Four tubulaire
Four à tubes vertical
Numéro d'article : KT-VTF
Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations
- Température maximale
- 1800℃
- Diamètre du tube du four
- 50 / 60 / 80 / 100 mm
- Longueur de la zone de chauffage
- 300 / 450 / 600 / 800 mm
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Les fours tubulaires verticaux sont des équipements de laboratoire utilisés pour le traitement à haute température de matériaux dans des conditions atmosphériques contrôlées. Ils sont constitués d'un tube de quartz orienté verticalement et enfermé dans une chambre de chauffe, ce qui permet un contrôle précis de la température et une distribution uniforme de la chaleur. Ces fours sont couramment utilisés pour diverses applications, notamment le traitement thermique, la trempe, le recuit, la croissance cristalline et le revêtement par dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Dotés de fonctions avancées telles que des régulateurs de température programmables, des capacités de scellement sous vide et des accessoires spécialisés pour la manipulation des échantillons, les fours tubulaires verticaux offrent polyvalence et précision dans le traitement des matériaux. Leur capacité à créer des atmosphères contrôlées et à atteindre des températures élevées en fait des outils essentiels pour la recherche et le développement, la science des matériaux et les applications industrielles.
Applications
Les fours tubulaires verticaux sont des appareils de chauffage polyvalents qui trouvent une large gamme d'applications dans divers secteurs industriels et laboratoires. Ils sont particulièrement utiles pour les processus qui nécessitent un contrôle précis de la température et la capacité de fonctionner sous vide ou dans des atmosphères gazeuses contrôlées.
- Essais de trempe au gaz : Les fours tubulaires verticaux sont couramment utilisés pour les essais de trempe au gaz, où les échantillons sont rapidement refroidis à partir de températures élevées dans un milieu de trempe tel que de l'eau glacée ou de l'huile. Cela permet aux chercheurs d'étudier les transitions de phase des matériaux et les effets d'un refroidissement rapide sur les propriétés des matériaux.
- Traitement thermique : Les fours tubulaires verticaux sont utilisés pour divers procédés de traitement thermique, notamment le recuit, le revenu et le détensionnement. Ces procédés permettent d'améliorer les propriétés mécaniques des matériaux, telles que leur résistance, leur dureté et leur ductilité.
- Dépôt chimique en phase vapeur (CVD) : Les fours à tubes verticaux sont utilisés pour les procédés CVD, dans lesquels un film mince est déposé sur un substrat par des réactions chimiques dans un environnement gazeux. Cette technique est couramment utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs pour créer des dispositifs électroniques.
- Croissance de cristaux : Les fours à tubes verticaux sont utilisés pour la croissance cristalline, qui consiste à faire croître des cristaux à partir d'une phase de fusion ou de vapeur. Cette technique est utilisée pour produire des cristaux de haute qualité destinés à l'optique, à l'électronique et à d'autres applications.
- Essais de matériaux : Les fours tubulaires verticaux sont utilisés pour les essais de matériaux, tels que les mesures de conductivité thermique, les déterminations du point de fusion et les transitions de phase. Ces tests fournissent des informations précieuses sur les propriétés des matériaux.
- Autres applications : Les fours tubulaires verticaux sont également utilisés dans diverses autres applications, notamment :
- le frittage
- le brasage
- la calcination
- la céramique
- Verrerie
- Recherche en laboratoire
Traitement des poudres
1. Tube en corindon haute température : résistant à la corrosion, transmission élevée, résistance à la haute pression, résistance à la haute température jusqu'à 1700 ℃.
2. Panneau d'affichage numérique électronique : contrôle précis de la température, préréglage du processus de traitement thermique en plusieurs étapes.
Types de fours tubulaires verticaux
Principe
Les fours tubulaires verticaux fonctionnent selon le principe du transfert de chaleur par rayonnement. L'élément chauffant, généralement constitué de disiliciure de molybdène (MoSi2) ou de carbure de silicium (SiC), est situé autour du tube vertical et émet un rayonnement infrarouge qui est absorbé par l'échantillon à l'intérieur. Ce rayonnement chauffe l'échantillon de manière uniforme, ce qui permet un contrôle précis et efficace de la température. La conception du four permet des vitesses de chauffage et de refroidissement rapides, ce qui le rend adapté à diverses applications, notamment la synthèse de matériaux, le traitement thermique et les mesures de température.
- Avantages
- Chambre du four positionnée verticalement ou en pente : Cela permet de réaliser diverses expériences, notamment le chauffage en lit fluidisé, la croissance par tirage de cristaux, la trempe, etc.
- Diverses fonctions mécaniques : Ces fonctions comprennent l'accrochage, la traction, la rotation et le relâchement des échantillons, ce qui permet une grande souplesse dans les montages expérimentaux.
- Large gamme de températures de travail : Max. Température jusqu'à 1800℃ permet une gamme diversifiée d'applications.
- Personnalisation de l'équipement de froc spécialisé : Adapte le four aux exigences expérimentales spécifiques.
- Conception à double enveloppe du four : Le flux d'air forcé entre la coque intérieure et la coque extérieure maintient une température de surface du four basse pour la sécurité.
- Commande de température programmable PID : Excellente précision de contrôle et performances de chauffage stables, avec des options de contrôle centralisé et à distance.
- Contrôleur à écran tactile VTF Pro : Réglage convivial des programmes, analyse des données et gestion des recettes.
- Caractéristiques de sécurité : Protection contre les surintensités, alarme de surchauffe et détection de couple thermique pour une sécurité accrue.
Fonction de redémarrage en cas de panne de courant : Reprend le programme de chauffage après une coupure de courant, assurant ainsi la continuité de l'expérience.
- Avantages en matière de sécurité
- Le four tubulaire Kindle Tech possède une protection contre les surintensités et une fonction d'alarme en cas de surchauffe. Le four s'éteint automatiquement dès qu'une surintensité est détectée.
- Le four est équipé d'une fonction de détection du couple thermique, le four arrêtera de chauffer et l'alarme s'allumera dès que le couple thermique sera brisé ou qu'une défaillance sera détectée.
VTF Pro prend en charge la fonction de redémarrage en cas de panne de courant, le four reprend le programme de chauffage lorsque le courant est rétabli après une panne.
| Caractéristiques techniques | Modèle du four | KT-VTF |
|---|---|---|
| KT-VTF PRO | Régulateur de température | Régulateur PID numérique |
| Contrôleur PID à écran tactile | Présélection multi-programmes | non |
| oui | Redémarrage en cas de panne de courant | non |
| oui | Température maximale | |
| 1800℃ | Matériau du tube du four | |
| Quartz de haute qualité/alumine Al2O3 | Diamètre du tube du four | |
| 50 / 60 / 80 / 100 mm | Longueur de la zone de chauffage | |
| 300 / 450 / 600 / 800 mm | Solution de scellement sous vide | |
| Bride en acier inoxydable 304 avec anneau d'étanchéité en cuivre massif | Pression de vide nominale | |
| 0,001Pa/10E5 torr | Matériau de la chambre | |
| Fibre d'alumine japonaise Al2O3 | Élément chauffant | |
| Bobine de fil Cr2Al2Mo2/SiC/MoSi2 | Couple thermique | |
| Type K /S/B | Précision du contrôle de la température | |
| ±1℃ | Alimentation électrique | |
| AC110-220V, 50/60HZ | ||
La taille du tube du four et la longueur de la zone de chauffage peuvent être personnalisées.
| Emballage standard | Non. | Description |
|---|---|---|
| Quantité | 1 | Fourneau |
| 1 | 2 | Tube d'alumine |
| 1 | 3 | Bride à vide |
| 2 | 4 | Bloc thermique du tube |
| 2 | 5 | Crochet du bloc thermique du tube |
| 1 | 6 | Gant résistant à la chaleur |
| 1 | 7 | Manuel d'utilisation |
1
- Configuration en option
- Détection et surveillance des gaz dans le tube, comme H2, O2, etc.
- Surveillance et enregistrement indépendants de la température du four
- Port de communication RS 485 pour le contrôle à distance par PC et l'exportation de données
- Contrôle du débit d'alimentation des gaz insérés, comme le débitmètre massique et le débitmètre à flotteur
- Contrôleur de température à écran tactile avec des fonctions polyvalentes et conviviales pour l'opérateur
Avertissements
La sécurité des opérateurs est la question la plus importante ! Veuillez faire fonctionner l'équipement avec des précautions. Travailler avec des gaz inflammables, explosifs ou toxiques est très dangereux, les opérateurs doivent prendre toutes les précautions nécessaires avant de démarrer le équipement. Travailler en pression positive à l’intérieur des réacteurs ou des chambres est dangereux, l'opérateur doit suivre strictement les procédures de sécurité. Supplémentaire des précautions doivent également être prises lors de l'utilisation de matériaux réactifs à l'air, surtout sous vide. Une fuite peut aspirer de l'air dans l'appareil et provoquer un une réaction violente se produit.
Conçu pour vous
KinTek fournit un service et des équipements sur mesure aux clients du monde entier, notre travail d'équipe spécialisé et nos riches ingénieurs expérimentés sont capables de entreprendre les exigences en matière d'équipement matériel et logiciel sur mesure, et aider notre client à constituer l'équipement exclusif et personnalisé et solution!
FAQ
Qu'est-ce qu'un four tubulaire ?
Le four tubulaire de laboratoire est un four tubulaire à haute température de chauffage externe classique, également appelé four de chauffage à paroi chaude.
Selon la température de travail différente, le matériau du tube de four peut généralement être des tubes de quartz transparents, des tubes en céramique d'alumine de haute pureté et des tubes en alliage métallique à haute résistance.
Pour répondre à différents objectifs de recherche thermique, le four tubulaire peut être conçu avec plusieurs zones de chauffage, de manière à avoir un contrôle flexible du gradient de température dans la chambre de travail du tube ; le tube de four peut fonctionner avec un environnement de travail à atmosphère contrôlée ou un environnement de travail sous vide poussé.
Qu'est-ce qu'un four CVD ?
Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est une technologie qui utilise diverses sources d'énergie telles que le chauffage, l'excitation du plasma ou le rayonnement lumineux pour faire réagir chimiquement des substances chimiques gazeuses ou en phase vapeur sur la phase gazeuse ou l'interface gaz-solide pour former des dépôts solides dans le réacteur au moyen de réaction chimique. Pour le dire simplement, deux ou plusieurs matières premières gazeuses sont introduites dans une chambre de réaction, puis elles réagissent l'une avec l'autre pour former un nouveau matériau et le déposer sur la surface du substrat.
Le four CVD est un système de four combiné avec une unité de four tubulaire à haute température, une unité de contrôle des gaz et une unité de vide, il est largement utilisé pour l'expérimentation et la production de préparation de matériaux composites, de processus microélectronique, d'optoélectronique semi-conducteur, d'utilisation de l'énergie solaire, de communication par fibre optique, supraconducteur technologie, domaine des revêtements de protection.
Qu'est-ce qu'un four tubulaire rotatif ?
Comment fonctionne un four tubulaire ?
Les éléments chauffants du four tubulaire sont placés autour de la cavité cylindrique, le four ne peut chauffer les échantillons dans la cavité cylindrique que par rayonnement thermique indirect, car le tube du four peut empêcher le matériau de l'échantillon d'entrer en contact avec les éléments chauffants du four et les matériaux d'isolation, de sorte que le four tubulaire crée un propre isolé chauffer la chambre et réduire les risques de contamination de l'échantillon par le four.
Comment fonctionne le four CVD ?
Le système de four CVD se compose d'une unité de four tubulaire à haute température, d'une unité de contrôle précise de la source de gaz réactif, d'une station de pompe à vide et des pièces d'assemblage correspondantes.
La pompe à vide consiste à éliminer l'air du tube de réaction et à s'assurer qu'il n'y a pas de gaz indésirables à l'intérieur du tube de réaction, après quoi le four tubulaire chauffera le tube de réaction à une température cible, puis l'unité de contrôle précise de la source de gaz de réaction peut introduire différents gaz avec un rapport défini dans le tube du four pour la réaction chimique, le dépôt chimique en phase vapeur sera formé dans le four CVD.
Qu'est-ce qu'un four atmosphérique ?
Comment fonctionne un four tubulaire rotatif ?
Quelle est l'application pour le four tubulaire?
Le four tubulaire est principalement utilisé dans la métallurgie, le verre, le traitement thermique, les matériaux d'anode et de cathode au lithium, les nouvelles énergies, les abrasifs et d'autres industries, et est un équipement professionnel pour mesurer les matériaux dans certaines conditions de température.
Le four tubulaire présente une structure simple, une opération facile, un contrôle facile et une production continue.
Le four tubulaire est également largement appliqué dans les systèmes CVD (dépôt chimique en phase vapeur) et CVD amélioré par plasma.
Quel gaz est utilisé dans le procédé CVD ?
Il existe d'énormes sources de gaz pouvant être utilisées dans le processus CVD, les réactions chimiques courantes de CVD comprennent la pyrolyse, la photolyse, la réduction, l'oxydation, le redox, de sorte que les gaz impliqués dans ces réactions chimiques peuvent être utilisés dans le processus CVD.
Nous prenons la croissance du graphène CVD par exemple, les gaz utilisés dans le processus CVD seront CH4, H2, O2 et N2.
A quoi sert le four à atmosphère ?
Quels sont les types de fours rotatifs ?
Quels sont les avantages d'un four tubulaire rotatif ?
Quelle est la fonction du four à tube rotatif?
Combien de différents types de four tubulaire?
Le four tubulaire peut fonctionner avec différentes fonctions mécaniques en douceur, il existe donc de nombreux types de variantes de four tubulaire à différentes fins d'expérimentation, les fours à four typiques sont les suivants :
- Four tubulaire horizontal
- Four tubulaire vertical
- Four tubulaire fendu
- Four tubulaire rotatif
- Four tubulaire basculant
- Four tubulaire coulissant
- Four tubulaire à chauffage et refroidissement rapides
- Four tubulaire à alimentation et décharge continue
Quel est l'avantage du système CVD ?
- Une large gamme de films peut être produite, film métallique, film non métallique et film d'alliage multi-composants selon les besoins. En même temps, il peut préparer des cristaux de haute qualité difficiles à obtenir par d'autres méthodes, telles que GaN, BP, etc.
- La vitesse de formation du film est rapide, généralement plusieurs microns par minute voire des centaines de microns par minute. Il est possible de déposer simultanément de grandes quantités de revêtements avec une composition uniforme, ce qui est incomparable aux autres méthodes de préparation de film, telles que l'épitaxie en phase liquide (LPE) et l'épitaxie par jet moléculaire (MBE).
- Les conditions de travail sont réalisées dans des conditions de pression normale ou de vide faible, de sorte que le revêtement a une bonne diffraction et que les pièces aux formes complexes peuvent être uniformément revêtues, ce qui est bien supérieur au PVD.
- En raison de la diffusion mutuelle du gaz de réaction, du produit de réaction et du substrat, un revêtement avec une bonne force d'adhérence peut être obtenu, ce qui est crucial pour la préparation de films renforcés en surface tels que des films résistants à l'usure et anti-corrosion.
- Certains films se développent à une température bien inférieure au point de fusion du matériau du film. Dans des conditions de croissance à basse température, le gaz de réaction et la paroi du réacteur et les impuretés qu'ils contiennent ne réagissent presque pas, de sorte qu'un film de haute pureté et de bonne cristallinité peut être obtenu.
- Le dépôt chimique en phase vapeur permet d'obtenir une surface de dépôt lisse. En effet, par rapport au LPE, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est effectué sous une saturation élevée, avec un taux de nucléation élevé, une densité de nucléation élevée et une distribution uniforme sur tout le plan, ce qui donne une surface lisse macroscopique. Dans le même temps, dans le dépôt chimique en phase vapeur, le libre parcours moyen des molécules (atomes) est beaucoup plus grand que le LPE, de sorte que la distribution spatiale des molécules est plus uniforme, ce qui favorise la formation d'une surface de dépôt lisse.
- Faibles dommages causés par les radiations, condition nécessaire à la fabrication de semi-conducteurs à oxyde métallique (MOS) et d'autres dispositifs
Quels sont les avantages du four à rotor ?
Quels sont les avantages du four tubulaire rotatif ?
Que signifie PECVD ?
Le PECVD est une technologie qui utilise le plasma pour activer le gaz de réaction, favoriser la réaction chimique à la surface du substrat ou près de l'espace de surface et générer un film solide. Le principe de base de la technologie de dépôt chimique en phase vapeur par plasma est que, sous l'action d'un champ électrique RF ou CC, le gaz source est ionisé pour former un plasma, le plasma à basse température est utilisé comme source d'énergie, une quantité appropriée de gaz de réaction est introduit, et la décharge de plasma est utilisée pour activer le gaz de réaction et réaliser le dépôt chimique en phase vapeur.
Selon la méthode de génération de plasma, il peut être divisé en plasma RF, plasma DC et plasma micro-ondes CVD, etc.
Quelle est l'efficacité d'un four rotatif ?
Quelle est la différence entre CVD et PECVD ?
La différence entre la technologie PECVD et la technologie CVD traditionnelle est que le plasma contient un grand nombre d'électrons à haute énergie, qui peuvent fournir l'énergie d'activation requise dans le processus de dépôt chimique en phase vapeur, modifiant ainsi le mode d'alimentation en énergie du système de réaction. Étant donné que la température des électrons dans le plasma est aussi élevée que 10000K, la collision entre les électrons et les molécules de gaz peut favoriser la rupture de la liaison chimique et la recombinaison des molécules de gaz de réaction pour générer des groupes chimiques plus actifs, tandis que l'ensemble du système de réaction maintient une température plus basse.
Ainsi, par rapport au processus CVD, le PECVD peut effectuer le même processus de dépôt chimique en phase vapeur avec une température plus basse.
4.8
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5
I am amazed by the precision and consistency of this vertical tube furnace. It has made our research work so much more efficient.
4.9
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The build quality of this furnace is top-notch. It's evident that it's made with high-quality materials and with great attention to detail.
4.7
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The vertical design of this furnace makes it so easy to load and unload samples. It's a huge time-saver, especially when we're running multiple experiments.
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The value for money of this furnace is unbeatable. It's a high-quality piece of equipment at an affordable price.
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