Dans le cas de la pulvérisation cathodique, la cible est un matériau solide utilisé pour déposer un film mince sur un substrat. Ce processus implique l'éjection d'atomes ou de molécules du matériau cible sous l'effet d'un bombardement par des particules énergétiques, généralement des ions d'un gaz inerte comme l'argon. Le matériau pulvérisé forme alors un film sur le substrat placé dans la chambre à vide.
Caractéristiques et types de cibles :
Les cibles des systèmes de pulvérisation sont généralement des plaques solides de tailles et de formes diverses, allant de plates à cylindriques, en fonction des exigences spécifiques de la géométrie du plasma. Ces cibles sont fabriquées à partir de divers matériaux, notamment des métaux purs, des alliages et des composés tels que les oxydes ou les nitrures. Le choix du matériau de la cible dépend des propriétés souhaitées du film mince à déposer.Processus de pulvérisation :
Au cours du processus de pulvérisation, un gaz contrôlé, généralement de l'argon, est introduit dans une chambre à vide. Une décharge électrique est appliquée à la cathode, qui contient le matériau cible, créant ainsi un plasma. Dans ce plasma, les atomes d'argon sont ionisés et accélérés vers la cible, où ils entrent en collision avec le matériau cible, provoquant l'éjection d'atomes ou de molécules. Ces particules éjectées forment un flux de vapeur qui traverse la chambre et se dépose sur le substrat, formant un film mince.
Exemples et applications spécifiques :
Par exemple, une cible de pulvérisation de silicium est fabriquée à partir d'un lingot de silicium et peut être produite par diverses méthodes telles que la galvanoplastie, la pulvérisation ou le dépôt en phase vapeur. Ces cibles sont traitées pour garantir des conditions de surface souhaitables, telles qu'une réflectivité élevée et une faible rugosité de surface, qui sont cruciales pour la qualité des films déposés. Les films produits par ces cibles sont caractérisés par un faible nombre de particules, ce qui les rend appropriés pour des applications dans la fabrication de semi-conducteurs et de cellules solaires.
