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Cible de pulvérisation de tellurure de fer (FeTe) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Matériel de laboratoire

Cible de pulvérisation de tellurure de fer (FeTe) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Numéro d'article : LM-FeTe

Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations


Formule chimique
filles
Pureté
3n
Rapport couramment utilisé
Fe:Te=3:2 at%
Forme
disques / fil / bloc / poudre / plaques / cibles colonne / cible pas à pas / sur mesure
ISO & CE icon

Livraison:

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Nous fournissons des matériaux en tellurure de fer (FeTe) pour une utilisation en laboratoire à des prix compétitifs. Notre domaine d'expertise réside dans la fabrication et la personnalisation de matériaux en tellurure de fer (FeTe) avec différentes puretés, formes et tailles pour répondre à vos besoins spécifiques.

Nous proposons une large sélection de spécifications et de tailles pour les cibles de pulvérisation (circulaires, carrées, tubulaires, irrégulières), les matériaux de revêtement, les cylindres, les cônes, les particules, les feuilles, les poudres, les poudres d'impression 3D, les poudres nanométriques, les fils machine, les lingots et les blocs, entre autres.

Détails

Cible de pulvérisation en tellurure de fer (FeTe)
Cible de pulvérisation en tellurure de fer (FeTe)

À propos du tellurure de fer (FeTe)

Tellurure de fer (II) (FeTe), un produit cristallisé largement disponible dans la plupart des volumes.

Dans notre entreprise, nous proposons non seulement des matériaux FeTe standard, mais nous pouvons également produire des matériaux personnalisés adaptés à vos besoins et exigences spécifiques. Notre équipe d'experts peut fabriquer des matériaux FeTe selon vos spécifications personnalisées, vous permettant de profiter de nouvelles technologies exclusives et de compositions uniques pour des applications commerciales et de recherche.

Formas de metal disponibles

Detalles de formas de metal

Fabricamos casi todos los metales enumerados en la tabla periódica en una amplia gama de formas y purezas, así como en tamaños y dimensiones estándar. También podemos producir productos personalizados para cumplir con los requisitos específicos del cliente, como tamaño, forma, área de superficie, composición y más. La siguiente lista proporciona una muestra de los formularios que ofrecemos, pero no es exhaustiva. Si necesita consumibles de laboratorio, contáctenos directamente para solicitar una cotización.

  • Formas planas/planares: cartón, película, lámina, microlámina, microlámina, papel, placa, cinta, hoja, tira, cinta, oblea
  • Formas preformadas: ánodos, bolas, bandas, barras, botes, pernos, briquetas, cátodos, círculos, bobinas, crisoles, cristales, cubos, tazas, cilindros, discos, electrodos, fibras, filamentos, bridas, rejillas, lentes, mandriles, tuercas , Partes, Prismas, Discos, Anillos, Varillas, Formas, Escudos, Mangas, Resortes, Cuadrados, Objetivos de pulverización catódica, Palos, Tubos, Arandelas, Ventanas, Alambres
  • Microtamaños: Perlas, Bits, Cápsulas, Chips, Monedas, Polvo, Copos, Granos, Gránulos, Micropolvo, Agujas, Partículas, Guijarros, Pellets, Alfileres, Píldoras, Polvo, Virutas, Perdigones, Babosas, Esferas, Tabletas
  • Macrotamaños: palanquillas, trozos, esquejes, fragmentos, lingotes, terrones, pepitas, piezas, punzones, rocas, desechos, segmentos, virutas
  • Porosos y semiporosos: tela, espuma, gasa, nido de abeja, malla, esponja, lana
  • Nanoescala: nanopartículas, nanopolvos, nanoláminas, nanotubos, nanobarras, nanoprismas
  • Otros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Residuo, Muestras, Especímenes

KinTek se especializa en la fabricación de materiales de pureza ultra alta y alta con un rango de pureza de 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) y, en algunos casos, hasta 99,99999 % (7N). ). Nuestros materiales están disponibles en grados específicos, incluidos los grados UP/UHP, semiconductores, electrónicos, de deposición, de fibra óptica y MBE. Nuestros metales, óxidos y compuestos de alta pureza están diseñados específicamente para cumplir con las rigurosas demandas de las aplicaciones de alta tecnología y son ideales para usar como dopantes y materiales precursores para la deposición de películas delgadas, el crecimiento de cristales de semiconductores y la síntesis de nanomateriales. Estos materiales encuentran uso en microelectrónica avanzada, celdas solares, celdas de combustible, materiales ópticos y otras aplicaciones de vanguardia.

embalaje

Utilizamos envasado al vacío para nuestros materiales de alta pureza, y cada material tiene un embalaje específico adaptado a sus características únicas. Por ejemplo, nuestro objetivo de pulverización catódica Hf está etiquetado y etiquetado externamente para facilitar la identificación y el control de calidad eficientes. Tenemos mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda ocurrir durante el almacenamiento o el transporte.

Contrôle de la qualité des ingrédients

Analyse de la composition des matières premières
Grâce à l'utilisation d'équipements tels que l'ICP et le GDMS, la teneur en impuretés métalliques est détectée et analysée pour s'assurer qu'elle répond à la norme de pureté ;

Les impuretés non métalliques sont détectées par des équipements tels que des analyseurs de carbone et de soufre, des analyseurs d'azote et d'oxygène.
Analyse de détection de défauts métallographiques
Le matériau cible est inspecté à l'aide d'un équipement de détection des défauts pour s'assurer qu'il n'y a pas de défauts ou de trous de retrait à l'intérieur du produit ;

Grâce à des tests métallographiques, la structure granulaire interne du matériau cible est analysée pour s'assurer que les grains sont fins et denses.
Inspection de l'apparence et des dimensions
Les dimensions du produit sont mesurées à l'aide de micromètres et d'étriers de précision pour assurer la conformité aux dessins ;

L'état de surface et la propreté du produit sont mesurés à l'aide d'un mesureur de propreté de surface.

Tailles des cibles de pulvérisation conventionnelles

Processus de préparation
pressage isostatique à chaud, fusion sous vide, etc.
Forme de la cible de pulvérisation
cible de pulvérisation plane, cible de pulvérisation à arcs multiples, cible de pulvérisation par étapes, cible de pulvérisation de forme spéciale
Taille cible de pulvérisation ronde
Diamètre : 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Épaisseur : 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
La taille peut être personnalisée.
Taille cible de pulvérisation carrée
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, la taille peut être personnalisée
Voir plus de FAQ pour ce produit

4.7

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5

KinTek's Iron Telluride materials arrived promptly, and their quality is top-notch. Our research team is thrilled.

Marlee G., Finland

4.8

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The Iron Telluride (FeTe) sputtering target we got from KinTek is worth every penny! Excellent performance and durability!

Keanu W., Australia

4.9

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KinTek's commitment to quality is evident in their Iron Telluride products. Highly recommended for research and industrial applications.

Ayanna S., Canada

4.6

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KinTek's Iron Telluride materials are game-changers in our lab. Their exceptional purity and consistency make our experiments more reliable.

Mohammed M., Saudi Arabia

4.7

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We've been using KinTek's Iron Telluride (FeTe) sputtering targets for months, and they've consistently exceeded our expectations. Highly recommended!

Leticia P., Brazil

4.8

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5

KinTek's Iron Telluride materials are a testament to their expertise in materials science. Impeccable quality and prompt delivery.

Oliver B., Germany

4.9

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5

KinTek's Iron Telluride (FeTe) sputtering targets have revolutionized our thin-film research. Their consistency and reliability are unmatched.

Sakura H., Japan

4.7

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KinTek's Iron Telluride materials have enabled us to push the boundaries of our research. Their custom-tailored solutions are truly remarkable.

David A., United Kingdom

4.8

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5

KinTek's Iron Telluride (FeTe) sputtering targets are the gold standard in our lab. Their superior quality and performance make them an unbeatable choice.

Isabella L., Italy

4.9

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5

KinTek's Iron Telluride materials are a game-changer for our research. Their exceptional purity and consistency have taken our experiments to the next level.

Liam F., Ireland

4.6

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5

KinTek's Iron Telluride (FeTe) sputtering targets have transformed our thin-film deposition process. Their durability and reliability are simply outstanding.

Ethan H., United States

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