L'argon est largement utilisé dans les procédés de pulvérisation pour plusieurs raisons.
4 raisons principales pour lesquelles l'argon est le gaz préféré pour les procédés de pulvérisation cathodique
1. Taux de pulvérisation élevé
L'argon est un gaz noble dont le poids atomique est élevé.
Cela en fait une excellente source d'ions pour bombarder le matériau cible.
Les ions argon chargés positivement sont attirés par la cible chargée négativement à grande vitesse.
Il en résulte une vitesse de pulvérisation élevée, ce qui accélère les taux de dépôt.
2. Nature inerte
L'argon est chimiquement inerte.
Cela signifie qu'il ne réagit pas avec la plupart des matériaux.
L'inertie de l'argon garantit que les particules pulvérisées ne sont pas contaminées ou altérées.
Cela permet de préserver les propriétés souhaitées du film mince.
3. Prix bas et disponibilité
L'argon est relativement peu coûteux par rapport à d'autres gaz nobles comme le krypton et le xénon.
Il est largement disponible et peut être obtenu avec une grande pureté.
Cela en fait un choix pratique pour les applications industrielles où le rapport coût-efficacité est important.
4. Autres considérations
L'utilisation de l'argon dans la pulvérisation cathodique permet d'utiliser le procédé dans différentes orientations.
Il permet également de revêtir des formes complexes.
Comme il n'est pas nécessaire de faire fondre le matériau source, le procédé peut être adapté à différentes configurations.
Cela accroît sa polyvalence.
En outre, l'argon peut conduire à des couches plus denses avec moins de dispersion du matériau.
La qualité globale des films déposés s'en trouve améliorée.
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