Produits Consommables et matériaux de laboratoire Matériel de laboratoire Cerium Fluoride (CeF3) Sputtering Target / Powder / Wire / Block / Granule
Cible de pulvérisation de fluorure de cérium (CeF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Matériel de laboratoire

Cible de pulvérisation de fluorure de cérium (CeF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Numéro d'article : LM-CeF3

Le prix varie en fonction de specs and customizations


Formule chimique
CeF3
Pureté
4N
Forme
disques / fil / bloc / poudre / plaques / cibles colonnes / cible pas à pas / sur mesure
ISO & CE icon

Livraison:

Contactez-nous pour obtenir les détails d'expédition. Profitez-en On-time Dispatch Guarantee.

Nous proposons des matériaux de fluorure de cérium (CeF3) pour une utilisation en laboratoire à des prix abordables. Notre spécialité est la production et la personnalisation de matériaux en fluorure de cérium (CeF3) avec différentes puretés, formes et tailles pour répondre à vos besoins spécifiques.

Nous fournissons une sélection variée de spécifications et de tailles pour les cibles de pulvérisation (y compris les formes circulaires, carrées, tubulaires et irrégulières), les matériaux de revêtement, les cylindres, les cônes, les particules, les feuilles, les poudres, les poudres d'impression 3D, les poudres nanométriques, les fils machine, les lingots, et blocs, entre autres.

Détails

Cible de pulvérisation de fluorure de cérium (CeF3)
Cible de pulvérisation de fluorure de cérium (CeF3)

À propos du fluorure de cérium (CeF3)

Le fluorure de cérium(III) (ou trifluorure de cérium), CeF3, est un composé ionique composé de cérium et de fluor, un métal de terre rare. La fluocérite-(Ce) est une espèce minérale rare à partir de laquelle CeF3 peut être extrait, et est principalement associée aux pegmatites et aux zones d'oxydation de certains gisements de minerais polymétalliques.

En plus de son utilisation en tant que minéral, CeF3 peut être utilisé comme matériau de rotateur de Faraday dans la gamme spectrale visible, proche infrarouge et infrarouge moyen. C'est également une source de cérium insoluble dans l'eau qui peut être appliquée dans des applications sensibles à l'oxygène, telles que la production de métaux.

Les composés fluorés, y compris CeF3, ont diverses applications dans les technologies et la science actuelles. Par exemple, le fluorure de magnésium a été utilisé dans la création d'un peigne de fréquence optique dans l'infrarouge moyen composé de microrésonateurs cristallins. Les fluorures sont également couramment utilisés dans les alliages de métaux et pour le dépôt optique.

Contrôle de la qualité des ingrédients

Analyse de la composition des matières premières
Grâce à l'utilisation d'équipements tels que l'ICP et le GDMS, la teneur en impuretés métalliques est détectée et analysée pour s'assurer qu'elle répond à la norme de pureté ;

Les impuretés non métalliques sont détectées par des équipements tels que des analyseurs de carbone et de soufre, des analyseurs d'azote et d'oxygène.
Analyse de détection de défauts métallographiques
Le matériau cible est inspecté à l'aide d'un équipement de détection des défauts pour s'assurer qu'il n'y a pas de défauts ou de trous de retrait à l'intérieur du produit ;

Grâce à des tests métallographiques, la structure granulaire interne du matériau cible est analysée pour s'assurer que les grains sont fins et denses.
Inspection de l'apparence et des dimensions
Les dimensions du produit sont mesurées à l'aide de micromètres et d'étriers de précision pour assurer la conformité aux dessins ;

L'état de surface et la propreté du produit sont mesurés à l'aide d'un mesureur de propreté de surface.

Tailles des cibles de pulvérisation conventionnelles

Processus de préparation
pressage isostatique à chaud, fusion sous vide, etc.
Forme de la cible de pulvérisation
cible de pulvérisation plane, cible de pulvérisation à arcs multiples, cible de pulvérisation par étapes, cible de pulvérisation de forme spéciale
Taille cible de pulvérisation ronde
Diamètre : 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Épaisseur : 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
La taille peut être personnalisée.
Taille cible de pulvérisation carrée
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, la taille peut être personnalisée

Formas de metal disponibles

Detalles de formas de metal

Fabricamos casi todos los metales enumerados en la tabla periódica en una amplia gama de formas y purezas, así como en tamaños y dimensiones estándar. También podemos producir productos personalizados para cumplir con los requisitos específicos del cliente, como tamaño, forma, área de superficie, composición y más. La siguiente lista proporciona una muestra de los formularios que ofrecemos, pero no es exhaustiva. Si necesita consumibles de laboratorio, contáctenos directamente para solicitar una cotización.

  • Formas planas/planares: cartón, película, lámina, microlámina, microlámina, papel, placa, cinta, hoja, tira, cinta, oblea
  • Formas preformadas: ánodos, bolas, bandas, barras, botes, pernos, briquetas, cátodos, círculos, bobinas, crisoles, cristales, cubos, tazas, cilindros, discos, electrodos, fibras, filamentos, bridas, rejillas, lentes, mandriles, tuercas , Partes, Prismas, Discos, Anillos, Varillas, Formas, Escudos, Mangas, Resortes, Cuadrados, Objetivos de pulverización catódica, Palos, Tubos, Arandelas, Ventanas, Alambres
  • Microtamaños: Perlas, Bits, Cápsulas, Chips, Monedas, Polvo, Copos, Granos, Gránulos, Micropolvo, Agujas, Partículas, Guijarros, Pellets, Alfileres, Píldoras, Polvo, Virutas, Perdigones, Babosas, Esferas, Tabletas
  • Macrotamaños: palanquillas, trozos, esquejes, fragmentos, lingotes, terrones, pepitas, piezas, punzones, rocas, desechos, segmentos, virutas
  • Porosos y semiporosos: tela, espuma, gasa, nido de abeja, malla, esponja, lana
  • Nanoescala: nanopartículas, nanopolvos, nanoláminas, nanotubos, nanobarras, nanoprismas
  • Otros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Residuo, Muestras, Especímenes

KinTek se especializa en la fabricación de materiales de pureza ultra alta y alta con un rango de pureza de 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) y, en algunos casos, hasta 99,99999 % (7N). ). Nuestros materiales están disponibles en grados específicos, incluidos los grados UP/UHP, semiconductores, electrónicos, de deposición, de fibra óptica y MBE. Nuestros metales, óxidos y compuestos de alta pureza están diseñados específicamente para cumplir con las rigurosas demandas de las aplicaciones de alta tecnología y son ideales para usar como dopantes y materiales precursores para la deposición de películas delgadas, el crecimiento de cristales de semiconductores y la síntesis de nanomateriales. Estos materiales encuentran uso en microelectrónica avanzada, celdas solares, celdas de combustible, materiales ópticos y otras aplicaciones de vanguardia.

embalaje

Utilizamos envasado al vacío para nuestros materiales de alta pureza, y cada material tiene un embalaje específico adaptado a sus características únicas. Por ejemplo, nuestro objetivo de pulverización catódica Hf está etiquetado y etiquetado externamente para facilitar la identificación y el control de calidad eficientes. Tenemos mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda ocurrir durante el almacenamiento o el transporte.

FAQ

Qu'est-ce que le dépôt physique en phase vapeur (PVD) ?

Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) est une technique de dépôt de couches minces en vaporisant un matériau solide sous vide puis en le déposant sur un substrat. Les revêtements PVD sont très durables, résistants aux rayures et à la corrosion, ce qui les rend idéaux pour une variété d'applications, des cellules solaires aux semi-conducteurs. Le PVD crée également des films minces qui peuvent résister à des températures élevées. Cependant, le PVD peut être coûteux et le coût varie en fonction de la méthode utilisée. Par exemple, l'évaporation est une méthode PVD peu coûteuse, tandis que la pulvérisation par faisceau d'ions est plutôt coûteuse. La pulvérisation magnétron, en revanche, est plus coûteuse mais plus évolutive.

Qu'est-ce que la cible de pulvérisation?

Une cible de pulvérisation est un matériau utilisé dans le processus de dépôt par pulvérisation, qui consiste à briser le matériau cible en minuscules particules qui forment un spray et recouvrent un substrat, tel qu'une plaquette de silicium. Les cibles de pulvérisation sont généralement des éléments métalliques ou des alliages, bien que certaines cibles en céramique soient disponibles. Ils sont disponibles dans une variété de tailles et de formes, certains fabricants créant des cibles segmentées pour les équipements de pulvérisation plus grands. Les cibles de pulvérisation ont une large gamme d'applications dans des domaines tels que la microélectronique, les cellules solaires à couches minces, l'optoélectronique et les revêtements décoratifs en raison de leur capacité à déposer des couches minces avec une grande précision et uniformité.

Que sont les matériaux de haute pureté ?

Les matériaux de haute pureté font référence à des substances exemptes d'impuretés et possédant un haut niveau d'homogénéité chimique. Ces matériaux sont essentiels dans diverses industries, notamment dans le domaine de l'électronique de pointe, où les impuretés peuvent affecter considérablement les performances des appareils. Les matériaux de haute pureté sont obtenus par diverses méthodes, y compris la purification chimique, le dépôt en phase vapeur et le raffinage de zone. Dans la préparation du diamant monocristallin de qualité électronique, par exemple, un gaz de matière première de haute pureté et un système de vide efficace sont nécessaires pour atteindre le niveau de pureté et d'homogénéité souhaité.

Qu'est-ce que la pulvérisation magnétron ?

La pulvérisation magnétron est une technique de revêtement à base de plasma utilisée pour produire des films très denses avec une excellente adhérence, ce qui en fait une méthode polyvalente pour créer des revêtements sur des matériaux qui ont des points de fusion élevés et ne peuvent pas être évaporés. Cette méthode génère un plasma magnétiquement confiné près de la surface d'une cible, où des ions énergétiques chargés positivement entrent en collision avec le matériau cible chargé négativement, provoquant l'éjection ou la "pulvérisation" des atomes. Ces atomes éjectés sont ensuite déposés sur un substrat ou une plaquette pour créer le revêtement souhaité.

Comment sont fabriquées les cibles de pulvérisation ?

Les cibles de pulvérisation sont fabriquées à l'aide de divers procédés de fabrication en fonction des propriétés du matériau cible et de son application. Celles-ci incluent la fusion et le laminage sous vide, le pressage à chaud, le procédé spécial de pressage fritté, le pressage à chaud sous vide et les méthodes de forgeage. La plupart des matériaux cibles de pulvérisation peuvent être fabriqués dans une large gamme de formes et de tailles, les formes circulaires ou rectangulaires étant les plus courantes. Les cibles sont généralement constituées d'éléments métalliques ou d'alliages, mais des cibles en céramique peuvent également être utilisées. Des cibles de pulvérisation composées sont également disponibles, fabriquées à partir d'une variété de composés, notamment des oxydes, des nitrures, des borures, des sulfures, des séléniures, des tellurures, des carbures, des mélanges cristallins et composites.

Pourquoi la pulvérisation magnétron ?

La pulvérisation magnétron est préférée en raison de sa capacité à obtenir une grande précision dans l'épaisseur du film et la densité des revêtements, surpassant les méthodes d'évaporation. Cette technique est particulièrement adaptée à la création de revêtements métalliques ou isolants aux propriétés optiques ou électriques particulières. De plus, les systèmes de pulvérisation magnétron peuvent être configurés avec plusieurs sources de magnétron.

A quoi sert la cible de pulvérisation ?

Les cibles de pulvérisation sont utilisées dans un processus appelé pulvérisation pour déposer des films minces d'un matériau sur un substrat en utilisant des ions pour bombarder la cible. Ces cibles ont une large gamme d'applications dans divers domaines, notamment la microélectronique, les cellules solaires à couches minces, l'optoélectronique et les revêtements décoratifs. Ils permettent le dépôt de couches minces de matériaux sur une variété de substrats avec une grande précision et uniformité, ce qui en fait un outil idéal pour produire des produits de précision. Les cibles de pulvérisation se présentent sous différentes formes et tailles et peuvent être spécialisées pour répondre aux exigences spécifiques de l'application.

Quels sont les matériaux utilisés dans le dépôt de couches minces ?

Le dépôt de couches minces utilise couramment des métaux, des oxydes et des composés comme matériaux, chacun avec ses avantages et ses inconvénients uniques. Les métaux sont préférés pour leur durabilité et leur facilité de dépôt mais sont relativement coûteux. Les oxydes sont très durables, peuvent résister à des températures élevées et peuvent se déposer à basse température, mais peuvent être cassants et difficiles à travailler. Les composés offrent résistance et durabilité, peuvent être déposés à basse température et adaptés pour présenter des propriétés spécifiques.

Le choix du matériau pour un revêtement en couche mince dépend des exigences de l'application. Les métaux sont idéaux pour la conduction thermique et électrique, tandis que les oxydes sont efficaces pour offrir une protection. Les composés peuvent être adaptés pour répondre à des besoins spécifiques. En fin de compte, le meilleur matériau pour un projet particulier dépendra des besoins spécifiques de l'application.

Que sont les cibles de pulvérisation pour l'électronique ?

Les cibles de pulvérisation pour l'électronique sont des disques minces ou des feuilles de matériaux tels que l'aluminium, le cuivre et le titane qui sont utilisés pour déposer des films minces sur des tranches de silicium afin de créer des dispositifs électroniques tels que des transistors, des diodes et des circuits intégrés. Ces cibles sont utilisées dans un processus appelé pulvérisation, dans lequel les atomes du matériau cible sont physiquement éjectés de la surface et déposés sur un substrat en bombardant la cible avec des ions. Les cibles de pulvérisation pour l'électronique sont essentielles dans la production de microélectronique et nécessitent généralement une précision et une uniformité élevées pour garantir des dispositifs de qualité.

Quelles sont les méthodes pour obtenir un dépôt optimal de couches minces ?

Pour obtenir des films minces aux propriétés souhaitables, des cibles de pulvérisation et des matériaux d'évaporation de haute qualité sont essentiels. La qualité de ces matériaux peut être influencée par divers facteurs, tels que la pureté, la granulométrie et l'état de surface.

La pureté des cibles de pulvérisation ou des matériaux d'évaporation joue un rôle crucial, car les impuretés peuvent provoquer des défauts dans le film mince résultant. La taille des grains affecte également la qualité du film mince, des grains plus gros entraînant de mauvaises propriétés du film. De plus, l'état de surface est crucial, car les surfaces rugueuses peuvent entraîner des défauts dans le film.

Pour atteindre des cibles de pulvérisation et des matériaux d'évaporation de la plus haute qualité, il est crucial de sélectionner des matériaux qui possèdent une grande pureté, une petite taille de grain et des surfaces lisses.

Utilisations du dépôt de couches minces

Films minces à base d'oxyde de zinc

Les couches minces de ZnO trouvent des applications dans plusieurs industries telles que la thermique, l'optique, le magnétique et l'électricité, mais leur utilisation principale est dans les revêtements et les dispositifs à semi-conducteurs.

Résistances à couches minces

Les résistances à couches minces sont cruciales pour la technologie moderne et sont utilisées dans les récepteurs radio, les circuits imprimés, les ordinateurs, les appareils à radiofréquence, les moniteurs, les routeurs sans fil, les modules Bluetooth et les récepteurs de téléphones portables.

Couches Minces Magnétiques

Les couches minces magnétiques sont utilisées dans l'électronique, le stockage de données, l'identification par radiofréquence, les dispositifs à micro-ondes, les écrans, les cartes de circuits imprimés et l'optoélectronique en tant que composants clés.

Couches minces optiques

Les revêtements optiques et l'optoélectronique sont des applications standard des couches minces optiques. L'épitaxie par faisceau moléculaire peut produire des dispositifs optoélectroniques à couches minces (semi-conducteurs), où les films épitaxiaux sont déposés un atome à la fois sur le substrat.

Films minces polymères

Les couches minces de polymère sont utilisées dans les puces de mémoire, les cellules solaires et les appareils électroniques. Les techniques de dépôt chimique (CVD) offrent un contrôle précis des revêtements de film polymère, y compris la conformité et l'épaisseur du revêtement.

Batteries à couches minces

Les batteries à couches minces alimentent les appareils électroniques tels que les dispositifs médicaux implantables, et la batterie lithium-ion a considérablement progressé grâce à l'utilisation de couches minces.

Revêtements à couche mince

Les revêtements en couches minces améliorent les caractéristiques chimiques et mécaniques des matériaux cibles dans diverses industries et domaines technologiques. Les revêtements antireflets, les revêtements anti-ultraviolets ou anti-infrarouges, les revêtements anti-rayures et la polarisation des lentilles en sont des exemples courants.

Cellules solaires à couche mince

Les cellules solaires à couches minces sont essentielles à l'industrie de l'énergie solaire, permettant la production d'électricité relativement bon marché et propre. Les systèmes photovoltaïques et l'énergie thermique sont les deux principales technologies applicables.

Quelle est la durée de vie d'une cible de pulvérisation ?

La durée de vie d'une cible de pulvérisation dépend de facteurs tels que la composition du matériau, sa pureté et l'application spécifique pour laquelle elle est utilisée. Généralement, les cibles peuvent durer plusieurs centaines à quelques milliers d'heures de pulvérisation, mais cela peut varier considérablement en fonction des conditions spécifiques de chaque cycle. Une manipulation et un entretien appropriés peuvent également prolonger la durée de vie d'une cible. De plus, l'utilisation de cibles de pulvérisation rotative peut augmenter les durées d'exécution et réduire l'apparition de défauts, ce qui en fait une option plus rentable pour les processus à volume élevé.

Facteurs et paramètres qui influencent le dépôt de couches minces

Taux de dépôt :

La vitesse à laquelle le film est produit, généralement mesurée en épaisseur divisée par le temps, est cruciale pour sélectionner une technologie adaptée à l'application. Des taux de dépôt modérés sont suffisants pour les films minces, tandis que des taux de dépôt rapides sont nécessaires pour les films épais. Il est important de trouver un équilibre entre la vitesse et le contrôle précis de l'épaisseur du film.

Uniformité:

La consistance du film à travers le substrat est connue sous le nom d'uniformité, qui fait généralement référence à l'épaisseur du film, mais peut également être liée à d'autres propriétés telles que l'indice de réfraction. Il est important d'avoir une bonne compréhension de l'application pour éviter de sous-spécifier ou de sur-spécifier l'uniformité.

Capacité de remplissage :

La capacité de remplissage ou la couverture des étapes fait référence à la façon dont le processus de dépôt couvre la topographie du substrat. La méthode de dépôt utilisée (par exemple, CVD, PVD, IBD ou ALD) a un impact significatif sur la couverture et le remplissage des étapes.

Caractéristiques du film :

Les caractéristiques du film dépendent des exigences de l'application, qui peuvent être classées comme photoniques, optiques, électroniques, mécaniques ou chimiques. La plupart des films doivent satisfaire aux exigences dans plus d'une catégorie.

Température de processus :

Les caractéristiques du film sont considérablement affectées par la température du procédé, qui peut être limitée par l'application.

Dommage:

Chaque technologie de dépôt a le potentiel d'endommager le matériau sur lequel elle est déposée, les éléments plus petits étant plus susceptibles d'être endommagés par le processus. La pollution, le rayonnement UV et le bombardement ionique font partie des sources potentielles de dommages. Il est crucial de comprendre les limites des matériaux et des outils.

Voir plus de FAQ pour ce produit

4.9

out of

5

KINTEK SOLUTION's Cerium Fluoride materials have been a game-changer for my research. Their purity and consistency have enabled me to achieve remarkable results in my experiments.

Carlos Martin

4.8

out of

5

The quality of KINTEK SOLUTION's Cerium Fluoride is exceptional. I've used their products for various projects, and they've always exceeded my expectations.

Sophia Williams

4.7

out of

5

KINTEK SOLUTION's Cerium Fluoride materials are top-notch. They're reliable, consistent, and highly effective. I highly recommend them to anyone working in the field.

David Johnson

4.9

out of

5

KINTEK SOLUTION's Cerium Fluoride products are a must-have for any laboratory. Their purity and consistency ensure accurate and reproducible results.

Isabella Garcia

4.8

out of

5

I've been using KINTEK SOLUTION's Cerium Fluoride materials for years, and I've always been impressed with their quality and performance. They're the best in the market.

Liam Brown

4.7

out of

5

KINTEK SOLUTION's Cerium Fluoride products are a valuable asset to my laboratory. They've helped me achieve significant breakthroughs in my research.

Emma Jones

4.9

out of

5

The purity and consistency of KINTEK SOLUTION's Cerium Fluoride materials are unmatched. They're an essential part of my research, and I couldn't imagine working without them.

Oliver Smith

4.8

out of

5

KINTEK SOLUTION's Cerium Fluoride products are a game-changer for my research. They've enabled me to achieve remarkable results and gain valuable insights.

Hannah Johnson

4.7

out of

5

The quality and reliability of KINTEK SOLUTION's Cerium Fluoride materials are exceptional. They're a trusted partner for my research needs.

Jacob Williams

4.9

out of

5

KINTEK SOLUTION's Cerium Fluoride products are a must-have for any laboratory. They're the best in the market and have helped me achieve groundbreaking results.

Amelia Brown

4.8

out of

5

The purity and consistency of KINTEK SOLUTION's Cerium Fluoride materials are unmatched. They're an essential part of my research, and I couldn't imagine working without them.

Lucas Jones

4.7

out of

5

KINTEK SOLUTION's Cerium Fluoride products are a valuable asset to my laboratory. They've helped me achieve significant breakthroughs in my research.

Harper Smith

4.9

out of

5

The quality and reliability of KINTEK SOLUTION's Cerium Fluoride materials are exceptional. They're a trusted partner for my research needs.

Ethan Johnson

4.8

out of

5

KINTEK SOLUTION's Cerium Fluoride products are a game-changer for my research. They've enabled me to achieve remarkable results and gain valuable insights.

Isabella Garcia

PDF of LM-CeF3

Télécharger

Catalogue de Matériel De Laboratoire

Télécharger

Catalogue de Cibles De Pulvérisation

Télécharger

Catalogue de Matériaux De Haute Pureté

Télécharger

Catalogue de Matériaux De Dépôt De Couches Minces

Télécharger

RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team di professionisti ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitate a contattarci!

Produits associés

Cible de pulvérisation de cérium (Ce) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule

Cible de pulvérisation de cérium (Ce) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule

Vous recherchez des matériaux de haute qualité en cérium (Ce) pour votre laboratoire ? Notre expertise réside dans la production et la personnalisation de matériaux de différentes puretés, formes et tailles pour répondre à vos besoins uniques. Nous proposons une gamme de spécifications et de tailles, y compris des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres, etc., le tout à des prix raisonnables.

Cible de pulvérisation de fluorure d'erbium (ErF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure d'erbium (ErF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Achetez des matériaux de fluorure d'erbium (ErF3) de puretés, de formes et de tailles variées pour une utilisation en laboratoire. Nos produits comprennent des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres, etc. Naviguez maintenant !

Cible de pulvérisation de fluorure de calcium (CaF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure de calcium (CaF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure de calcium de haute qualité pour une utilisation en laboratoire ? Notre équipe d'experts adapte différentes puretés, formes et tailles pour répondre à vos besoins spécifiques. Parcourez notre gamme de cibles de pulvérisation, de matériaux de revêtement, de poudres, etc. Obtenez un devis aujourd'hui.

Cible de pulvérisation d'oxyde de cérium de grande pureté (CeO2)/poudre/fil/bloc/granule

Cible de pulvérisation d'oxyde de cérium de grande pureté (CeO2)/poudre/fil/bloc/granule

Matériaux d'oxyde de cérium (CeO2) de haute qualité pour une utilisation en laboratoire à des prix abordables. Formes et tailles personnalisables. Cibles de pulvérisation, poudres, poudres d'impression 3D et plus encore. Commandez maintenant!

Cible de pulvérisation de fluorure d'ytterbium (YbF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure d'ytterbium (YbF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Achetez des matériaux de fluorure d'ytterbium (YbF3) de haute qualité pour vos besoins de laboratoire à des prix abordables. Nous proposons des formes et des tailles personnalisées, y compris des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres, etc. Contactez-nous aujourd'hui!

Cible de pulvérisation de fluorure d'yttrium (YF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure d'yttrium (YF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure d'yttrium (YF3) de haute qualité pour une utilisation en laboratoire ? Nos prix abordables et notre expertise dans la production de formes et de tailles personnalisées font de nous le choix idéal. Achetez des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres et plus encore aujourd'hui.

Fluorure de néodyme (NdF3) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Fluorure de néodyme (NdF3) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure de néodyme (NdF3) pour votre laboratoire ? Nous proposons une large gamme d'options, des cibles de pulvérisation aux poudres, toutes personnalisables pour répondre à vos besoins uniques. Découvrez dès maintenant nos prix abordables.

Cible de pulvérisation de fluorure de strontium (SrF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure de strontium (SrF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure de strontium (SrF2) pour votre laboratoire ? Cherchez pas plus loin! Nous proposons une gamme de tailles et de puretés, y compris des cibles de pulvérisation, des revêtements, etc. Commandez maintenant à des prix raisonnables.

Cible de pulvérisation de fluorure de sodium (NaF) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure de sodium (NaF) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure de sodium (NaF) ? Nous proposons des solutions sur mesure de différentes puretés, formes et tailles à des prix abordables. Trouvez des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres, etc. Contactez-nous aujourd'hui.

Cible de pulvérisation de fluorure de lanthane (LaF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure de lanthane (LaF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux abordables en titanate de baryum (LaF3) pour votre laboratoire ? Nos solutions sur mesure répondent à vos besoins uniques, avec une large gamme de formes, de tailles et de puretés disponibles. Découvrez notre sélection de cibles de pulvérisation, de matériaux de revêtement, de poudres et plus encore.

Cible de pulvérisation de fluorure de magnésium (MgF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure de magnésium (MgF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure de magnésium (MgF2) de haute qualité pour les besoins de votre laboratoire ? Cherchez pas plus loin! Nos matériaux sur mesure sont disponibles dans une gamme de puretés, de formes et de tailles pour répondre à vos besoins spécifiques. Achetez maintenant des cibles de pulvérisation, des poudres, des lingots et plus encore.

Fluorure de dysprosium (DyF3) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Fluorure de dysprosium (DyF3) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure de dysprosium (DyF3) pour votre laboratoire ? Nous produisons et personnalisons des matériaux DyF3 de différentes puretés, formes et tailles à des prix raisonnables. Trouvez des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres, etc. Contactez-nous aujourd'hui.

Fluorure de samarium (SmF3) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Fluorure de samarium (SmF3) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure de samarium (SmF3) de haute qualité pour votre laboratoire ? Cherchez pas plus loin! Nos solutions sur mesure sont disponibles dans une gamme de puretés, de formes et de tailles pour répondre à vos besoins uniques. Contactez-nous aujourd'hui!

Substrat CaF2 / fenêtre / lentille

Substrat CaF2 / fenêtre / lentille

Une fenêtre CaF2 est une fenêtre optique constituée de fluorure de calcium cristallin. Ces fenêtres sont polyvalentes, stables dans l'environnement et résistantes aux dommages causés par le laser, et elles présentent une transmission élevée et stable de 200 nm à environ 7 μm.

Cible de pulvérisation de fluorure de baryum (BaF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure de baryum (BaF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Achetez des matériaux de fluorure de baryum (BaF2) à des prix abordables. Nous nous adaptons à vos besoins avec une gamme de cibles de pulvérisation, de matériaux de revêtement, de poudres, etc. Commandez maintenant.

Cible de pulvérisation de fluorure de potassium (KF) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure de potassium (KF) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Obtenez des matériaux de fluorure de potassium (KF) de qualité supérieure pour les besoins de votre laboratoire à des prix avantageux. Nos puretés, formes et tailles sur mesure répondent à vos besoins uniques. Trouvez des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement et plus encore.