Oui, le MEB nécessite un revêtement par pulvérisation cathodique pour certains types d'échantillons, en particulier ceux qui sont non conducteurs ou peu conducteurs. Le revêtement par pulvérisation cathodique consiste à appliquer une couche ultra-mince de métal conducteur sur l'échantillon afin d'empêcher le chargement et d'améliorer la qualité des images SEM.
Explication :
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Prévention de la charge : Les échantillons non ou peu conducteurs peuvent accumuler des champs électriques statiques lorsqu'ils sont soumis au faisceau d'électrons d'un microscope électronique à balayage (MEB). Cette accumulation, connue sous le nom de charge, peut déformer l'image et perturber le fonctionnement du MEB. En appliquant un revêtement conducteur par pulvérisation cathodique, la charge est dissipée, ce qui évite les distorsions et garantit des images claires.
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Amélioration de la qualité de l'image : Le revêtement par pulvérisation cathodique ne se contente pas d'empêcher la charge, il augmente également l'émission d'électrons secondaires à partir de la surface de l'échantillon. Cette augmentation de l'émission d'électrons secondaires améliore le rapport signal/bruit, ce qui est crucial pour obtenir des images détaillées de haute qualité au MEB. Les matériaux d'enrobage généralement utilisés, tels que l'or, l'or/palladium, le platine, l'argent, le chrome ou l'iridium, sont choisis pour leur conductivité et leur capacité à former des films minces et stables qui ne masquent pas les détails de l'échantillon.
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Applicabilité aux échantillons difficiles : Certains échantillons, en particulier ceux qui sont sensibles aux rayons ou non conducteurs, bénéficient considérablement du revêtement par pulvérisation cathodique. Ces échantillons pourraient autrement être difficiles à imager efficacement dans un MEB sans causer de dommages ou produire des images de mauvaise qualité en raison de la charge ou d'un faible signal.
Conclusion :
Le revêtement par pulvérisation cathodique est une technique de préparation des échantillons nécessaire pour le MEB lorsqu'il s'agit de matériaux non conducteurs ou faiblement conducteurs. Il garantit que les échantillons ne se chargent pas sous le faisceau d'électrons, préservant ainsi l'intégrité des images et permettant des observations précises et détaillées à l'échelle nanométrique.
