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Les cibles de pulvérisation sont des composants essentiels dans les processus de dépôt de couches minces, et leurs spécifications sont beaucoup plus strictes que celles des matériaux traditionnels.Ces spécifications comprennent la taille, la planéité, la pureté, la teneur en impuretés, la densité, la taille des grains et le contrôle des défauts.En outre, elles sont soumises à des exigences élevées ou spéciales telles que la rugosité de surface, la résistance, l'uniformité de la taille des grains, l'uniformité de la composition et des tissus, la teneur et la taille des oxydes, la perméabilité magnétique, la densité ultra-élevée et les grains ultra-fins.La forme des cibles de pulvérisation peut varier, les formes plates et cylindriques étant les plus courantes, et leur conception comprend souvent un support métallique avec des canaux de refroidissement à l'eau.La qualité de ces cibles est primordiale, car les impuretés, les gros grains ou les surfaces rugueuses peuvent entraîner des défauts dans le film mince.Des matériaux spécifiques, comme les cibles de pulvérisation de platine (Pt), ont leurs propres spécifications, notamment le type de matériau, le poids atomique, la conductivité thermique, le point de fusion, etc.

Explication des points clés :

1. Taille et forme:

   • Cibles plates:Plus faciles et moins coûteuses à remplacer, elles sont couramment utilisées dans divers systèmes de pulvérisation.
   • Cibles cylindriques/en forme d'anneau:Requis pour des conceptions de chambres spécifiques, plus coûteux en raison de leur forme complexe.
   • Support métallique:Les cibles sont souvent collées à un support métallique qui comprend des canaux de refroidissement à l'eau pour gérer la chaleur pendant le processus de pulvérisation.

2. Qualité des matériaux:

   • Pureté:Une grande pureté est essentielle pour éviter les défauts dans le film mince.Les impuretés peuvent entraîner de mauvaises propriétés du film.
   • Taille des grains:Les petits grains sont préférables car les gros grains peuvent avoir un impact négatif sur les propriétés du film.
   • État de surface:Les surfaces lisses sont essentielles ; les surfaces rugueuses peuvent entraîner des défauts dans le film.

3. Propriétés physiques et chimiques:

   • Densité:Une densité très élevée est souvent nécessaire pour garantir l'intégrité du matériau cible pendant le processus de pulvérisation.
   • Contrôle des défauts:La réduction des défauts est essentielle pour éviter la contamination et garantir des couches minces de haute qualité.
   • Composition et uniformité des tissus:Une composition et une structure tissulaire uniformes sont nécessaires pour un dépôt de film cohérent.

4. Exigences particulières:

   • Rugosité de surface:Une faible rugosité de surface est essentielle pour éviter les défauts du film.
   • La résistance:Des niveaux de résistance spécifiques peuvent être requis en fonction de l'application.
   • Uniformité de la taille des grains:Une taille de grain uniforme garantit des propriétés de film constantes.
   • Teneur et taille des oxydes:Le contrôle de la teneur et de la taille des oxydes est nécessaire pour maintenir la qualité du film.
   • Perméabilité magnétique:Certaines applications peuvent nécessiter des propriétés magnétiques spécifiques.
   • Grains ultra-fins:Des grains extrêmement fins sont souvent nécessaires pour les applications à haute performance.

5. Exemple de matériau spécifique - cibles de pulvérisation de platine (Pt):

   • Type de matériau:Platine
   • Symbole:Pt
   • Poids atomique:195.084
   • Numéro atomique: 78
   • Couleur/apparence:Gris métallisé
   • Conductivité thermique 72 W/m.K
   • Point de fusion:1,772°C
   • Coefficient de dilatation thermique 8,8 x 10-6/K
   • Densité théorique 21,45 g/cc
   • Rapport Z:0.245
   • Sputter:DC
   • Densité de puissance maximale:100 Watts/pouce carré
   • Type de lien:Indium, Elastomère
   • Commentaires supplémentaires:Le platine s'allie à d'autres métaux et les films fabriqués à partir de ce métal sont mous et peu adhérents.

6. Facteurs d'efficacité:

   • Composition:La composition du matériau joue un rôle important dans son efficacité.
   • Type d'ions:Le type d'ions utilisés pour décomposer le matériau cible peut affecter le processus de pulvérisation et la qualité du film qui en résulte.

En résumé, les cibles de pulvérisation doivent répondre à un large éventail de spécifications rigoureuses pour garantir un dépôt de couches minces de haute qualité.Ces spécifications couvrent les dimensions physiques, la qualité des matériaux et diverses exigences spéciales qui sont cruciales pour la performance et la fiabilité du processus de pulvérisation.Des matériaux spécifiques, comme le platine, ont des propriétés qui leur sont propres et qui doivent être soigneusement contrôlées pour obtenir les caractéristiques de film souhaitées.

Tableau récapitulatif :

Spécification	Détails
Taille et forme	Formes plates ou cylindriques ; supports métalliques avec canaux de refroidissement à l'eau.
Qualité des matériaux	Grande pureté, petite taille de grain, surfaces lisses.
Propriétés physiques	Très haute densité, contrôle des défauts, composition uniforme.
Exigences particulières	Faible rugosité de surface, teneur en oxyde contrôlée, grains ultrafins.
Platine (Pt) Exemple	Conductivité thermique élevée, point de fusion : 1 772°C, densité théorique : 21,45 g/cc.

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