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Cible de pulvérisation en alliage cuivre-nickel-indium (CuNiIn) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Matériel de laboratoire

Cible de pulvérisation en alliage cuivre-nickel-indium (CuNiIn) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Numéro d'article : LM-CuNiIn

Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations


Formule chimique
CuNiIn
Pureté
3N5
Rapport couramment utilisé
Cu:Ni:ln=59:36:5 % en poids
Forme
disques / fil / bloc / poudre / plaques / cibles colonnes / cible pas à pas / sur mesure
ISO & CE icon

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Nous proposons des matériaux en alliage cuivre-nickel-indium (CuNiIn) à des prix raisonnables pour une utilisation en laboratoire. Notre expertise réside dans la production et la personnalisation de matériaux CuNiIn de différentes puretés, formes et tailles pour répondre à vos besoins uniques.

Nous fournissons une large gamme de spécifications et de tailles pour divers produits, y compris des cibles de pulvérisation (formes circulaires, carrées, tubulaires et irrégulières), des matériaux de revêtement, des cylindres, des cônes, des particules, des feuilles, des poudres, des poudres d'impression 3D, des poudres nanométriques, des fils machine , lingots et blocs, entre autres.

Détails

Cible de pulvérisation en alliage cuivre-nickel-indium (CuNiIn)
Cible de pulvérisation en alliage cuivre-nickel-indium (CuNiIn)
Cible de pulvérisation en alliage cuivre-nickel-indium (CuNiIn)
Cible de pulvérisation en alliage cuivre-nickel-indium (CuNiIn)
Cible de pulvérisation en alliage cuivre-nickel-indium (CuNiIn)
Cible de pulvérisation en alliage cuivre-nickel-indium (CuNiIn)

À propos de l'alliage cuivre-nickel-indium (CuNiIn)

L'alliage de cuivre-nickel-indium est souvent utilisé comme matériau absorbant les neutrons dans les réacteurs atomiques, ainsi que dans la technologie des micro-ondes et les luminophores pour les téléviseurs couleur.

Formas de metal disponibles

Detalles de formas de metal

Fabricamos casi todos los metales enumerados en la tabla periódica en una amplia gama de formas y purezas, así como en tamaños y dimensiones estándar. También podemos producir productos personalizados para cumplir con los requisitos específicos del cliente, como tamaño, forma, área de superficie, composición y más. La siguiente lista proporciona una muestra de los formularios que ofrecemos, pero no es exhaustiva. Si necesita consumibles de laboratorio, contáctenos directamente para solicitar una cotización.

  • Formas planas/planares: cartón, película, lámina, microlámina, microlámina, papel, placa, cinta, hoja, tira, cinta, oblea
  • Formas preformadas: ánodos, bolas, bandas, barras, botes, pernos, briquetas, cátodos, círculos, bobinas, crisoles, cristales, cubos, tazas, cilindros, discos, electrodos, fibras, filamentos, bridas, rejillas, lentes, mandriles, tuercas , Partes, Prismas, Discos, Anillos, Varillas, Formas, Escudos, Mangas, Resortes, Cuadrados, Objetivos de pulverización catódica, Palos, Tubos, Arandelas, Ventanas, Alambres
  • Microtamaños: Perlas, Bits, Cápsulas, Chips, Monedas, Polvo, Copos, Granos, Gránulos, Micropolvo, Agujas, Partículas, Guijarros, Pellets, Alfileres, Píldoras, Polvo, Virutas, Perdigones, Babosas, Esferas, Tabletas
  • Macrotamaños: palanquillas, trozos, esquejes, fragmentos, lingotes, terrones, pepitas, piezas, punzones, rocas, desechos, segmentos, virutas
  • Porosos y semiporosos: tela, espuma, gasa, nido de abeja, malla, esponja, lana
  • Nanoescala: nanopartículas, nanopolvos, nanoláminas, nanotubos, nanobarras, nanoprismas
  • Otros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Residuo, Muestras, Especímenes

KinTek se especializa en la fabricación de materiales de pureza ultra alta y alta con un rango de pureza de 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) y, en algunos casos, hasta 99,99999 % (7N). ). Nuestros materiales están disponibles en grados específicos, incluidos los grados UP/UHP, semiconductores, electrónicos, de deposición, de fibra óptica y MBE. Nuestros metales, óxidos y compuestos de alta pureza están diseñados específicamente para cumplir con las rigurosas demandas de las aplicaciones de alta tecnología y son ideales para usar como dopantes y materiales precursores para la deposición de películas delgadas, el crecimiento de cristales de semiconductores y la síntesis de nanomateriales. Estos materiales encuentran uso en microelectrónica avanzada, celdas solares, celdas de combustible, materiales ópticos y otras aplicaciones de vanguardia.

embalaje

Utilizamos envasado al vacío para nuestros materiales de alta pureza, y cada material tiene un embalaje específico adaptado a sus características únicas. Por ejemplo, nuestro objetivo de pulverización catódica Hf está etiquetado y etiquetado externamente para facilitar la identificación y el control de calidad eficientes. Tenemos mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda ocurrir durante el almacenamiento o el transporte.

Contrôle de la qualité des ingrédients

Analyse de la composition des matières premières
Grâce à l'utilisation d'équipements tels que l'ICP et le GDMS, la teneur en impuretés métalliques est détectée et analysée pour s'assurer qu'elle répond à la norme de pureté ;

Les impuretés non métalliques sont détectées par des équipements tels que des analyseurs de carbone et de soufre, des analyseurs d'azote et d'oxygène.
Analyse de détection de défauts métallographiques
Le matériau cible est inspecté à l'aide d'un équipement de détection des défauts pour s'assurer qu'il n'y a pas de défauts ou de trous de retrait à l'intérieur du produit ;

Grâce à des tests métallographiques, la structure granulaire interne du matériau cible est analysée pour s'assurer que les grains sont fins et denses.
Inspection de l'apparence et des dimensions
Les dimensions du produit sont mesurées à l'aide de micromètres et d'étriers de précision pour assurer la conformité aux dessins ;

L'état de surface et la propreté du produit sont mesurés à l'aide d'un mesureur de propreté de surface.

Tailles des cibles de pulvérisation conventionnelles

Processus de préparation
pressage isostatique à chaud, fusion sous vide, etc.
Forme de la cible de pulvérisation
cible de pulvérisation plane, cible de pulvérisation à arcs multiples, cible de pulvérisation par étapes, cible de pulvérisation de forme spéciale
Taille cible de pulvérisation ronde
Diamètre : 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Épaisseur : 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
La taille peut être personnalisée.
Taille cible de pulvérisation carrée
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, la taille peut être personnalisée
Voir plus de FAQ pour ce produit

4.7

out of

5

KINTEK's CuNiIn materials are truly remarkable. Their high purity and uniformity ensure consistent and reliable performance in our sputtering processes.

Santiago Alfonzo

4.8

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5

The Copper Nickel Indium Alloy targets we received from KINTEK are of exceptional quality. They have significantly improved the efficiency of our sputtering system.

Dr. Emilia Carswell

4.9

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5

We have been using KINTEK's CuNiIn sputtering targets for over a year now and have been very impressed with their durability and performance. They have consistently met our high standards.

Dr. Olivera Joksimovic

4.7

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5

KINTEK's CuNiIn materials have enabled us to achieve remarkable results in our research. Their purity and consistency have been instrumental in our success.

Mr. Atakan Bekar

4.8

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5

The technical support we received from KINTEK was outstanding. They went above and beyond to help us optimize our sputtering process and achieve the desired results.

Ms. Elodie Fournier

4.9

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5

The CuNiIn powders we purchased from KINTEK were of exceptional quality and purity. They have greatly contributed to the success of our 3D printing experiments.

Dr. Matteo Ricci

4.7

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5

KINTEK's CuNiIn sputtering targets have significantly reduced downtime in our production process. Their durability and reliability have been a game-changer for us.

Ms. Aylin Yildirim

4.8

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5

The Copper Nickel Indium Alloy wires we received from KINTEK were precisely manufactured and met our exact specifications. They have performed flawlessly in our application.

Dr. David Cohen

4.9

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5

We were thoroughly impressed with the fast delivery of our CuNiIn sputtering targets from KINTEK. Their commitment to timely service is truly commendable.

Mr. Lukas Weber

4.7

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5

KINTEK's CuNiIn materials have consistently exceeded our expectations. Their high quality and reliability have made them our go-to supplier for sputtering targets.

Ms. Maria Rodriguez

4.8

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5

The Copper Nickel Indium Alloy blocks we procured from KINTEK were of exceptional quality and met our stringent requirements. They have been instrumental in our research endeavors.

Dr. Carlos Silva

4.9

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5

We have been using KINTEK's CuNiIn sputtering targets for several years now and have never encountered any issues. Their consistency and reliability are truly remarkable.

Ms. Anna Johansson

4.7

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5

KINTEK's CuNiIn materials have enabled us to push the boundaries of our research. Their exceptional purity and uniformity have been crucial to our success.

Dr. Hiroki Tanaka

4.8

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5

The technical expertise provided by KINTEK's team was invaluable. They helped us optimize our sputtering process and achieve the desired results efficiently.

Ms. Emily Jones

4.9

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5

The CuNiIn granules we received from KINTEK were of exceptional quality and purity. They have significantly improved the performance of our sputtering system.

Dr. Francesco Rossi

4.7

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5

KINTEK's CuNiIn sputtering targets have enabled us to achieve remarkable results in our thin-film deposition experiments. Their high purity and uniformity have been key factors in our success.

Mr. Pedro Martinez

4.8

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5

The Copper Nickel Indium Alloy powders we procured from KINTEK were of exceptional quality and purity. They have greatly contributed to the success of our research projects.

Ms. Sofia Andersson

4.9

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5

We have been using KINTEK's CuNiIn materials for several years now and have been consistently impressed with their quality and performance. They have become an integral part of our research and development efforts.

Dr. Juan Garcia

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