Les cibles de pulvérisation sont classées en trois catégories : les métaux, les alliages et les céramiques, chacune servant à des fins spécifiques dans le dépôt de couches minces. Ces cibles peuvent prendre différentes formes, notamment les formes rectangulaires ou circulaires traditionnelles, ainsi que des formes plus spécialisées telles que les cibles rotatives.
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Cibles de pulvérisation métallique: Elles sont fabriquées à partir d'éléments métalliques purs. Elles sont couramment utilisées dans des applications où la pureté du métal est cruciale, comme dans la production de semi-conducteurs et de puces électroniques. Les cibles métalliques peuvent être n'importe quel métal élémentaire adapté aux propriétés des couches minces souhaitées.
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Cibles de pulvérisation d'alliages: Ces cibles sont fabriquées à partir de mélanges de métaux. Les alliages sont choisis pour obtenir des propriétés spécifiques dans les couches minces, telles qu'une dureté accrue, une conductivité améliorée ou une meilleure résistance à la corrosion. La composition de l'alliage peut être adaptée pour répondre aux exigences spécifiques de l'application.
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Cibles de pulvérisation en céramique: Ces cibles sont fabriquées à partir de composés non métalliques, généralement des oxydes ou des nitrures. Les cibles céramiques sont utilisées pour créer des films minces présentant une dureté et une résistance à l'usure élevées, ce qui les rend adaptées aux applications dans les outils et les instruments de coupe. Les matériaux céramiques offrent souvent des propriétés d'isolation thermique et électrique.
Les formes des cibles de pulvérisation ont évolué, passant des formes traditionnelles à des formes plus spécialisées. Par exemplecibles rotatives sont cylindriques et conçues pour permettre un dépôt plus précis des couches minces. Ces cibles ont une plus grande surface, ce qui permet des taux de dépôt plus rapides. La possibilité de personnaliser la forme des cibles de pulvérisation permet de mieux s'adapter aux systèmes de dépôt et aux exigences spécifiques.
En résumé, les cibles de pulvérisation sont des composants essentiels du processus de dépôt par pulvérisation, où elles fournissent la source de matériau pour la création de couches minces. Le choix du type de cible (métal, alliage ou céramique) et de sa forme dépend de l'application spécifique et des propriétés souhaitées du film mince.
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