L'argon est un choix populaire pour la pulvérisation cathodique pour plusieurs raisons essentielles.
4 raisons principales pour lesquelles l'argon est utilisé dans la pulvérisation cathodique
Taux de pulvérisation élevé
L'argon a un taux de pulvérisation élevé.
Cela s'explique par le fait qu'il s'agit d'un gaz rare ayant une masse atomique élevée.
Une masse atomique élevée signifie que lorsqu'il est ionisé et accéléré vers la cible, l'argon transfère une quantité de mouvement importante lors de l'impact.
Cela conduit à une éjection efficace des atomes de la cible.
Nature inerte
L'argon est chimiquement inerte.
Cela signifie qu'il ne réagit pas facilement avec d'autres éléments.
Sa nature inerte minimise le risque de réactions chimiques indésirables entre le gaz de pulvérisation et le matériau cible ou le film en croissance.
Cela garantit que le film déposé conserve la composition chimique et les propriétés souhaitées.
Prix bas et disponibilité
L'argon est relativement bon marché par rapport à d'autres gaz rares comme le krypton et le xénon.
Sa grande disponibilité et son faible coût en font un choix pratique pour les applications industrielles et de laboratoire.
Ce facteur économique est important, en particulier dans les processus de fabrication à grande échelle où le coût des matériaux peut avoir un impact significatif sur le coût de production global.
Disponibilité des gaz purs
L'argon est disponible en haute pureté.
Cette pureté est essentielle pour éviter que les impuretés n'affectent la qualité du film déposé.
Les impuretés peuvent dégrader les propriétés du film, telles que sa conductivité électrique ou sa transparence optique.
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