Produits Consommables et matériaux de laboratoire Matériel de laboratoire Lanthanum Fluoride (LaF3) Sputtering Target / Powder / Wire / Block / Granule
Cible de pulvérisation de fluorure de lanthane (LaF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Matériel de laboratoire

Cible de pulvérisation de fluorure de lanthane (LaF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Numéro d'article : LM-LaF3

Le prix varie en fonction de specs and customizations


Formule chimique
LaF3
Pureté
3n
Forme
disques / fil / bloc / poudre / plaques / cibles colonnes / cible pas à pas / sur mesure
ISO & CE icon

Livraison:

Contactez-nous pour obtenir les détails d'expédition. Profitez-en On-time Dispatch Guarantee.

Nous proposons des matériaux de copie de titanate de baryum (LaF3) pour une utilisation en laboratoire à des prix raisonnables. Notre expertise réside dans la production et l'adaptation de ces matériaux à différentes puretés, formes et tailles pour répondre à vos besoins uniques.

Notre gamme de produits comprend une variété de spécifications et de tailles pour les cibles de pulvérisation (circulaires, carrées, tubulaires, irrégulières), les matériaux de revêtement, les cylindres, les cônes, les particules, les feuilles, les poudres, les poudres d'impression 3D, les poudres nanométriques, les fils machine, les lingots, les blocs, et plus.

Détails

Cible de pulvérisation de fluorure de lanthane (LaF3)
Cible de pulvérisation de fluorure de lanthane (LaF3)

À propos du titanate de baryum (LaF3)

Le fluorure de lanthane est un composé insoluble dans l'eau couramment utilisé dans les applications sensibles à l'oxygène telles que la production de métaux. Les composés fluorés sont largement utilisés dans diverses technologies et sciences, notamment le raffinage du pétrole, la gravure, la chimie organique synthétique et les produits pharmaceutiques.

Le fluorure de magnésium, par exemple, a été utilisé pour créer un peigne de fréquence optique dans l'infrarouge moyen composé de microrésonateurs cristallins en 2013. Ce développement pourrait conduire à de futures avancées en spectroscopie moléculaire. Les fluorures sont également utilisés pour l'alliage des métaux et le dépôt optique.

Le fluorure de lanthane est généralement disponible dans la plupart des volumes et est proposé dans des compositions ultra-pures et ultra-pures qui améliorent à la fois la qualité optique et l'utilité en tant que normes scientifiques. Des poudres et suspensions élémentaires à l'échelle nanométrique sont également disponibles sous des formes alternatives à grande surface.

Ce sel blanc est parfois utilisé comme composant "à indice élevé" dans les éléments optiques multicouches tels que les miroirs dichroïques ultraviolets et à bande étroite. Les fluorures sont parmi les composés les plus couramment utilisés pour les revêtements optiques UV en raison de leur relative inertie et de leur transparence dans l'ultraviolet lointain (FUV) (100 nm < λ < 200 nm). Le LaF3 est l'un des rares matériaux à haut indice dans l'UV lointain. Le matériau est également un composant de verres fluorés multimétalliques tels que ZBLAN. De plus, il est dopé au fluorure d'europium (II) dans les électrodes sélectives au fluorure.

Contrôle de la qualité des ingrédients

Analyse de la composition des matières premières
Grâce à l'utilisation d'équipements tels que l'ICP et le GDMS, la teneur en impuretés métalliques est détectée et analysée pour s'assurer qu'elle répond à la norme de pureté ;

Les impuretés non métalliques sont détectées par des équipements tels que des analyseurs de carbone et de soufre, des analyseurs d'azote et d'oxygène.
Analyse de détection de défauts métallographiques
Le matériau cible est inspecté à l'aide d'un équipement de détection des défauts pour s'assurer qu'il n'y a pas de défauts ou de trous de retrait à l'intérieur du produit ;

Grâce à des tests métallographiques, la structure granulaire interne du matériau cible est analysée pour s'assurer que les grains sont fins et denses.
Inspection de l'apparence et des dimensions
Les dimensions du produit sont mesurées à l'aide de micromètres et d'étriers de précision pour assurer la conformité aux dessins ;

L'état de surface et la propreté du produit sont mesurés à l'aide d'un mesureur de propreté de surface.

Tailles des cibles de pulvérisation conventionnelles

Processus de préparation
pressage isostatique à chaud, fusion sous vide, etc.
Forme de la cible de pulvérisation
cible de pulvérisation plane, cible de pulvérisation à arcs multiples, cible de pulvérisation par étapes, cible de pulvérisation de forme spéciale
Taille cible de pulvérisation ronde
Diamètre : 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Épaisseur : 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
La taille peut être personnalisée.
Taille cible de pulvérisation carrée
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, la taille peut être personnalisée

Formas de metal disponibles

Detalles de formas de metal

Fabricamos casi todos los metales enumerados en la tabla periódica en una amplia gama de formas y purezas, así como en tamaños y dimensiones estándar. También podemos producir productos personalizados para cumplir con los requisitos específicos del cliente, como tamaño, forma, área de superficie, composición y más. La siguiente lista proporciona una muestra de los formularios que ofrecemos, pero no es exhaustiva. Si necesita consumibles de laboratorio, contáctenos directamente para solicitar una cotización.

  • Formas planas/planares: cartón, película, lámina, microlámina, microlámina, papel, placa, cinta, hoja, tira, cinta, oblea
  • Formas preformadas: ánodos, bolas, bandas, barras, botes, pernos, briquetas, cátodos, círculos, bobinas, crisoles, cristales, cubos, tazas, cilindros, discos, electrodos, fibras, filamentos, bridas, rejillas, lentes, mandriles, tuercas , Partes, Prismas, Discos, Anillos, Varillas, Formas, Escudos, Mangas, Resortes, Cuadrados, Objetivos de pulverización catódica, Palos, Tubos, Arandelas, Ventanas, Alambres
  • Microtamaños: Perlas, Bits, Cápsulas, Chips, Monedas, Polvo, Copos, Granos, Gránulos, Micropolvo, Agujas, Partículas, Guijarros, Pellets, Alfileres, Píldoras, Polvo, Virutas, Perdigones, Babosas, Esferas, Tabletas
  • Macrotamaños: palanquillas, trozos, esquejes, fragmentos, lingotes, terrones, pepitas, piezas, punzones, rocas, desechos, segmentos, virutas
  • Porosos y semiporosos: tela, espuma, gasa, nido de abeja, malla, esponja, lana
  • Nanoescala: nanopartículas, nanopolvos, nanoláminas, nanotubos, nanobarras, nanoprismas
  • Otros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Residuo, Muestras, Especímenes

KinTek se especializa en la fabricación de materiales de pureza ultra alta y alta con un rango de pureza de 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) y, en algunos casos, hasta 99,99999 % (7N). ). Nuestros materiales están disponibles en grados específicos, incluidos los grados UP/UHP, semiconductores, electrónicos, de deposición, de fibra óptica y MBE. Nuestros metales, óxidos y compuestos de alta pureza están diseñados específicamente para cumplir con las rigurosas demandas de las aplicaciones de alta tecnología y son ideales para usar como dopantes y materiales precursores para la deposición de películas delgadas, el crecimiento de cristales de semiconductores y la síntesis de nanomateriales. Estos materiales encuentran uso en microelectrónica avanzada, celdas solares, celdas de combustible, materiales ópticos y otras aplicaciones de vanguardia.

embalaje

Utilizamos envasado al vacío para nuestros materiales de alta pureza, y cada material tiene un embalaje específico adaptado a sus características únicas. Por ejemplo, nuestro objetivo de pulverización catódica Hf está etiquetado y etiquetado externamente para facilitar la identificación y el control de calidad eficientes. Tenemos mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda ocurrir durante el almacenamiento o el transporte.

FAQ

Qu'est-ce que le dépôt physique en phase vapeur (PVD) ?

Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) est une technique de dépôt de couches minces en vaporisant un matériau solide sous vide puis en le déposant sur un substrat. Les revêtements PVD sont très durables, résistants aux rayures et à la corrosion, ce qui les rend idéaux pour une variété d'applications, des cellules solaires aux semi-conducteurs. Le PVD crée également des films minces qui peuvent résister à des températures élevées. Cependant, le PVD peut être coûteux et le coût varie en fonction de la méthode utilisée. Par exemple, l'évaporation est une méthode PVD peu coûteuse, tandis que la pulvérisation par faisceau d'ions est plutôt coûteuse. La pulvérisation magnétron, en revanche, est plus coûteuse mais plus évolutive.

Qu'est-ce que la cible de pulvérisation?

Une cible de pulvérisation est un matériau utilisé dans le processus de dépôt par pulvérisation, qui consiste à briser le matériau cible en minuscules particules qui forment un spray et recouvrent un substrat, tel qu'une plaquette de silicium. Les cibles de pulvérisation sont généralement des éléments métalliques ou des alliages, bien que certaines cibles en céramique soient disponibles. Ils sont disponibles dans une variété de tailles et de formes, certains fabricants créant des cibles segmentées pour les équipements de pulvérisation plus grands. Les cibles de pulvérisation ont une large gamme d'applications dans des domaines tels que la microélectronique, les cellules solaires à couches minces, l'optoélectronique et les revêtements décoratifs en raison de leur capacité à déposer des couches minces avec une grande précision et uniformité.

Que sont les matériaux de haute pureté ?

Les matériaux de haute pureté font référence à des substances exemptes d'impuretés et possédant un haut niveau d'homogénéité chimique. Ces matériaux sont essentiels dans diverses industries, notamment dans le domaine de l'électronique de pointe, où les impuretés peuvent affecter considérablement les performances des appareils. Les matériaux de haute pureté sont obtenus par diverses méthodes, y compris la purification chimique, le dépôt en phase vapeur et le raffinage de zone. Dans la préparation du diamant monocristallin de qualité électronique, par exemple, un gaz de matière première de haute pureté et un système de vide efficace sont nécessaires pour atteindre le niveau de pureté et d'homogénéité souhaité.

Qu'est-ce que la pulvérisation magnétron ?

La pulvérisation magnétron est une technique de revêtement à base de plasma utilisée pour produire des films très denses avec une excellente adhérence, ce qui en fait une méthode polyvalente pour créer des revêtements sur des matériaux qui ont des points de fusion élevés et ne peuvent pas être évaporés. Cette méthode génère un plasma magnétiquement confiné près de la surface d'une cible, où des ions énergétiques chargés positivement entrent en collision avec le matériau cible chargé négativement, provoquant l'éjection ou la "pulvérisation" des atomes. Ces atomes éjectés sont ensuite déposés sur un substrat ou une plaquette pour créer le revêtement souhaité.

Comment sont fabriquées les cibles de pulvérisation ?

Les cibles de pulvérisation sont fabriquées à l'aide de divers procédés de fabrication en fonction des propriétés du matériau cible et de son application. Celles-ci incluent la fusion et le laminage sous vide, le pressage à chaud, le procédé spécial de pressage fritté, le pressage à chaud sous vide et les méthodes de forgeage. La plupart des matériaux cibles de pulvérisation peuvent être fabriqués dans une large gamme de formes et de tailles, les formes circulaires ou rectangulaires étant les plus courantes. Les cibles sont généralement constituées d'éléments métalliques ou d'alliages, mais des cibles en céramique peuvent également être utilisées. Des cibles de pulvérisation composées sont également disponibles, fabriquées à partir d'une variété de composés, notamment des oxydes, des nitrures, des borures, des sulfures, des séléniures, des tellurures, des carbures, des mélanges cristallins et composites.

Pourquoi la pulvérisation magnétron ?

La pulvérisation magnétron est préférée en raison de sa capacité à obtenir une grande précision dans l'épaisseur du film et la densité des revêtements, surpassant les méthodes d'évaporation. Cette technique est particulièrement adaptée à la création de revêtements métalliques ou isolants aux propriétés optiques ou électriques particulières. De plus, les systèmes de pulvérisation magnétron peuvent être configurés avec plusieurs sources de magnétron.

A quoi sert la cible de pulvérisation ?

Les cibles de pulvérisation sont utilisées dans un processus appelé pulvérisation pour déposer des films minces d'un matériau sur un substrat en utilisant des ions pour bombarder la cible. Ces cibles ont une large gamme d'applications dans divers domaines, notamment la microélectronique, les cellules solaires à couches minces, l'optoélectronique et les revêtements décoratifs. Ils permettent le dépôt de couches minces de matériaux sur une variété de substrats avec une grande précision et uniformité, ce qui en fait un outil idéal pour produire des produits de précision. Les cibles de pulvérisation se présentent sous différentes formes et tailles et peuvent être spécialisées pour répondre aux exigences spécifiques de l'application.

Quels sont les matériaux utilisés dans le dépôt de couches minces ?

Le dépôt de couches minces utilise couramment des métaux, des oxydes et des composés comme matériaux, chacun avec ses avantages et ses inconvénients uniques. Les métaux sont préférés pour leur durabilité et leur facilité de dépôt mais sont relativement coûteux. Les oxydes sont très durables, peuvent résister à des températures élevées et peuvent se déposer à basse température, mais peuvent être cassants et difficiles à travailler. Les composés offrent résistance et durabilité, peuvent être déposés à basse température et adaptés pour présenter des propriétés spécifiques.

Le choix du matériau pour un revêtement en couche mince dépend des exigences de l'application. Les métaux sont idéaux pour la conduction thermique et électrique, tandis que les oxydes sont efficaces pour offrir une protection. Les composés peuvent être adaptés pour répondre à des besoins spécifiques. En fin de compte, le meilleur matériau pour un projet particulier dépendra des besoins spécifiques de l'application.

Que sont les cibles de pulvérisation pour l'électronique ?

Les cibles de pulvérisation pour l'électronique sont des disques minces ou des feuilles de matériaux tels que l'aluminium, le cuivre et le titane qui sont utilisés pour déposer des films minces sur des tranches de silicium afin de créer des dispositifs électroniques tels que des transistors, des diodes et des circuits intégrés. Ces cibles sont utilisées dans un processus appelé pulvérisation, dans lequel les atomes du matériau cible sont physiquement éjectés de la surface et déposés sur un substrat en bombardant la cible avec des ions. Les cibles de pulvérisation pour l'électronique sont essentielles dans la production de microélectronique et nécessitent généralement une précision et une uniformité élevées pour garantir des dispositifs de qualité.

Quelles sont les méthodes pour obtenir un dépôt optimal de couches minces ?

Pour obtenir des films minces aux propriétés souhaitables, des cibles de pulvérisation et des matériaux d'évaporation de haute qualité sont essentiels. La qualité de ces matériaux peut être influencée par divers facteurs, tels que la pureté, la granulométrie et l'état de surface.

La pureté des cibles de pulvérisation ou des matériaux d'évaporation joue un rôle crucial, car les impuretés peuvent provoquer des défauts dans le film mince résultant. La taille des grains affecte également la qualité du film mince, des grains plus gros entraînant de mauvaises propriétés du film. De plus, l'état de surface est crucial, car les surfaces rugueuses peuvent entraîner des défauts dans le film.

Pour atteindre des cibles de pulvérisation et des matériaux d'évaporation de la plus haute qualité, il est crucial de sélectionner des matériaux qui possèdent une grande pureté, une petite taille de grain et des surfaces lisses.

Utilisations du dépôt de couches minces

Films minces à base d'oxyde de zinc

Les couches minces de ZnO trouvent des applications dans plusieurs industries telles que la thermique, l'optique, le magnétique et l'électricité, mais leur utilisation principale est dans les revêtements et les dispositifs à semi-conducteurs.

Résistances à couches minces

Les résistances à couches minces sont cruciales pour la technologie moderne et sont utilisées dans les récepteurs radio, les circuits imprimés, les ordinateurs, les appareils à radiofréquence, les moniteurs, les routeurs sans fil, les modules Bluetooth et les récepteurs de téléphones portables.

Couches Minces Magnétiques

Les couches minces magnétiques sont utilisées dans l'électronique, le stockage de données, l'identification par radiofréquence, les dispositifs à micro-ondes, les écrans, les cartes de circuits imprimés et l'optoélectronique en tant que composants clés.

Couches minces optiques

Les revêtements optiques et l'optoélectronique sont des applications standard des couches minces optiques. L'épitaxie par faisceau moléculaire peut produire des dispositifs optoélectroniques à couches minces (semi-conducteurs), où les films épitaxiaux sont déposés un atome à la fois sur le substrat.

Films minces polymères

Les couches minces de polymère sont utilisées dans les puces de mémoire, les cellules solaires et les appareils électroniques. Les techniques de dépôt chimique (CVD) offrent un contrôle précis des revêtements de film polymère, y compris la conformité et l'épaisseur du revêtement.

Batteries à couches minces

Les batteries à couches minces alimentent les appareils électroniques tels que les dispositifs médicaux implantables, et la batterie lithium-ion a considérablement progressé grâce à l'utilisation de couches minces.

Revêtements à couche mince

Les revêtements en couches minces améliorent les caractéristiques chimiques et mécaniques des matériaux cibles dans diverses industries et domaines technologiques. Les revêtements antireflets, les revêtements anti-ultraviolets ou anti-infrarouges, les revêtements anti-rayures et la polarisation des lentilles en sont des exemples courants.

Cellules solaires à couche mince

Les cellules solaires à couches minces sont essentielles à l'industrie de l'énergie solaire, permettant la production d'électricité relativement bon marché et propre. Les systèmes photovoltaïques et l'énergie thermique sont les deux principales technologies applicables.

Quelle est la durée de vie d'une cible de pulvérisation ?

La durée de vie d'une cible de pulvérisation dépend de facteurs tels que la composition du matériau, sa pureté et l'application spécifique pour laquelle elle est utilisée. Généralement, les cibles peuvent durer plusieurs centaines à quelques milliers d'heures de pulvérisation, mais cela peut varier considérablement en fonction des conditions spécifiques de chaque cycle. Une manipulation et un entretien appropriés peuvent également prolonger la durée de vie d'une cible. De plus, l'utilisation de cibles de pulvérisation rotative peut augmenter les durées d'exécution et réduire l'apparition de défauts, ce qui en fait une option plus rentable pour les processus à volume élevé.

Facteurs et paramètres qui influencent le dépôt de couches minces

Taux de dépôt :

La vitesse à laquelle le film est produit, généralement mesurée en épaisseur divisée par le temps, est cruciale pour sélectionner une technologie adaptée à l'application. Des taux de dépôt modérés sont suffisants pour les films minces, tandis que des taux de dépôt rapides sont nécessaires pour les films épais. Il est important de trouver un équilibre entre la vitesse et le contrôle précis de l'épaisseur du film.

Uniformité:

La consistance du film à travers le substrat est connue sous le nom d'uniformité, qui fait généralement référence à l'épaisseur du film, mais peut également être liée à d'autres propriétés telles que l'indice de réfraction. Il est important d'avoir une bonne compréhension de l'application pour éviter de sous-spécifier ou de sur-spécifier l'uniformité.

Capacité de remplissage :

La capacité de remplissage ou la couverture des étapes fait référence à la façon dont le processus de dépôt couvre la topographie du substrat. La méthode de dépôt utilisée (par exemple, CVD, PVD, IBD ou ALD) a un impact significatif sur la couverture et le remplissage des étapes.

Caractéristiques du film :

Les caractéristiques du film dépendent des exigences de l'application, qui peuvent être classées comme photoniques, optiques, électroniques, mécaniques ou chimiques. La plupart des films doivent satisfaire aux exigences dans plus d'une catégorie.

Température de processus :

Les caractéristiques du film sont considérablement affectées par la température du procédé, qui peut être limitée par l'application.

Dommage:

Chaque technologie de dépôt a le potentiel d'endommager le matériau sur lequel elle est déposée, les éléments plus petits étant plus susceptibles d'être endommagés par le processus. La pollution, le rayonnement UV et le bombardement ionique font partie des sources potentielles de dommages. Il est crucial de comprendre les limites des matériaux et des outils.

Voir plus de FAQ pour ce produit

4.9

out of

5

KINTEK SOLUTION offers high-quality lanthanum fluoride products at competitive prices. Their custom design options are a big plus.

Paolo Scarpa

4.8

out of

5

Lanthanum Fluoride offers excellent optical properties, making it ideal for UV optical coatings. KINTEK SOLUTION's products are reliable and consistent.

Abigail Thornton

4.7

out of

5

KINTEK SOLUTION's Lanthanum Fluoride products meet our stringent quality standards. The purity and composition of their materials are top-notch.

Marwan Ahmed

4.8

out of

5

We've been using Lanthanum Fluoride from KINTEK SOLUTION for years. Their products are durable and long-lasting, ensuring consistent performance.

Maria Fernanda Garcia

4.9

out of

5

KINTEK SOLUTION's Lanthanum Fluoride sputtering targets are exceptional. They provide excellent adhesion and uniformity, resulting in high-quality thin films.

Lukas Schmidt

4.7

out of

5

The Lanthanum Fluoride powder from KINTEK SOLUTION is highly pure and consistent. It's ideal for our research applications, providing accurate and reliable results.

Manisha Patel

4.8

out of

5

KINTEK SOLUTION's Lanthanum Fluoride wire is perfect for our sputtering process. It's easy to handle and produces high-quality thin films with minimal defects.

Antonio Rossi

4.9

out of

5

We were impressed with the fast delivery of our Lanthanum Fluoride order from KINTEK SOLUTION. Their customer service is outstanding, and they're always willing to go the extra mile.

Elena Ivanova

4.7

out of

5

KINTEK SOLUTION's Lanthanum Fluoride products are a great value for the price. They offer excellent performance without breaking the bank.

Jean-Pierre Dubois

4.8

out of

5

We've been using KINTEK SOLUTION's Lanthanum Fluoride sputtering targets for over a year now, and we've never had any issues. They're a reliable and trustworthy supplier.

Fatima Hassan

4.9

out of

5

KINTEK SOLUTION's Lanthanum Fluoride products are top-notch. They meet all our specifications and perform exceptionally well in our applications.

Pedro Martinez

4.7

out of

5

We recently switched to KINTEK SOLUTION's Lanthanum Fluoride products, and we're very satisfied with the results. Their products are consistent and reliable, leading to improved performance in our processes.

Aisha Khan

4.8

out of

5

KINTEK SOLUTION's Lanthanum Fluoride products are a game-changer for our research. They've enabled us to achieve new levels of precision and accuracy in our experiments.

Oliver Chen

4.9

out of

5

We've been using KINTEK SOLUTION's Lanthanum Fluoride products for years, and they've never let us down. Their products are of the highest quality and always meet our expectations.

Sophia Ahmed

4.7

out of

5

KINTEK SOLUTION's Lanthanum Fluoride products are a valuable asset to our lab. They're reliable, consistent, and produce high-quality results.

Gabriel Silva

4.8

out of

5

We're very impressed with the purity and consistency of KINTEK SOLUTION's Lanthanum Fluoride products. They're a trusted supplier for our research needs.

Anna Kowalska

4.9

out of

5

KINTEK SOLUTION's Lanthanum Fluoride products are a great choice for our sputtering applications. They provide excellent performance and are very durable.

Hassan Mohammed

4.7

out of

5

We've been using KINTEK SOLUTION's Lanthanum Fluoride products for our optical coatings, and we're very satisfied with the results. They provide excellent adhesion and uniformity.

Carla Rodriguez

4.8

out of

5

KINTEK SOLUTION's Lanthanum Fluoride products are a great value for the price. They're affordable and perform just as well as more expensive brands.

David Cohen

4.9

out of

5

We highly recommend KINTEK SOLUTION's Lanthanum Fluoride products to anyone looking for high-quality materials. They're a reliable supplier with excellent customer service.

Valentina Petrova

PDF of LM-LaF3

Télécharger

Catalogue de Matériel De Laboratoire

Télécharger

Catalogue de Cibles De Pulvérisation

Télécharger

Catalogue de Matériaux De Haute Pureté

Télécharger

Catalogue de Matériaux De Dépôt De Couches Minces

Télécharger

RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team di professionisti ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitate a contattarci!

Produits associés

Cible de pulvérisation de lanthane (La) de grande pureté/poudre/fil/bloc/granule

Cible de pulvérisation de lanthane (La) de grande pureté/poudre/fil/bloc/granule

Obtenez des matériaux de lanthane (La) de haute qualité à des prix abordables pour vos besoins de laboratoire. Choisissez parmi notre large gamme de puretés, de formes et de tailles sur mesure pour répondre à vos besoins spécifiques. Découvrez notre sélection de cibles de pulvérisation, de matériaux de revêtement, de poudres, de fils machine et bien plus encore.

Fluorure de néodyme (NdF3) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Fluorure de néodyme (NdF3) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure de néodyme (NdF3) pour votre laboratoire ? Nous proposons une large gamme d'options, des cibles de pulvérisation aux poudres, toutes personnalisables pour répondre à vos besoins uniques. Découvrez dès maintenant nos prix abordables.

Cible de pulvérisation de fluorure d'erbium (ErF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure d'erbium (ErF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Achetez des matériaux de fluorure d'erbium (ErF3) de puretés, de formes et de tailles variées pour une utilisation en laboratoire. Nos produits comprennent des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres, etc. Naviguez maintenant !

Cible de pulvérisation de fluorure de calcium (CaF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure de calcium (CaF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure de calcium de haute qualité pour une utilisation en laboratoire ? Notre équipe d'experts adapte différentes puretés, formes et tailles pour répondre à vos besoins spécifiques. Parcourez notre gamme de cibles de pulvérisation, de matériaux de revêtement, de poudres, etc. Obtenez un devis aujourd'hui.

Cible de pulvérisation de fluorure d'ytterbium (YbF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure d'ytterbium (YbF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Achetez des matériaux de fluorure d'ytterbium (YbF3) de haute qualité pour vos besoins de laboratoire à des prix abordables. Nous proposons des formes et des tailles personnalisées, y compris des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres, etc. Contactez-nous aujourd'hui!

Cible de pulvérisation de fluorure d'yttrium (YF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure d'yttrium (YF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure d'yttrium (YF3) de haute qualité pour une utilisation en laboratoire ? Nos prix abordables et notre expertise dans la production de formes et de tailles personnalisées font de nous le choix idéal. Achetez des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres et plus encore aujourd'hui.

Cible de pulvérisation de fluorure de sodium (NaF) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure de sodium (NaF) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure de sodium (NaF) ? Nous proposons des solutions sur mesure de différentes puretés, formes et tailles à des prix abordables. Trouvez des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres, etc. Contactez-nous aujourd'hui.

Cible de pulvérisation de fluorure de cérium (CeF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure de cérium (CeF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure de cérium de haute qualité ? Notre CeF3 de qualité laboratoire est disponible dans une variété de formes et de tailles pour répondre à vos besoins. Achetez maintenant à des prix abordables!

Substrat cristallin de fluorure de magnésium MgF2/fenêtre/plaque de sel

Substrat cristallin de fluorure de magnésium MgF2/fenêtre/plaque de sel

Le fluorure de magnésium (MgF2) est un cristal tétragonal qui présente une anisotropie, ce qui rend impératif de le traiter comme un monocristal lors de l'imagerie de précision et de la transmission du signal.

Cible de pulvérisation de fluorure de strontium (SrF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure de strontium (SrF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure de strontium (SrF2) pour votre laboratoire ? Cherchez pas plus loin! Nous proposons une gamme de tailles et de puretés, y compris des cibles de pulvérisation, des revêtements, etc. Commandez maintenant à des prix raisonnables.

Fluorure de dysprosium (DyF3) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Fluorure de dysprosium (DyF3) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure de dysprosium (DyF3) pour votre laboratoire ? Nous produisons et personnalisons des matériaux DyF3 de différentes puretés, formes et tailles à des prix raisonnables. Trouvez des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres, etc. Contactez-nous aujourd'hui.

Substrat CaF2 / fenêtre / lentille

Substrat CaF2 / fenêtre / lentille

Une fenêtre CaF2 est une fenêtre optique constituée de fluorure de calcium cristallin. Ces fenêtres sont polyvalentes, stables dans l'environnement et résistantes aux dommages causés par le laser, et elles présentent une transmission élevée et stable de 200 nm à environ 7 μm.

Tantalate de lithium (LiTaO3) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Tantalate de lithium (LiTaO3) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Trouvez des matériaux de tantalate de lithium abordables pour une utilisation en laboratoire dans notre société. Nous nous spécialisons dans la production de formes et de tailles sur mesure pour répondre à vos besoins uniques, y compris les cibles de pulvérisation, les matériaux de revêtement, etc.

Cible de pulvérisation de fluorure de magnésium (MgF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure de magnésium (MgF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure de magnésium (MgF2) de haute qualité pour les besoins de votre laboratoire ? Cherchez pas plus loin! Nos matériaux sur mesure sont disponibles dans une gamme de puretés, de formes et de tailles pour répondre à vos besoins spécifiques. Achetez maintenant des cibles de pulvérisation, des poudres, des lingots et plus encore.

Cible de pulvérisation de fluorure de baryum (BaF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de fluorure de baryum (BaF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Achetez des matériaux de fluorure de baryum (BaF2) à des prix abordables. Nous nous adaptons à vos besoins avec une gamme de cibles de pulvérisation, de matériaux de revêtement, de poudres, etc. Commandez maintenant.

Fluorure de samarium (SmF3) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Fluorure de samarium (SmF3) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux de fluorure de samarium (SmF3) de haute qualité pour votre laboratoire ? Cherchez pas plus loin! Nos solutions sur mesure sont disponibles dans une gamme de puretés, de formes et de tailles pour répondre à vos besoins uniques. Contactez-nous aujourd'hui!

substrat / fenêtre en fluorure de baryum (BaF2)

substrat / fenêtre en fluorure de baryum (BaF2)

Le BaF2 est le scintillateur le plus rapide, recherché pour ses propriétés exceptionnelles. Ses fenêtres et plaques sont précieuses pour la spectroscopie VUV et infrarouge.

Feuille de verre de quartz optique résistant aux hautes températures

Feuille de verre de quartz optique résistant aux hautes températures

Découvrez la puissance des feuilles de verre optique pour une manipulation précise de la lumière dans les télécommunications, l'astronomie et au-delà. Déverrouillez les progrès de la technologie optique avec une clarté exceptionnelle et des propriétés de réfraction sur mesure.