Matériel de laboratoire

Cible de pulvérisation de terbium (Tb) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule

Name: Cible de pulvérisation de terbium (Tb) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Brand: Kintek Solution
SKU: LM-TB
Rating: 4.79 (18 reviews)

Numéro d'article : LM-TB

Le prix varie en fonction de specs and customizations

Formule chimique: UE
Pureté: 3n
Forme: disques / fil / bloc / poudre / plaques / cibles colonnes / cible pas à pas / sur mesure

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Description
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Nous sommes heureux d'offrir des matériaux Terbium (Tb) pour une utilisation en laboratoire à des prix compétitifs. Notre spécialité réside dans la fabrication et la personnalisation de matériaux Terbium (Tb) de différents niveaux de pureté, de formes et de dimensions pour répondre à vos besoins spécifiques.

Notre gamme de produits comprend une gamme de spécifications et de tailles de cibles de pulvérisation (circulaires, carrées, tubulaires, irrégulières), de matériaux de revêtement, de cylindres, de cônes, de particules, de feuilles, de poudres, de poudres d'impression 3D, de poudres nanométriques, de fils machine, de lingots et de blocs , entre autres.

Détails

À propos du terbium (Tb)

Le terbium est un élément important dans diverses applications. L'une des utilisations les plus courantes du terbium est dans les luminophores, qui sont utilisés dans les lampes fluorescentes et comme émetteurs verts à haute intensité dans les téléviseurs à projection. Un type spécifique de luminophore, connu sous le nom d'yttrium-aluminium-grenat (Tb:YAG), est également largement utilisé dans l'industrie.

Les alliages de terbium sont largement utilisés dans les films d'enregistrement magnéto-optiques, tels que Tb-Fe-Co, qui possèdent une anisotropie magnétique élevée et une faible coercivité. De plus, le Terbium est disponible sous forme de métal et de composés avec des puretés allant de 99 % à 99,999 % (grade ACS à ultra-haute pureté). Les formes élémentaires ou métalliques de Terbium sont disponibles sous forme de pastilles, de tiges, de fils et de granulés, qui sont idéales à des fins de matière source d'évaporation.

De plus, les nanoparticules et les nanopoudres de terbium offrent une surface ultra-élevée, ce qui, selon des recherches récentes, peut créer des propriétés et des avantages nouveaux et uniques. La poudre d'oxyde de terbium (Tb4O7) de haute pureté (99,999 %) et les pastilles denses sont disponibles pour une utilisation dans les applications de revêtement optique et de couches minces. Les oxydes sont généralement insolubles, tandis que les fluorures sont une autre forme insoluble adaptée aux applications où l'oxygène est indésirable, comme la métallurgie, le dépôt chimique et physique en phase vapeur et dans certains revêtements optiques.

Enfin, le terbium est également disponible sous des formes solubles, notamment des chlorures, des nitrates et des acétates, qui peuvent être fabriqués sous forme de solutions à des stoechiométries spécifiées.

Contrôle de la qualité des ingrédients

Analyse de la composition des matières premières: Grâce à l'utilisation d'équipements tels que l'ICP et le GDMS, la teneur en impuretés métalliques est détectée et analysée pour s'assurer qu'elle répond à la norme de pureté ;

Les impuretés non métalliques sont détectées par des équipements tels que des analyseurs de carbone et de soufre, des analyseurs d'azote et d'oxygène.
Analyse de détection de défauts métallographiques: Le matériau cible est inspecté à l'aide d'un équipement de détection des défauts pour s'assurer qu'il n'y a pas de défauts ou de trous de retrait à l'intérieur du produit ;

Grâce à des tests métallographiques, la structure granulaire interne du matériau cible est analysée pour s'assurer que les grains sont fins et denses.
Inspection de l'apparence et des dimensions: Les dimensions du produit sont mesurées à l'aide de micromètres et d'étriers de précision pour assurer la conformité aux dessins ;

L'état de surface et la propreté du produit sont mesurés à l'aide d'un mesureur de propreté de surface.

Tailles des cibles de pulvérisation conventionnelles

Processus de préparation: pressage isostatique à chaud, fusion sous vide, etc.
Forme de la cible de pulvérisation: cible de pulvérisation plane, cible de pulvérisation à arcs multiples, cible de pulvérisation par étapes, cible de pulvérisation de forme spéciale
Taille cible de pulvérisation ronde: Diamètre : 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Épaisseur : 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
La taille peut être personnalisée.
Taille cible de pulvérisation carrée: 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, la taille peut être personnalisée

Formas de metal disponibles

Detalles de formas de metal

Fabricamos casi todos los metales enumerados en la tabla periódica en una amplia gama de formas y purezas, así como en tamaños y dimensiones estándar. También podemos producir productos personalizados para cumplir con los requisitos específicos del cliente, como tamaño, forma, área de superficie, composición y más. La siguiente lista proporciona una muestra de los formularios que ofrecemos, pero no es exhaustiva. Si necesita consumibles de laboratorio, contáctenos directamente para solicitar una cotización.

Formas planas/planares: cartón, película, lámina, microlámina, microlámina, papel, placa, cinta, hoja, tira, cinta, oblea
Formas preformadas: ánodos, bolas, bandas, barras, botes, pernos, briquetas, cátodos, círculos, bobinas, crisoles, cristales, cubos, tazas, cilindros, discos, electrodos, fibras, filamentos, bridas, rejillas, lentes, mandriles, tuercas , Partes, Prismas, Discos, Anillos, Varillas, Formas, Escudos, Mangas, Resortes, Cuadrados, Objetivos de pulverización catódica, Palos, Tubos, Arandelas, Ventanas, Alambres
Microtamaños: Perlas, Bits, Cápsulas, Chips, Monedas, Polvo, Copos, Granos, Gránulos, Micropolvo, Agujas, Partículas, Guijarros, Pellets, Alfileres, Píldoras, Polvo, Virutas, Perdigones, Babosas, Esferas, Tabletas
Macrotamaños: palanquillas, trozos, esquejes, fragmentos, lingotes, terrones, pepitas, piezas, punzones, rocas, desechos, segmentos, virutas
Porosos y semiporosos: tela, espuma, gasa, nido de abeja, malla, esponja, lana
Nanoescala: nanopartículas, nanopolvos, nanoláminas, nanotubos, nanobarras, nanoprismas
Otros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Residuo, Muestras, Especímenes

KinTek se especializa en la fabricación de materiales de pureza ultra alta y alta con un rango de pureza de 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) y, en algunos casos, hasta 99,99999 % (7N). ). Nuestros materiales están disponibles en grados específicos, incluidos los grados UP/UHP, semiconductores, electrónicos, de deposición, de fibra óptica y MBE. Nuestros metales, óxidos y compuestos de alta pureza están diseñados específicamente para cumplir con las rigurosas demandas de las aplicaciones de alta tecnología y son ideales para usar como dopantes y materiales precursores para la deposición de películas delgadas, el crecimiento de cristales de semiconductores y la síntesis de nanomateriales. Estos materiales encuentran uso en microelectrónica avanzada, celdas solares, celdas de combustible, materiales ópticos y otras aplicaciones de vanguardia.

embalaje

Utilizamos envasado al vacío para nuestros materiales de alta pureza, y cada material tiene un embalaje específico adaptado a sus características únicas. Por ejemplo, nuestro objetivo de pulverización catódica Hf está etiquetado y etiquetado externamente para facilitar la identificación y el control de calidad eficientes. Tenemos mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda ocurrir durante el almacenamiento o el transporte.

FAQ

Qu'est-ce que le dépôt physique en phase vapeur (PVD) ?

Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) est une technique de dépôt de couches minces en vaporisant un matériau solide sous vide puis en le déposant sur un substrat. Les revêtements PVD sont très durables, résistants aux rayures et à la corrosion, ce qui les rend idéaux pour une variété d'applications, des cellules solaires aux semi-conducteurs. Le PVD crée également des films minces qui peuvent résister à des températures élevées. Cependant, le PVD peut être coûteux et le coût varie en fonction de la méthode utilisée. Par exemple, l'évaporation est une méthode PVD peu coûteuse, tandis que la pulvérisation par faisceau d'ions est plutôt coûteuse. La pulvérisation magnétron, en revanche, est plus coûteuse mais plus évolutive.

Qu'est-ce que la cible de pulvérisation?

Une cible de pulvérisation est un matériau utilisé dans le processus de dépôt par pulvérisation, qui consiste à briser le matériau cible en minuscules particules qui forment un spray et recouvrent un substrat, tel qu'une plaquette de silicium. Les cibles de pulvérisation sont généralement des éléments métalliques ou des alliages, bien que certaines cibles en céramique soient disponibles. Ils sont disponibles dans une variété de tailles et de formes, certains fabricants créant des cibles segmentées pour les équipements de pulvérisation plus grands. Les cibles de pulvérisation ont une large gamme d'applications dans des domaines tels que la microélectronique, les cellules solaires à couches minces, l'optoélectronique et les revêtements décoratifs en raison de leur capacité à déposer des couches minces avec une grande précision et uniformité.

Que sont les matériaux de haute pureté ?

Les matériaux de haute pureté font référence à des substances exemptes d'impuretés et possédant un haut niveau d'homogénéité chimique. Ces matériaux sont essentiels dans diverses industries, notamment dans le domaine de l'électronique de pointe, où les impuretés peuvent affecter considérablement les performances des appareils. Les matériaux de haute pureté sont obtenus par diverses méthodes, y compris la purification chimique, le dépôt en phase vapeur et le raffinage de zone. Dans la préparation du diamant monocristallin de qualité électronique, par exemple, un gaz de matière première de haute pureté et un système de vide efficace sont nécessaires pour atteindre le niveau de pureté et d'homogénéité souhaité.

Qu'est-ce que la pulvérisation magnétron ?

La pulvérisation magnétron est une technique de revêtement à base de plasma utilisée pour produire des films très denses avec une excellente adhérence, ce qui en fait une méthode polyvalente pour créer des revêtements sur des matériaux qui ont des points de fusion élevés et ne peuvent pas être évaporés. Cette méthode génère un plasma magnétiquement confiné près de la surface d'une cible, où des ions énergétiques chargés positivement entrent en collision avec le matériau cible chargé négativement, provoquant l'éjection ou la "pulvérisation" des atomes. Ces atomes éjectés sont ensuite déposés sur un substrat ou une plaquette pour créer le revêtement souhaité.

Que sont les métaux de haute pureté ?

Les métaux de haute pureté sont des matériaux à un seul élément avec un minimum d'impuretés, ce qui les rend idéaux pour une utilisation dans la recherche, le développement et la production de technologies de pointe. Ces métaux sont utilisés dans la création de céramiques avancées, de capteurs électroniques, de lentilles et d'optiques de haute précision, de LED, de lasers, de revêtements de barrière thermique, d'écrans plasma, etc. KINTEK propose une gamme variée de métaux de haute pureté et de composés métalliques binaires et ternaires sous diverses formes, compositions, dispersions, tailles de particules et poids pour la recherche et les applications commerciales. Les métaux spéciaux stratégiques sont utilisés dans des applications de haute technologie et peuvent être coûteux en raison de leur traitement élaboré.

Comment sont fabriquées les cibles de pulvérisation ?

Les cibles de pulvérisation sont fabriquées à l'aide de divers procédés de fabrication en fonction des propriétés du matériau cible et de son application. Celles-ci incluent la fusion et le laminage sous vide, le pressage à chaud, le procédé spécial de pressage fritté, le pressage à chaud sous vide et les méthodes de forgeage. La plupart des matériaux cibles de pulvérisation peuvent être fabriqués dans une large gamme de formes et de tailles, les formes circulaires ou rectangulaires étant les plus courantes. Les cibles sont généralement constituées d'éléments métalliques ou d'alliages, mais des cibles en céramique peuvent également être utilisées. Des cibles de pulvérisation composées sont également disponibles, fabriquées à partir d'une variété de composés, notamment des oxydes, des nitrures, des borures, des sulfures, des séléniures, des tellurures, des carbures, des mélanges cristallins et composites.

Pourquoi la pulvérisation magnétron ?

La pulvérisation magnétron est préférée en raison de sa capacité à obtenir une grande précision dans l'épaisseur du film et la densité des revêtements, surpassant les méthodes d'évaporation. Cette technique est particulièrement adaptée à la création de revêtements métalliques ou isolants aux propriétés optiques ou électriques particulières. De plus, les systèmes de pulvérisation magnétron peuvent être configurés avec plusieurs sources de magnétron.

À quoi servent les métaux de haute pureté ?

Les métaux de haute pureté sont utilisés dans diverses technologies de pointe qui nécessitent des propriétés, des performances et une qualité spécifiques. Ils sont utilisés pour créer des éclairages fluorescents, des écrans plasma, des LED, des lentilles et des optiques de haute précision, des capteurs électroniques, des céramiques avancées, des revêtements de barrière thermique, des lasers, etc. Ces métaux sont également utilisés dans la production de matériaux magnétiques, thermoélectriques, luminophores et semi-conducteurs de haute qualité. KINTEK propose un portefeuille diversifié de métaux de haute pureté, de composés métalliques binaires et ternaires, d'alliages magnétiques, d'oxydes métalliques, de nanomatériaux et de précurseurs organométalliques sous diverses formes, compositions, dispersions, tailles et poids de particules pour toutes les applications de recherche et commerciales.

A quoi sert la cible de pulvérisation ?

Les cibles de pulvérisation sont utilisées dans un processus appelé pulvérisation pour déposer des films minces d'un matériau sur un substrat en utilisant des ions pour bombarder la cible. Ces cibles ont une large gamme d'applications dans divers domaines, notamment la microélectronique, les cellules solaires à couches minces, l'optoélectronique et les revêtements décoratifs. Ils permettent le dépôt de couches minces de matériaux sur une variété de substrats avec une grande précision et uniformité, ce qui en fait un outil idéal pour produire des produits de précision. Les cibles de pulvérisation se présentent sous différentes formes et tailles et peuvent être spécialisées pour répondre aux exigences spécifiques de l'application.

Quels sont les matériaux utilisés dans le dépôt de couches minces ?

Le dépôt de couches minces utilise couramment des métaux, des oxydes et des composés comme matériaux, chacun avec ses avantages et ses inconvénients uniques. Les métaux sont préférés pour leur durabilité et leur facilité de dépôt mais sont relativement coûteux. Les oxydes sont très durables, peuvent résister à des températures élevées et peuvent se déposer à basse température, mais peuvent être cassants et difficiles à travailler. Les composés offrent résistance et durabilité, peuvent être déposés à basse température et adaptés pour présenter des propriétés spécifiques.

Le choix du matériau pour un revêtement en couche mince dépend des exigences de l'application. Les métaux sont idéaux pour la conduction thermique et électrique, tandis que les oxydes sont efficaces pour offrir une protection. Les composés peuvent être adaptés pour répondre à des besoins spécifiques. En fin de compte, le meilleur matériau pour un projet particulier dépendra des besoins spécifiques de l'application.

Que sont les cibles de pulvérisation pour l'électronique ?

Les cibles de pulvérisation pour l'électronique sont des disques minces ou des feuilles de matériaux tels que l'aluminium, le cuivre et le titane qui sont utilisés pour déposer des films minces sur des tranches de silicium afin de créer des dispositifs électroniques tels que des transistors, des diodes et des circuits intégrés. Ces cibles sont utilisées dans un processus appelé pulvérisation, dans lequel les atomes du matériau cible sont physiquement éjectés de la surface et déposés sur un substrat en bombardant la cible avec des ions. Les cibles de pulvérisation pour l'électronique sont essentielles dans la production de microélectronique et nécessitent généralement une précision et une uniformité élevées pour garantir des dispositifs de qualité.

Quelles sont les méthodes pour obtenir un dépôt optimal de couches minces ?

Pour obtenir des films minces aux propriétés souhaitables, des cibles de pulvérisation et des matériaux d'évaporation de haute qualité sont essentiels. La qualité de ces matériaux peut être influencée par divers facteurs, tels que la pureté, la granulométrie et l'état de surface.

La pureté des cibles de pulvérisation ou des matériaux d'évaporation joue un rôle crucial, car les impuretés peuvent provoquer des défauts dans le film mince résultant. La taille des grains affecte également la qualité du film mince, des grains plus gros entraînant de mauvaises propriétés du film. De plus, l'état de surface est crucial, car les surfaces rugueuses peuvent entraîner des défauts dans le film.

Pour atteindre des cibles de pulvérisation et des matériaux d'évaporation de la plus haute qualité, il est crucial de sélectionner des matériaux qui possèdent une grande pureté, une petite taille de grain et des surfaces lisses.

Utilisations du dépôt de couches minces

Films minces à base d'oxyde de zinc

Les couches minces de ZnO trouvent des applications dans plusieurs industries telles que la thermique, l'optique, le magnétique et l'électricité, mais leur utilisation principale est dans les revêtements et les dispositifs à semi-conducteurs.

Résistances à couches minces

Les résistances à couches minces sont cruciales pour la technologie moderne et sont utilisées dans les récepteurs radio, les circuits imprimés, les ordinateurs, les appareils à radiofréquence, les moniteurs, les routeurs sans fil, les modules Bluetooth et les récepteurs de téléphones portables.

Couches Minces Magnétiques

Les couches minces magnétiques sont utilisées dans l'électronique, le stockage de données, l'identification par radiofréquence, les dispositifs à micro-ondes, les écrans, les cartes de circuits imprimés et l'optoélectronique en tant que composants clés.

Couches minces optiques

Les revêtements optiques et l'optoélectronique sont des applications standard des couches minces optiques. L'épitaxie par faisceau moléculaire peut produire des dispositifs optoélectroniques à couches minces (semi-conducteurs), où les films épitaxiaux sont déposés un atome à la fois sur le substrat.

Films minces polymères

Les couches minces de polymère sont utilisées dans les puces de mémoire, les cellules solaires et les appareils électroniques. Les techniques de dépôt chimique (CVD) offrent un contrôle précis des revêtements de film polymère, y compris la conformité et l'épaisseur du revêtement.

Batteries à couches minces

Les batteries à couches minces alimentent les appareils électroniques tels que les dispositifs médicaux implantables, et la batterie lithium-ion a considérablement progressé grâce à l'utilisation de couches minces.

Revêtements à couche mince

Les revêtements en couches minces améliorent les caractéristiques chimiques et mécaniques des matériaux cibles dans diverses industries et domaines technologiques. Les revêtements antireflets, les revêtements anti-ultraviolets ou anti-infrarouges, les revêtements anti-rayures et la polarisation des lentilles en sont des exemples courants.

Cellules solaires à couche mince

Les cellules solaires à couches minces sont essentielles à l'industrie de l'énergie solaire, permettant la production d'électricité relativement bon marché et propre. Les systèmes photovoltaïques et l'énergie thermique sont les deux principales technologies applicables.

Quelle est la durée de vie d'une cible de pulvérisation ?

La durée de vie d'une cible de pulvérisation dépend de facteurs tels que la composition du matériau, sa pureté et l'application spécifique pour laquelle elle est utilisée. Généralement, les cibles peuvent durer plusieurs centaines à quelques milliers d'heures de pulvérisation, mais cela peut varier considérablement en fonction des conditions spécifiques de chaque cycle. Une manipulation et un entretien appropriés peuvent également prolonger la durée de vie d'une cible. De plus, l'utilisation de cibles de pulvérisation rotative peut augmenter les durées d'exécution et réduire l'apparition de défauts, ce qui en fait une option plus rentable pour les processus à volume élevé.

Facteurs et paramètres qui influencent le dépôt de couches minces

Taux de dépôt :

La vitesse à laquelle le film est produit, généralement mesurée en épaisseur divisée par le temps, est cruciale pour sélectionner une technologie adaptée à l'application. Des taux de dépôt modérés sont suffisants pour les films minces, tandis que des taux de dépôt rapides sont nécessaires pour les films épais. Il est important de trouver un équilibre entre la vitesse et le contrôle précis de l'épaisseur du film.

Uniformité:

La consistance du film à travers le substrat est connue sous le nom d'uniformité, qui fait généralement référence à l'épaisseur du film, mais peut également être liée à d'autres propriétés telles que l'indice de réfraction. Il est important d'avoir une bonne compréhension de l'application pour éviter de sous-spécifier ou de sur-spécifier l'uniformité.

Capacité de remplissage :

La capacité de remplissage ou la couverture des étapes fait référence à la façon dont le processus de dépôt couvre la topographie du substrat. La méthode de dépôt utilisée (par exemple, CVD, PVD, IBD ou ALD) a un impact significatif sur la couverture et le remplissage des étapes.

Caractéristiques du film :

Les caractéristiques du film dépendent des exigences de l'application, qui peuvent être classées comme photoniques, optiques, électroniques, mécaniques ou chimiques. La plupart des films doivent satisfaire aux exigences dans plus d'une catégorie.

Température de processus :

Les caractéristiques du film sont considérablement affectées par la température du procédé, qui peut être limitée par l'application.

Dommage:

Chaque technologie de dépôt a le potentiel d'endommager le matériau sur lequel elle est déposée, les éléments plus petits étant plus susceptibles d'être endommagés par le processus. La pollution, le rayonnement UV et le bombardement ionique font partie des sources potentielles de dommages. Il est crucial de comprendre les limites des matériaux et des outils.

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Alliage de tantale et de tungstène (TaW) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux en alliage de tantale et de tungstène (TaW) de haute qualité ? Nous proposons une large gamme d'options personnalisables à des prix compétitifs pour une utilisation en laboratoire, notamment des cibles de pulvérisation, des revêtements, des poudres, etc.

Cible de pulvérisation de fluorure de lanthane (LaF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Vous recherchez des matériaux abordables en titanate de baryum (LaF3) pour votre laboratoire ? Nos solutions sur mesure répondent à vos besoins uniques, avec une large gamme de formes, de tailles et de puretés disponibles. Découvrez notre sélection de cibles de pulvérisation, de matériaux de revêtement, de poudres et plus encore.

Cible de pulvérisation de fluorure d'ytterbium (YbF3) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Achetez des matériaux de fluorure d'ytterbium (YbF3) de haute qualité pour vos besoins de laboratoire à des prix abordables. Nous proposons des formes et des tailles personnalisées, y compris des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres, etc. Contactez-nous aujourd'hui!

Nitrure de tantale (TaN) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Découvrez des matériaux abordables en nitrure de tantale pour les besoins de votre laboratoire. Nos experts produisent des formes et des puretés personnalisées pour répondre à vos spécifications uniques. Choisissez parmi une variété de cibles de pulvérisation, de revêtements, de poudres et plus encore.

Cible de pulvérisation d'europium (ue) de grande pureté / poudre / fil / bloc / granule

Vous recherchez des matériaux Europium (Eu) de haute qualité pour votre laboratoire ? Découvrez nos options abordables, adaptées à vos besoins avec différentes puretés, formes et tailles. Choisissez parmi une gamme de cibles de pulvérisation, de matériaux de revêtement, de poudres, etc.

Cible de pulvérisation de fluorure de baryum (BaF2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Achetez des matériaux de fluorure de baryum (BaF2) à des prix abordables. Nous nous adaptons à vos besoins avec une gamme de cibles de pulvérisation, de matériaux de revêtement, de poudres, etc. Commandez maintenant.

Cible de pulvérisation de cérium (Ce) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule

Vous recherchez des matériaux de haute qualité en cérium (Ce) pour votre laboratoire ? Notre expertise réside dans la production et la personnalisation de matériaux de différentes puretés, formes et tailles pour répondre à vos besoins uniques. Nous proposons une gamme de spécifications et de tailles, y compris des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres, etc., le tout à des prix raisonnables.

Cible de pulvérisation d'oxyde d'erbium de grande pureté (Er2O3) / poudre / fil / bloc / granule

Trouvez des matériaux d'oxyde d'erbium (Er2O3) de haute qualité à des prix compétitifs pour vos besoins de laboratoire. Nos solutions sur mesure dans différentes puretés, formes et tailles répondent à des exigences uniques. Parcourez nos cibles de pulvérisation, nos revêtements, nos poudres et plus encore.

Cible de pulvérisation d'oxyde de cérium de grande pureté (CeO2)/poudre/fil/bloc/granule

Matériaux d'oxyde de cérium (CeO2) de haute qualité pour une utilisation en laboratoire à des prix abordables. Formes et tailles personnalisables. Cibles de pulvérisation, poudres, poudres d'impression 3D et plus encore. Commandez maintenant!

Tellurure de cobalt (CoTe) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Obtenez des matériaux Cobalt Tellurure de haute qualité pour vos besoins de laboratoire à des prix raisonnables. Nous proposons des formes, des tailles et des puretés personnalisées, y compris des cibles de pulvérisation, des revêtements, des poudres, etc.

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