Four de graphitisation
Four de graphitation sous vide à ultra-haute température au graphite
Numéro d'article : GF-09
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Introduction
Le four de graphitation à ultra-haute température utilise le chauffage par induction à moyenne fréquence dans un environnement sous vide ou sous gaz inerte. La bobine d'induction génère un champ magnétique alternatif, induisant des courants de Foucault dans le creuset en graphite, qui chauffe et rayonne de la chaleur sur la pièce, l'amenant à la température souhaitée. Ce four est principalement utilisé pour la graphitation et le frittage de matériaux carbonés, de matériaux en fibre de carbone et d'autres matériaux composites. Il comprend un corps de four, un couvercle, un capteur de chauffage, une couche d'isolation, un dispositif d'extraction d'électrode, un système de distribution de circulation d'eau, un système de vide, un système de contrôle de température, etc. Le système électrique comprend une alimentation à moyenne fréquence à transistor IGBT de 60KVA et un câble refroidi par eau, équipé de divers instruments indicateurs et fonctions d'alarme. La partie commande utilise un écran tactile de 15 pouces et un automate programmable PLC.
Détails & Pièce
Applications
Le four de graphitation à ultra-haute température trouve des applications dans un large éventail d'industries, notamment :
- Cuisson de céramique
- Croissance de carbure
- Carbonisation
- Graphitation
- Frittage
- Recuit
- Brasage
- Dégazage
Caractéristiques
Le four de graphitation à ultra-haute température offre une gamme de caractéristiques avancées qui procurent des avantages significatifs aux utilisateurs :
- Capacité de haute température : Le four peut atteindre des températures allant jusqu'à 2200°C, ce qui le rend adapté à un large éventail d'applications à haute température.
- Haute efficacité : Le four à base de graphite est extrêmement efficace, ce qui entraîne une consommation d'énergie réduite et des temps de chauffage plus rapides.
- Chauffage uniforme : La conception du four assure un chauffage uniforme dans toute la chambre, fournissant des résultats constants.
- Environnement sous vide ou sous gaz inerte : Le four peut être utilisé dans un environnement sous vide ou sous gaz inerte, permettant un contrôle précis de l'atmosphère entourant la pièce.
- Système de contrôle intelligent : Le four est équipé d'un écran tactile avancé et d'un automate programmable pour un contrôle et une surveillance précis de la température.
- Fonctions de sécurité : Le four comprend des alarmes sonores et visuelles pour surtension, surintensité et coupure d'eau, garantissant un fonctionnement sûr.
Principe
Le four de graphitation à ultra-haute température fonctionne selon le principe du chauffage par induction à moyenne fréquence. La bobine d'induction génère un champ magnétique alternatif, induisant des courants de Foucault dans le creuset en graphite. Cela génère des températures élevées qui rayonnent sur la pièce, l'amenant à la température souhaitée. Ce four est utilisé pour la graphitation et le frittage de matériaux carbonés, de matériaux en fibre de carbone et de matériaux composites.
Avantages
- Haute température : Le four de graphitation à ultra-haute température peut atteindre une température de 2500°C, ce qui convient à une variété d'applications de traitement à haute température et de graphitation.
- Haute efficacité : Le four de graphitation à ultra-haute température utilise le principe du chauffage par induction à moyenne fréquence, qui présente les avantages d'une haute efficacité et d'un chauffage uniforme.
- Chauffage uniforme : Le four de graphitation à ultra-haute température utilise un creuset en graphite pour générer une haute température et rayonner sur la pièce, ce qui permet d'obtenir un chauffage uniforme de la pièce.
- Large application : Le four de graphitation à ultra-haute température convient à la graphitation et au frittage de matériaux carbonés, de matériaux en fibre de carbone et d'autres matériaux composites.
- Facile à utiliser : Le four de graphitation à ultra-haute température est contrôlé par un écran tactile de 15 pouces et un automate programmable PLC, ce qui le rend facile à utiliser.
- Sûr et fiable : Le four de graphitation à ultra-haute température dispose de fonctions d'alarme sonore et visuelle telles que la surtension, la surintensité et la coupure d'eau, ce qui est sûr et fiable.
Spécifications techniques
| Capacité d'alimentation | 60KVA |
| Alimentation | 4000～8000Hz (suivi automatique) |
| Température | 3000℃ |
| Précision du contrôle de température | ±2℃ |
| Méthode de mesure de température | 1100℃～3000℃ |
| Taille de la zone de travail effective | Φ200×200 mm (diamètre×hauteur) |
| Vide final froid | 133Pa |
| Augmentation de pression | 3.0 Pa/h |
| Atmosphère protectrice | Argon Azote |
| Pression d'inflation | ≤ 0.03MPa |
| Méthode d'entrée et de sortie des matériaux | Chargement et déchargement par le haut |
| Conditions de chauffage | Frittage sous atmosphère (gaz inerte) |
Fait Confiance par les Leaders de l'Industrie
FAQ
Qu'est-ce Qu'un Four De Graphitisation ?
What Is A Graphite Vacuum Furnace Used For?
Qu'est-ce Qu'un Four CVD ?
Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est une technologie qui utilise diverses sources d'énergie telles que le chauffage, l'excitation du plasma ou le rayonnement lumineux pour faire réagir chimiquement des substances chimiques gazeuses ou en phase vapeur sur la phase gazeuse ou l'interface gaz-solide pour former des dépôts solides dans le réacteur au moyen de réaction chimique. Pour le dire simplement, deux ou plusieurs matières premières gazeuses sont introduites dans une chambre de réaction, puis elles réagissent l'une avec l'autre pour former un nouveau matériau et le déposer sur la surface du substrat.
Le four CVD est un système de four combiné avec une unité de four tubulaire à haute température, une unité de contrôle des gaz et une unité de vide, il est largement utilisé pour l'expérimentation et la production de préparation de matériaux composites, de processus microélectronique, d'optoélectronique semi-conducteur, d'utilisation de l'énergie solaire, de communication par fibre optique, supraconducteur technologie, domaine des revêtements de protection.
Quel Est Le Principe De Fonctionnement D’un Four De Graphitisation à Ultra Haute Température ?
Quels Sont Les Principaux Composants D’un Four De Graphitisation à Ultra Haute Température ?
Comment Entretenir Un Four De Graphitisation à Ultra Haute Température ?
Quelles Sont Les Principales Applications Des Fours De Graphitisation ?
What Are The Main Types Of Graphite Vacuum Furnaces?
Comment Fonctionne Le Four CVD ?
Le système de four CVD se compose d'une unité de four tubulaire à haute température, d'une unité de contrôle précise de la source de gaz réactif, d'une station de pompe à vide et des pièces d'assemblage correspondantes.
La pompe à vide consiste à éliminer l'air du tube de réaction et à s'assurer qu'il n'y a pas de gaz indésirables à l'intérieur du tube de réaction, après quoi le four tubulaire chauffera le tube de réaction à une température cible, puis l'unité de contrôle précise de la source de gaz de réaction peut introduire différents gaz avec un rapport défini dans le tube du four pour la réaction chimique, le dépôt chimique en phase vapeur sera formé dans le four CVD.
Quels Sont Les Différents Types De Fours De Graphitisation ?
How Does A Graphite Vacuum Furnace Work?
Quel Gaz Est Utilisé Dans Le Procédé CVD ?
Il existe d'énormes sources de gaz pouvant être utilisées dans le processus CVD, les réactions chimiques courantes de CVD comprennent la pyrolyse, la photolyse, la réduction, l'oxydation, le redox, de sorte que les gaz impliqués dans ces réactions chimiques peuvent être utilisés dans le processus CVD.
Nous prenons la croissance du graphène CVD par exemple, les gaz utilisés dans le processus CVD seront CH4, H2, O2 et N2.
Comment Fonctionne Un Four De Graphitisation ?
What Are The Advantages Of Using A Graphite Vacuum Furnace?
Quel Est L'avantage Du Système CVD ?
- Une large gamme de films peut être produite, film métallique, film non métallique et film d'alliage multi-composants selon les besoins. En même temps, il peut préparer des cristaux de haute qualité difficiles à obtenir par d'autres méthodes, telles que GaN, BP, etc.
- La vitesse de formation du film est rapide, généralement plusieurs microns par minute voire des centaines de microns par minute. Il est possible de déposer simultanément de grandes quantités de revêtements avec une composition uniforme, ce qui est incomparable aux autres méthodes de préparation de film, telles que l'épitaxie en phase liquide (LPE) et l'épitaxie par jet moléculaire (MBE).
- Les conditions de travail sont réalisées dans des conditions de pression normale ou de vide faible, de sorte que le revêtement a une bonne diffraction et que les pièces aux formes complexes peuvent être uniformément revêtues, ce qui est bien supérieur au PVD.
- En raison de la diffusion mutuelle du gaz de réaction, du produit de réaction et du substrat, un revêtement avec une bonne force d'adhérence peut être obtenu, ce qui est crucial pour la préparation de films renforcés en surface tels que des films résistants à l'usure et anti-corrosion.
- Certains films se développent à une température bien inférieure au point de fusion du matériau du film. Dans des conditions de croissance à basse température, le gaz de réaction et la paroi du réacteur et les impuretés qu'ils contiennent ne réagissent presque pas, de sorte qu'un film de haute pureté et de bonne cristallinité peut être obtenu.
- Le dépôt chimique en phase vapeur permet d'obtenir une surface de dépôt lisse. En effet, par rapport au LPE, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est effectué sous une saturation élevée, avec un taux de nucléation élevé, une densité de nucléation élevée et une distribution uniforme sur tout le plan, ce qui donne une surface lisse macroscopique. Dans le même temps, dans le dépôt chimique en phase vapeur, le libre parcours moyen des molécules (atomes) est beaucoup plus grand que le LPE, de sorte que la distribution spatiale des molécules est plus uniforme, ce qui favorise la formation d'une surface de dépôt lisse.
- Faibles dommages causés par les radiations, condition nécessaire à la fabrication de semi-conducteurs à oxyde métallique (MOS) et d'autres dispositifs
Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'un Four De Graphitisation ?
What Temperature Range Can A Graphite Vacuum Furnace Achieve?
Que Signifie PECVD ?
Le PECVD est une technologie qui utilise le plasma pour activer le gaz de réaction, favoriser la réaction chimique à la surface du substrat ou près de l'espace de surface et générer un film solide. Le principe de base de la technologie de dépôt chimique en phase vapeur par plasma est que, sous l'action d'un champ électrique RF ou CC, le gaz source est ionisé pour former un plasma, le plasma à basse température est utilisé comme source d'énergie, une quantité appropriée de gaz de réaction est introduit, et la décharge de plasma est utilisée pour activer le gaz de réaction et réaliser le dépôt chimique en phase vapeur.
Selon la méthode de génération de plasma, il peut être divisé en plasma RF, plasma DC et plasma micro-ondes CVD, etc.
What Industries Benefit From Graphite Vacuum Furnaces?
Quelle Est La Différence Entre CVD Et PECVD ?
La différence entre la technologie PECVD et la technologie CVD traditionnelle est que le plasma contient un grand nombre d'électrons à haute énergie, qui peuvent fournir l'énergie d'activation requise dans le processus de dépôt chimique en phase vapeur, modifiant ainsi le mode d'alimentation en énergie du système de réaction. Étant donné que la température des électrons dans le plasma est aussi élevée que 10000K, la collision entre les électrons et les molécules de gaz peut favoriser la rupture de la liaison chimique et la recombinaison des molécules de gaz de réaction pour générer des groupes chimiques plus actifs, tandis que l'ensemble du système de réaction maintient une température plus basse.
Ainsi, par rapport au processus CVD, le PECVD peut effectuer le même processus de dépôt chimique en phase vapeur avec une température plus basse.
Fiche Technique du Produit
Four de graphitation sous vide à ultra-haute température au graphite
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