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Purificateur de gaz de laboratoire haute pureté pour atmosphère inerte et gaz de procédé ultra-propres

Accessoires et consommables pour équipements d'analyse

Purificateur de gaz de laboratoire haute pureté pour atmosphère inerte et gaz de procédé ultra-propres

Numéro d'article : KT-JH

Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations


Niveaux d'impuretés en sortie
O2 ≤ 0,05 ppm, H2O ≤ 0,1 ppm
Débit nominal
10 – 100 L/min
Pression de service du gaz
0,3 – 0,8 MPa
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Ce système de purification de gaz haute pureté est conçu pour éliminer les traces d'impuretés des gaz inertes et des gaz de procédé, offrant des environnements ultra-propres essentiels à la recherche en laboratoire de pointe et à la fabrication à l'échelle pilote. En utilisant des colonnes avancées de désoxygénation catalytique étagée et d'adsorption par tamis moléculaire, cet équipement réduit constamment les niveaux de contamination par l'humidité (H2O) et l'oxygène (O2) à moins de 0,1 partie par million (ppm). Sa conception robuste offre une solution sans compromis pour les installations exigeant une génération de gaz pur à la demande fiable, stable et économique, sans dépendre de bouteilles de gaz spéciaux de haute qualité.

Conçue spécifiquement pour les environnements de recherche et de production exigeants, l'unité s'intègre parfaitement aux fours tubulaires à haute température, aux fours à moufle sous atmosphère contrôlée, aux réacteurs de dépôt chimique en phase vapeur (CVD/PECVD), aux systèmes de boîtes à gants et aux systèmes de fabrication additive. Les secteurs cibles comprennent la fabrication de semi-conducteurs, la recherche sur les batteries lithium-ion, l'optoélectronique avancée, la métallurgie de précision et les laboratoires de caractérisation des catalyseurs. Dans l'ensemble de ces domaines, la prévention d'une oxydation, d'une nitration ou d'une dégradation par l'humidité atmosphérique indésirable est essentielle à la reproductibilité expérimentale et au rendement de production.

Conçu en mettant l'accent sur la résilience opérationnelle continue, le système intègre des capacités de régénération à double colonne entièrement automatisées, des blocs de vannes pneumatiques de qualité industrielle et une instrumentation de contrôle de haute précision. L'architecture de gestion des fluides en acier inoxydable renforcé garantit une étanchéité parfaite, même à des pressions de fonctionnement élevées. En maintenant une filtration et une régénération continues sans interrompre la distribution de gaz en aval, cet équipement offre aux chercheurs et aux ingénieurs de procédé une confiance absolue dans le contrôle atmosphérique à long terme lors de traitements thermiques prolongés et d'évaluations analytiques.

Caractéristiques principales

  • Purification profonde du gaz sous-PPM : Intègre une technologie de piégeage catalytique (getter) et des tamis moléculaires synthétiques pour réaliser une désoxygénation et une déshydratation simultanées, réduisant de manière fiable les niveaux d'oxygène et d'humidité à moins de 0,1 ppm (<100 ppb) sur des cycles opérationnels continus.
  • Fonctionnement cyclique continu à double colonne : Comprend deux colonnes d'adsorption configurées pour des modes alternés de purification et de régénération, garantissant une distribution continue de gaz ultra-pur en aval pendant de longs cycles thermiques à haute température.
  • Régénération thermique automatisée : Équipé de manchons chauffants intégrés à haut rendement et de commandes de micro-purge programmables qui régénèrent automatiquement et entièrement les lits d'adsorbant saturés sans nécessiter de démontage ni de remplacement manuel du catalyseur.
  • Tuyauterie tout métal ultra-vide (UHV) : Construit avec des tubes en acier inoxydable 316L électropoliment, des joints soudés orbitalement et des raccords à étanchéité faciale avec joint métallique (VCR/compression) pour garantir des taux de fuite d'hélium inférieurs à 1×10⁻⁹ mbar·L/s.
  • Surveillance en temps réel du point de rosée et de l'oxygène : Intègre des capteurs d'oxygène à l'état de trace électrochimiques de haute précision et des transmetteurs de point de rosée en céramique, offrant une vérification numérique continue de la qualité du gaz directement sur l'écran tactile central.
  • Contrôle intelligent par API avec IHM intuitive : Utilise un automate programmable industriel (API) couplé à une interface homme-machine couleur, offrant une régulation automatisée de la pression, des routines de démarrage/arrêt par touche unique, un diagnostic des défauts et des verrouillages de sécurité automatisés.
  • Verrouillages de sécurité de surpression et de débit : Conçu avec des mécanismes de sécurité intégrée multiniveaux, comprenant des vannes d'arrêt pneumatiques automatiques, des soupapes de décharge mécanique et des alarmes de seuil sonores et visuelles pour éviter la contamination en aval ou la surpression du système.
  • Compatibilité polyvalente avec les gaz d'alimentation : Capable de purifier un large spectre de gaz techniques et vecteurs, notamment l'argon pur, l'azote, l'hélium et les gaz de reformage, transformant des bouteilles de qualité industrielle standard en lignes d'alimentation de qualité recherche.

Applications

Application Description Avantage clé
Épitaxie pour semi-conducteurs et couches minces Distribue du gaz vecteur argon ou azote ultra-pur directement dans les chambres CVD, PECVD et ALD pendant le traitement des plaquettes. Évite l'oxydation du substrat, minimise les défauts de micro-trous (pinholes) et garantit une grande uniformité du film sur les couches atomiques délicates.
Traitement thermique sous atmosphère inerte Purifie les flux de gaz de protection pour les fours tubulaires, les fours sous atmosphère sous vide et les unités de frittage dentaire traitant des alliages réactifs. Élimine le calaminage de surface et la décarburation sur le titane, le zirconium et les suralliages réfractaires pendant les cycles à haute température.
R&D sur les batteries au lithium et à état solide Conditionne les atmosphères protectrices à l'intérieur des boîtes à gants, des lignes d'assemblage de cellules poches et des stations de formulation d'électrolytes. Protège les anodes en lithium métal et les formulations d'électrolytes solides sensibles à l'humidité contre toute dégradation catastrophique due à l'humidité.
Fabrication de fibres optiques et de photovoltaïque Purifie l'atmosphère de procédé pendant l'étirage de préformes, la lingotique du silicium et le dépôt de couches de contact passivées sur les plaquettes. Évite les bandes d'absorption hydroxyle (OH) dans le verre de silice et préserve la durée de vie des porteurs dans les cellules solaires à haut rendement.
Fabrication additive et impression 3D Recircule et raffine les gaz de protection inertes à l'intérieur des chambres de construction de fusion sélective par laser (SLM) et de fusion par faisceau d'électrons (EBM). Maintient des niveaux d'oxygène exceptionnellement bas pour éviter les projections, la porosité et la fragilisation lors de l'impression de métaux réactifs.
Alimentation en gaz vecteur pour instruments analytiques Fournit des flux vecteurs ultra-stables et exempts d'humidité pour la chromatographie en phase gazeuse (GC-MS), la spectrométrie d'émission optique (OES) et l'ATG. Réduit le bruit de fond, évite le saignement des colonnes, prolonge la durée de vie des détecteurs analytiques et améliore la reproductibilité quantitative.
Catalyse et synthèse de nanomatériaux Fournit des atmosphères réactionnelles propres pendant la réduction des catalyseurs, la calcination et la synthèse à haute pression de nanotubes de carbone (NTC). Élimine l'empoisonnement compétitif des sites catalytiques actifs causé par les impuretés résiduelles d'oxygène et d'humidité organique.

Spécifications techniques

Paramètre de spécification KT-JH-10 KT-JH-30 KT-JH-60 KT-JH-100
Référence de l'article KT-JH-10 KT-JH-30 KT-JH-60 KT-JH-100
Compatibilité avec les gaz purifiés Ar, N2, He, Kr, Ne, H2 Ar, N2, He, Kr, Ne, H2 Ar, N2, He, Kr, Ne, H2 Ar, N2, He, Kr, Ne, H2
Débit nominal 10 L/min (0,6 m³/h) 30 L/min (1,8 m³/h) 60 L/min (3,6 m³/h) 100 L/min (6,0 m³/h)
Exigence de pureté du gaz d'entrée ≥ 99,99 % (Qualité technique) ≥ 99,99 % (Qualité technique) ≥ 99,99 % (Qualité technique) ≥ 99,99 % (Qualité technique)
Niveau d'impureté en sortie (O2) ≤ 0,05 ppm (≤ 50 ppb) ≤ 0,05 ppm (≤ 50 ppb) ≤ 0,05 ppm (≤ 50 ppb) ≤ 0,05 ppm (≤ 50 ppb)
Niveau d'impureté en sortie (H2O) ≤ 0,1 ppm (Point de rosée ≤ -90 °C) ≤ 0,1 ppm (Point

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