs et d'autres industries, et est un équipement professionnel pour mesurer les matériaux dans certaines conditions de température.
Le four tubulaire présente une structure simple, une opération facile, un contrôle facile et une production continue.
Le four tubulaire est également largement appliqué dans les systèmes CVD (dépôt chimique en phase vapeur) et CVD amélioré par plasma.
Quel Gaz Est Utilisé Dans Le Procédé CVD ?
Il existe d'énormes sources de gaz pouvant être utilisées dans le processus CVD, les réactions chimiques courantes de CVD comprennent la pyrolyse, la photolyse, la réduction, l'oxydation, le redox, de sorte que les gaz impliqués dans ces réactions chimiques peuvent être utilisés dans le processus CVD.
Nous prenons la croissance du graphène CVD par exemple, les gaz utilisés dans le processus CVD seront CH4, H2, O2 et N2.
Combien De Différents Types De Four Tubulaire?
Le four tubulaire peut fonctionner avec différentes fonctions mécaniques en douceur, il existe donc de nombreux types de variantes de four tubulaire à différentes fins d'expérimentation, les fours à four typiques sont les suivants :
- Four tubulaire horizontal
- Four tubulaire vertical
- Four tubulaire fendu
- Four tubulaire rotatif
- Four tubulaire basculant
- Four tubulaire coulissant
- Four tubulaire à chauffage et refroidissement rapides
- Four tubulaire à alimentation et décharge continue
Quel Est L'avantage Du Système CVD ?
- Une large gamme de films peut être produite, film métallique, film non métallique et film d'alliage multi-composants selon les besoins. En même temps, il peut préparer des cristaux de haute qualité difficiles à obtenir par d'autres méthodes, telles que GaN, BP, etc.
- La vitesse de formation du film est rapide, généralement plusieurs microns par minute voire des centaines de microns par minute. Il est possible de déposer simultanément de grandes quantités de revêtements avec une composition uniforme, ce qui est incomparable aux autres méthodes de préparation de film, telles que l'épitaxie en phase liquide (LPE) et l'épitaxie par jet moléculaire (MBE).
- Les conditions de travail sont réalisées dans des conditions de pression normale ou de vide faible, de sorte que le revêtement a une bonne diffraction et que les pièces aux formes complexes peuvent être uniformément revêtues, ce qui est bien supérieur au PVD.
- En raison de la diffusion mutuelle du gaz de réaction, du produit de réaction et du substrat, un revêtement avec une bonne force d'adhérence peut être obtenu, ce qui est crucial pour la préparation de films renforcés en surface tels que des films résistants à l'usure et anti-corrosion.
- Certains films se développent à une température bien inférieure au point de fusion du matériau du film. Dans des conditions de croissance à basse température, le gaz de réaction et la paroi du réacteur et les impuretés qu'ils contiennent ne réagissent presque pas, de sorte qu'un film de haute pureté et de bonne cristallinité peut être obtenu.
- Le dépôt chimique en phase vapeur permet d'obtenir une surface de dépôt lisse. En effet, par rapport au LPE, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est effectué sous une saturation élevée, avec un taux de nucléation élevé, une densité de nucléation élevée et une distribution uniforme sur tout le plan, ce qui donne une surface lisse macroscopique. Dans le même temps, dans le dépôt chimique en phase vapeur, le libre parcours moyen des molécules (atomes) est beaucoup plus grand que le LPE, de sorte que la distribution spatiale des molécules est plus uniforme, ce qui favorise la formation d'une surface de dépôt lisse.
- Faibles dommages causés par les radiations, condition nécessaire à la fabrication de semi-conducteurs à oxyde métallique (MOS) et d'autres dispositifs
Que Signifie PECVD ?
Le PECVD est une technologie qui utilise le plasma pour activer le gaz de réaction, favoriser la réaction chimique à la surface du substrat ou près de l'espace de surface et générer un film solide. Le principe de base de la technologie de dépôt chimique en phase vapeur par plasma est que, sous l'action d'un champ électrique RF ou CC, le gaz source est ionisé pour former un plasma, le plasma à basse température est utilisé comme source d'énergie, une quantité appropriée de gaz de réaction est introduit, et la décharge de plasma est utilisée pour activer le gaz de réaction et réaliser le dépôt chimique en phase vapeur.
Selon la méthode de génération de plasma, il peut être divisé en plasma RF, plasma DC et plasma micro-ondes CVD, etc.
Quelle Est La Différence Entre CVD Et PECVD ?
La différence entre la technologie PECVD et la technologie CVD traditionnelle est que le plasma contient un grand nombre d'électrons à haute énergie, qui peuvent fournir l'énergie d'activation requise dans le processus de dépôt chimique en phase vapeur, modifiant ainsi le mode d'alimentation en énergie du système de réaction. Étant donné que la température des électrons dans le plasma est aussi élevée que 10000K, la collision entre les électrons et les molécules de gaz peut favoriser la rupture de la liaison chimique et la recombinaison des molécules de gaz de réaction pour générer des groupes chimiques plus actifs, tandis que l'ensemble du système de réaction maintient une température plus basse.
Ainsi, par rapport au processus CVD, le PECVD peut effectuer le même processus de dépôt chimique en phase vapeur avec une température plus basse.
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