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Four de graphitisation
Four de graphitisation à ultra haute température
Numéro d'article : GF-09
Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations
- Caractéristiques
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Le four de graphitisation à ultra haute température utilise un chauffage par induction à moyenne fréquence dans un environnement sous vide ou sous gaz inerte. La bobine d'induction génère un champ magnétique alternatif, induisant des courants de Foucault dans le creuset en graphite, qui chauffe et rayonne de la chaleur vers la pièce, l'amenant à la température souhaitée. Ce four est principalement utilisé pour la graphitisation et le frittage de matériaux carbonés, de matériaux en fibre de carbone et d'autres matériaux composites. Il comprend un corps de four, un couvercle, un capteur de chauffage, une couche isolante, un dispositif d'extraction d'électrodes, un système de distribution de circulation d'eau, un système de vide, un système de contrôle de température, etc. Le système électrique comprend une alimentation à fréquence intermédiaire à transistor IGBT de 60 KVA et un câble refroidi à l'eau, équipé de divers instruments indicateurs et fonctions d'alarme. La partie commande utilise un écran tactile de 15 pouces et un automate programmable.
Détails et pièce
Applications
Le four de graphitisation à ultra haute température trouve des applications dans un large éventail d'industries, notamment :
- Cuisson de la céramique
- Croissance du carbure
- Carbonisation
- Graphitisation
- Frittage
- Recuit
- Brasage
- Dégazage
Caractéristiques
Le four de graphitisation à ultra haute température offre une gamme de fonctionnalités avancées qui offrent des avantages significatifs aux utilisateurs :
- Capacité à haute température : le four peut atteindre des températures allant jusqu'à 2 200 °C, ce qui le rend adapté à une large gamme d'applications à haute température.
- Haute efficacité : le four à base de graphite est extrêmement efficace, ce qui entraîne une consommation d'énergie réduite et des temps de chauffage plus rapides.
- Chauffage uniforme : la conception du four assure un chauffage uniforme dans toute la chambre, fournissant des résultats cohérents.
- Environnement sous vide ou sous gaz inerte : Le four peut fonctionner dans un environnement sous vide ou sous gaz inerte, permettant un contrôle précis de l'atmosphère entourant la pièce.
- Système de contrôle intelligent : le four est équipé d'un écran tactile avancé et d'un contrôleur programmable pour un contrôle et une surveillance précis de la température.
- Caractéristiques de sécurité : La fournaise comprend des alarmes sonores et visuelles en cas de surtension, de surintensité et de coupure d'eau, garantissant un fonctionnement sûr.
Principe
Le four de graphitisation à ultra haute température fonctionne sur le principe du chauffage par induction à moyenne fréquence. La bobine d'induction génère un champ magnétique alternatif, induisant des courants de Foucault dans le creuset en graphite. Cela génère des températures élevées qui rayonnent vers la pièce, l'amenant à la température souhaitée. Ce four est utilisé pour la graphitisation et le frittage de matériaux carbonés, de matériaux en fibre de carbone et de matériaux composites.
Avantages
- Haute température : le four de graphitisation à ultra haute température peut atteindre une température de 2 500 °C, ce qui convient à une variété d'applications de traitement à haute température et de traitement de graphitisation.
- Haute efficacité : le four de graphitisation à ultra haute température utilise le principe du chauffage par induction à moyenne fréquence, qui présente les avantages d'un rendement élevé et d'un chauffage uniforme.
- Chauffage uniforme : le four de graphitisation à ultra haute température utilise un creuset en graphite pour générer une température élevée et rayonne vers la pièce, ce qui permet d'obtenir un chauffage uniforme de la pièce.
- Large application : le four de graphitisation à ultra haute température convient à la graphitisation et au frittage de matériaux en carbone, de matériaux en fibre de carbone et d'autres matériaux composites.
- Facile à utiliser : le four de graphitisation à ultra haute température est contrôlé par un écran tactile de 15 pouces et un contrôleur programmable PLC, facile à utiliser.
- Sûr et fiable : le four de graphitisation à ultra haute température dispose de fonctions d'alarme sonore et visuelle telles que la surtension, la surintensité et la coupure d'eau, qui sont sûres et fiables.
Spécifications techniques
Capacité d'alimentation | 60KVA |
Source de courant | 4 000 ~ 8 000 Hz (suivi automatique) |
Température | 3000℃ |
Précision du contrôle de la température | ±2℃ |
Méthode de mesure de la température | 1100 ℃ ~ 3000 ℃ |
Taille effective de la zone de travail | Φ200×200 mm (diamètre×hauteur) |
Degré de vide limite à froid | 133Pa |
Augmentation de la pression | 3,0 Pa/h |
Atmosphère protectrice | Argon Azote |
Pression de gonflage | ≤ 0,03MPa |
Méthode d'entrée et de sortie du matériau | Chargement et déchargement par le haut |
Conditions de chauffage | Frittage sous atmosphère (gaz inerte) |
FAQ
Qu'est-ce Qu'un Four De Graphitisation ?
What Is A Graphite Vacuum Furnace Used For?
Qu'est-ce Qu'un Four CVD ?
Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est une technologie qui utilise diverses sources d'énergie telles que le chauffage, l'excitation du plasma ou le rayonnement lumineux pour faire réagir chimiquement des substances chimiques gazeuses ou en phase vapeur sur la phase gazeuse ou l'interface gaz-solide pour former des dépôts solides dans le réacteur au moyen de réaction chimique. Pour le dire simplement, deux ou plusieurs matières premières gazeuses sont introduites dans une chambre de réaction, puis elles réagissent l'une avec l'autre pour former un nouveau matériau et le déposer sur la surface du substrat.
Le four CVD est un système de four combiné avec une unité de four tubulaire à haute température, une unité de contrôle des gaz et une unité de vide, il est largement utilisé pour l'expérimentation et la production de préparation de matériaux composites, de processus microélectronique, d'optoélectronique semi-conducteur, d'utilisation de l'énergie solaire, de communication par fibre optique, supraconducteur technologie, domaine des revêtements de protection.
Quel Est Le Principe De Fonctionnement D’un Four De Graphitisation à Ultra Haute Température ?
Quels Sont Les Principaux Composants D’un Four De Graphitisation à Ultra Haute Température ?
Comment Entretenir Un Four De Graphitisation à Ultra Haute Température ?
Quelles Sont Les Principales Applications Des Fours De Graphitisation ?
What Are The Main Types Of Graphite Vacuum Furnaces?
Comment Fonctionne Le Four CVD ?
Le système de four CVD se compose d'une unité de four tubulaire à haute température, d'une unité de contrôle précise de la source de gaz réactif, d'une station de pompe à vide et des pièces d'assemblage correspondantes.
La pompe à vide consiste à éliminer l'air du tube de réaction et à s'assurer qu'il n'y a pas de gaz indésirables à l'intérieur du tube de réaction, après quoi le four tubulaire chauffera le tube de réaction à une température cible, puis l'unité de contrôle précise de la source de gaz de réaction peut introduire différents gaz avec un rapport défini dans le tube du four pour la réaction chimique, le dépôt chimique en phase vapeur sera formé dans le four CVD.
Quels Sont Les Différents Types De Fours De Graphitisation ?
How Does A Graphite Vacuum Furnace Work?
Quel Gaz Est Utilisé Dans Le Procédé CVD ?
Il existe d'énormes sources de gaz pouvant être utilisées dans le processus CVD, les réactions chimiques courantes de CVD comprennent la pyrolyse, la photolyse, la réduction, l'oxydation, le redox, de sorte que les gaz impliqués dans ces réactions chimiques peuvent être utilisés dans le processus CVD.
Nous prenons la croissance du graphène CVD par exemple, les gaz utilisés dans le processus CVD seront CH4, H2, O2 et N2.
Comment Fonctionne Un Four De Graphitisation ?
What Are The Advantages Of Using A Graphite Vacuum Furnace?
Quel Est L'avantage Du Système CVD ?
- Une large gamme de films peut être produite, film métallique, film non métallique et film d'alliage multi-composants selon les besoins. En même temps, il peut préparer des cristaux de haute qualité difficiles à obtenir par d'autres méthodes, telles que GaN, BP, etc.
- La vitesse de formation du film est rapide, généralement plusieurs microns par minute voire des centaines de microns par minute. Il est possible de déposer simultanément de grandes quantités de revêtements avec une composition uniforme, ce qui est incomparable aux autres méthodes de préparation de film, telles que l'épitaxie en phase liquide (LPE) et l'épitaxie par jet moléculaire (MBE).
- Les conditions de travail sont réalisées dans des conditions de pression normale ou de vide faible, de sorte que le revêtement a une bonne diffraction et que les pièces aux formes complexes peuvent être uniformément revêtues, ce qui est bien supérieur au PVD.
- En raison de la diffusion mutuelle du gaz de réaction, du produit de réaction et du substrat, un revêtement avec une bonne force d'adhérence peut être obtenu, ce qui est crucial pour la préparation de films renforcés en surface tels que des films résistants à l'usure et anti-corrosion.
- Certains films se développent à une température bien inférieure au point de fusion du matériau du film. Dans des conditions de croissance à basse température, le gaz de réaction et la paroi du réacteur et les impuretés qu'ils contiennent ne réagissent presque pas, de sorte qu'un film de haute pureté et de bonne cristallinité peut être obtenu.
- Le dépôt chimique en phase vapeur permet d'obtenir une surface de dépôt lisse. En effet, par rapport au LPE, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est effectué sous une saturation élevée, avec un taux de nucléation élevé, une densité de nucléation élevée et une distribution uniforme sur tout le plan, ce qui donne une surface lisse macroscopique. Dans le même temps, dans le dépôt chimique en phase vapeur, le libre parcours moyen des molécules (atomes) est beaucoup plus grand que le LPE, de sorte que la distribution spatiale des molécules est plus uniforme, ce qui favorise la formation d'une surface de dépôt lisse.
- Faibles dommages causés par les radiations, condition nécessaire à la fabrication de semi-conducteurs à oxyde métallique (MOS) et d'autres dispositifs
Quels Sont Les Avantages De L'utilisation D'un Four De Graphitisation ?
What Temperature Range Can A Graphite Vacuum Furnace Achieve?
Que Signifie PECVD ?
Le PECVD est une technologie qui utilise le plasma pour activer le gaz de réaction, favoriser la réaction chimique à la surface du substrat ou près de l'espace de surface et générer un film solide. Le principe de base de la technologie de dépôt chimique en phase vapeur par plasma est que, sous l'action d'un champ électrique RF ou CC, le gaz source est ionisé pour former un plasma, le plasma à basse température est utilisé comme source d'énergie, une quantité appropriée de gaz de réaction est introduit, et la décharge de plasma est utilisée pour activer le gaz de réaction et réaliser le dépôt chimique en phase vapeur.
Selon la méthode de génération de plasma, il peut être divisé en plasma RF, plasma DC et plasma micro-ondes CVD, etc.
What Industries Benefit From Graphite Vacuum Furnaces?
Quelle Est La Différence Entre CVD Et PECVD ?
La différence entre la technologie PECVD et la technologie CVD traditionnelle est que le plasma contient un grand nombre d'électrons à haute énergie, qui peuvent fournir l'énergie d'activation requise dans le processus de dépôt chimique en phase vapeur, modifiant ainsi le mode d'alimentation en énergie du système de réaction. Étant donné que la température des électrons dans le plasma est aussi élevée que 10000K, la collision entre les électrons et les molécules de gaz peut favoriser la rupture de la liaison chimique et la recombinaison des molécules de gaz de réaction pour générer des groupes chimiques plus actifs, tandis que l'ensemble du système de réaction maintient une température plus basse.
Ainsi, par rapport au processus CVD, le PECVD peut effectuer le même processus de dépôt chimique en phase vapeur avec une température plus basse.
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The furnace is very efficient and has uniform heating, which greatly improves our work efficiency.
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The furnace is easy to operate and can be controlled by a touch screen, which is very convenient.
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The furnace is very safe and reliable, with audible and visual alarm functions, which gives me a sense of security.
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The furnace has a wide range of applications and can be used for graphitization and sintering of various materials.
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The furnace is very durable and has a long service life, which saves us a lot of maintenance costs.
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The furnace is very economical and has a high cost performance, which is very suitable for our laboratory.
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The delivery speed of the furnace is very fast, and it can be delivered to our laboratory in a short time.
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The furnace is very valuable for money, and its price is very reasonable.
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PDF - Four de graphitisation à ultra haute température
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Four vertical de graphitisation à haute température
Four vertical de graphitisation à haute température pour la carbonisation et la graphitisation de matériaux carbonés jusqu'à 3 100 ℃. Convient à la graphitisation façonnée de filaments de fibre de carbone et d'autres matériaux frittés dans un environnement carboné. Applications en métallurgie, électronique et aérospatiale pour la production de produits en graphite de haute qualité comme électrodes et creusets.
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Grand four de graphitisation vertical
Un grand four de graphitisation vertical à haute température est un type de four industriel utilisé pour la graphitisation de matériaux carbonés, tels que la fibre de carbone et le noir de carbone. Il s'agit d'un four à haute température pouvant atteindre des températures allant jusqu'à 3100°C.
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Four de graphitisation horizontal à haute température
Four de graphitisation horizontal : Ce type de four est conçu avec les éléments chauffants placés horizontalement, permettant un chauffage uniforme de l'échantillon. Il est bien adapté à la graphitisation d’échantillons volumineux ou volumineux qui nécessitent un contrôle précis de la température et une uniformité.
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Four de graphitisation de film à haute conductivité thermique
Le four de graphitisation de film à haute conductivité thermique a une température uniforme, une faible consommation d'énergie et peut fonctionner en continu.
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Four de graphitisation à décharge inférieure pour matériaux carbonés
Four de graphitisation bottom-out pour matériaux carbonés, four à ultra haute température jusqu'à 3100°C, adapté à la graphitisation et au frittage de tiges de carbone et de blocs de carbone. Conception verticale, déchargement par le bas, alimentation et déchargement pratiques, uniformité à haute température, faible consommation d'énergie, bonne stabilité, système de levage hydraulique, chargement et déchargement pratiques.
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Les machines de pyrolyse de la biomasse sont conçues pour convertir les matériaux de la biomasse en produits utiles tels que le biochar, la bio-huile et le gaz de synthèse.
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Qu'est-ce que le four rotatif de régénération de charbon actif
Le four de régénération au charbon actif électrique est un four rotatif à chauffage externe électrique typique
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Comprendre les systèmes de chauffage électrique(1) : Fonctionnement et avantages des générateurs d'air chaud électriques
Découvrez comment les systèmes de chauffage électrique, en particulier les fours électriques, fonctionnent efficacement sans nécessiter de conduits ou de cheminées. Explorez les avantages et les composants des fours électriques, notamment les éléments chauffants, les contacteurs, les séquenceurs et les transformateurs.