Pièces de dépôt de couches minces
Revêtement par évaporation par faisceau d'électrons Creuset en cuivre sans oxygène
Numéro d'article : KMS06
Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations
- Matériel
- Cuivre sans oxygène
- spécification
- 35-50*17-25mm
Livraison:
Contactez-nous pour obtenir les détails d'expédition. Profitez-en Garantie d'expédition dans les délais.
Demandez votre devis personnalisé 👋
Obtenez votre devis maintenant! Laisser un message Obtenir un devis rapidement Via Chat en ligneIntroduction
Le creuset en cuivre sans oxygène par évaporation par faisceau d'électrons est un type d'équipement de laboratoire utilisé pour le dépôt de films minces. Il utilise un faisceau d'électrons pour vaporiser un matériau, qui est ensuite déposé sur un substrat. Ce processus est utilisé pour créer des films minces de métaux, de diélectriques et d'autres matériaux.
Le creuset en cuivre sans oxygène à revêtement par évaporation par faisceau d'électrons est fabriqué en cuivre sans oxygène, qui a une conductivité thermique élevée et résiste à l'oxydation. Cela le rend idéal pour une utilisation dans les applications à haute température. Le creuset est également refroidi à l'eau pour éviter toute surchauffe.
Le creuset en cuivre sans oxygène à revêtement par évaporation par faisceau d'électrons est un équipement polyvalent qui peut être utilisé pour une variété d'applications. Il est couramment utilisé dans l’industrie des semi-conducteurs, mais il peut également être utilisé dans d’autres industries, telles que les industries optique et médicale.
Application
Le revêtement par évaporation par faisceau d'électrons fait référence au processus d'utilisation de faisceaux d'électrons pour évaporer des matériaux lors du dépôt d'une couche mince, puis de les condenser sur le substrat pour former un film mince. Lorsque vous utilisez des techniques d'évaporation par faisceau d'électrons, utilisez des creusets en cuivre sans oxygène pour maintenir un environnement sans oxygène ou appauvri en oxygène afin de minimiser le risque de contamination par l'oxygène pendant l'évaporation. Cela permet de garantir que des films de haute qualité sont déposés sans réactions chimiques ni oxydation indésirables. Les creusets en cuivre sans oxygène sont souvent préférés lors de la manipulation de matériaux sensibles ou du dépôt de films minces lorsqu'une grande pureté est requise.
- Industrie des semi-conducteurs : fabrication de circuits intégrés, de dispositifs semi-conducteurs et de microélectronique.
- Optique et photonique : revêtements et films optiques pour lentilles, miroirs, filtres, guides d'ondes et autres composants optiques.
- Énergie solaire : L’évaporation par faisceau d’électrons est utilisée pour fabriquer des cellules solaires à couches minces telles que les cellules solaires CIGS (séléniure de cuivre-indium-gallium) et les cellules solaires CdTe (tellure de cadmium).
- Technologie d'affichage : l'évaporation par faisceau électronique est utilisée pour produire des films minces pour différents types d'écrans, notamment les technologies LCD (Liquid Crystal Display), OLED (Organic Light Emitting Diode) et les technologies de micro-affichage.
- Fabrication de capteurs et de composants électroniques : L'évaporation par faisceau d'électrons est utilisée pour produire des films minces pour les capteurs, les composants électroniques et les circuits intégrés.
Spécifications techniques
| Diamètre extérieur et haut | 35*17mm | 40*17mm | 45*22mm | 50*25mm |
Les creusets que nous présentons sont disponibles en différentes tailles et des tailles personnalisées sont disponibles sur demande.
Caractéristiques
Le creuset en cuivre sans oxygène à revêtement par évaporation par faisceau d'électrons est doté d'un foyer à quatre poches pouvant contenir jusqu'à quatre matériaux sources, permettant le dépôt séquentiel de quatre couches de matériaux sans rompre le vide. Cela facilite l'application de plusieurs couches différentes de revêtement à partir de différents matériaux cibles, s'adaptant facilement à une variété de techniques de masquage par décollage.
Le creuset est refroidi à l'eau pour l'empêcher de chauffer par l'énergie thermique, et le chauffage direct des matériaux sources élimine le risque de dommages thermiques au substrat. Cela rend l'évaporation E-Beam idéale pour les applications où les températures élevées et la résistance à l'usure sont essentielles, comme dans les industries de l'aérospatiale, de l'automobile et des outils de coupe.
L'évaporation par faisceau électronique est également utilisée pour les films minces optiques allant des optiques laser, des panneaux solaires, des lunettes et du verre architectural pour leur donner les qualités conductrices, réfléchissantes et transmissives souhaitées.
FAQ
Quelles sont les sources d'évaporation thermique ?
Qu'est-ce que le dépôt physique en phase vapeur (PVD) ?
Quels sont les principaux types de sources d'évaporation thermique ?
Quelles sont les méthodes utilisées pour déposer des couches minces ?
Qu'est-ce que la pulvérisation magnétron ?
Qu'est-ce que le PECVD RF ?
Qu'est-ce que la cible de pulvérisation?
Comment fonctionnent les sources d'évaporation thermique ?
Qu'est-ce qu'un équipement de dépôt de couches minces ?
Pourquoi la pulvérisation magnétron ?
Comment sont fabriquées les cibles de pulvérisation ?
Quels sont les matériaux couramment utilisés pour les creusets d’évaporation ?
Quels sont les avantages des sources d'évaporation thermique ?
Qu'est-ce que la technologie de dépôt en couche mince ?
Quels sont les matériaux utilisés dans le dépôt de couches minces ?
Le dépôt de couches minces utilise couramment des métaux, des oxydes et des composés comme matériaux, chacun avec ses avantages et ses inconvénients uniques. Les métaux sont préférés pour leur durabilité et leur facilité de dépôt mais sont relativement coûteux. Les oxydes sont très durables, peuvent résister à des températures élevées et peuvent se déposer à basse température, mais peuvent être cassants et difficiles à travailler. Les composés offrent résistance et durabilité, peuvent être déposés à basse température et adaptés pour présenter des propriétés spécifiques.
Le choix du matériau pour un revêtement en couche mince dépend des exigences de l'application. Les métaux sont idéaux pour la conduction thermique et électrique, tandis que les oxydes sont efficaces pour offrir une protection. Les composés peuvent être adaptés pour répondre à des besoins spécifiques. En fin de compte, le meilleur matériau pour un projet particulier dépendra des besoins spécifiques de l'application.
A quoi sert la cible de pulvérisation ?
Quels sont les avantages de l’utilisation de creusets évaporants ?
Quelles sont les applications des sources d'évaporation thermique ?
Quelles sont les méthodes pour obtenir un dépôt optimal de couches minces ?
Pour obtenir des films minces aux propriétés souhaitables, des cibles de pulvérisation et des matériaux d'évaporation de haute qualité sont essentiels. La qualité de ces matériaux peut être influencée par divers facteurs, tels que la pureté, la granulométrie et l'état de surface.
La pureté des cibles de pulvérisation ou des matériaux d'évaporation joue un rôle crucial, car les impuretés peuvent provoquer des défauts dans le film mince résultant. La taille des grains affecte également la qualité du film mince, des grains plus gros entraînant de mauvaises propriétés du film. De plus, l'état de surface est crucial, car les surfaces rugueuses peuvent entraîner des défauts dans le film.
Pour atteindre des cibles de pulvérisation et des matériaux d'évaporation de la plus haute qualité, il est crucial de sélectionner des matériaux qui possèdent une grande pureté, une petite taille de grain et des surfaces lisses.
Utilisations du dépôt de couches minces
Films minces à base d'oxyde de zinc
Les couches minces de ZnO trouvent des applications dans plusieurs industries telles que la thermique, l'optique, le magnétique et l'électricité, mais leur utilisation principale est dans les revêtements et les dispositifs à semi-conducteurs.
Résistances à couches minces
Les résistances à couches minces sont cruciales pour la technologie moderne et sont utilisées dans les récepteurs radio, les circuits imprimés, les ordinateurs, les appareils à radiofréquence, les moniteurs, les routeurs sans fil, les modules Bluetooth et les récepteurs de téléphones portables.
Couches Minces Magnétiques
Les couches minces magnétiques sont utilisées dans l'électronique, le stockage de données, l'identification par radiofréquence, les dispositifs à micro-ondes, les écrans, les cartes de circuits imprimés et l'optoélectronique en tant que composants clés.
Couches minces optiques
Les revêtements optiques et l'optoélectronique sont des applications standard des couches minces optiques. L'épitaxie par faisceau moléculaire peut produire des dispositifs optoélectroniques à couches minces (semi-conducteurs), où les films épitaxiaux sont déposés un atome à la fois sur le substrat.
Films minces polymères
Les couches minces de polymère sont utilisées dans les puces de mémoire, les cellules solaires et les appareils électroniques. Les techniques de dépôt chimique (CVD) offrent un contrôle précis des revêtements de film polymère, y compris la conformité et l'épaisseur du revêtement.
Batteries à couches minces
Les batteries à couches minces alimentent les appareils électroniques tels que les dispositifs médicaux implantables, et la batterie lithium-ion a considérablement progressé grâce à l'utilisation de couches minces.
Revêtements à couche mince
Les revêtements en couches minces améliorent les caractéristiques chimiques et mécaniques des matériaux cibles dans diverses industries et domaines technologiques. Les revêtements antireflets, les revêtements anti-ultraviolets ou anti-infrarouges, les revêtements anti-rayures et la polarisation des lentilles en sont des exemples courants.
Cellules solaires à couche mince
Les cellules solaires à couches minces sont essentielles à l'industrie de l'énergie solaire, permettant la production d'électricité relativement bon marché et propre. Les systèmes photovoltaïques et l'énergie thermique sont les deux principales technologies applicables.
Que sont les cibles de pulvérisation pour l'électronique ?
Comment les creusets évaporants doivent-ils être manipulés et entretenus ?
Facteurs et paramètres qui influencent le dépôt de couches minces
Taux de dépôt :
La vitesse à laquelle le film est produit, généralement mesurée en épaisseur divisée par le temps, est cruciale pour sélectionner une technologie adaptée à l'application. Des taux de dépôt modérés sont suffisants pour les films minces, tandis que des taux de dépôt rapides sont nécessaires pour les films épais. Il est important de trouver un équilibre entre la vitesse et le contrôle précis de l'épaisseur du film.
Uniformité:
La consistance du film à travers le substrat est connue sous le nom d'uniformité, qui fait généralement référence à l'épaisseur du film, mais peut également être liée à d'autres propriétés telles que l'indice de réfraction. Il est important d'avoir une bonne compréhension de l'application pour éviter de sous-spécifier ou de sur-spécifier l'uniformité.
Capacité de remplissage :
La capacité de remplissage ou la couverture des étapes fait référence à la façon dont le processus de dépôt couvre la topographie du substrat. La méthode de dépôt utilisée (par exemple, CVD, PVD, IBD ou ALD) a un impact significatif sur la couverture et le remplissage des étapes.
Caractéristiques du film :
Les caractéristiques du film dépendent des exigences de l'application, qui peuvent être classées comme photoniques, optiques, électroniques, mécaniques ou chimiques. La plupart des films doivent satisfaire aux exigences dans plus d'une catégorie.
Température de processus :
Les caractéristiques du film sont considérablement affectées par la température du procédé, qui peut être limitée par l'application.
Dommage:
Chaque technologie de dépôt a le potentiel d'endommager le matériau sur lequel elle est déposée, les éléments plus petits étant plus susceptibles d'être endommagés par le processus. La pollution, le rayonnement UV et le bombardement ionique font partie des sources potentielles de dommages. Il est crucial de comprendre les limites des matériaux et des outils.
Quelle est la durée de vie d'une cible de pulvérisation ?
4.8
out of
5
Prompt delivery. Well-packaged and protected.
4.9
out of
5
Amazing quality, works like a charm. Worth every penny!
4.7
out of
5
Durable and long-lasting. Highly recommended!
4.6
out of
5
Great value for money. Exceeded my expectations.
4.8
out of
5
Top-notch quality. Highly satisfied with my purchase.
4.9
out of
5
State-of-the-art technology. Works flawlessly.
4.7
out of
5
Easy to use and maintain. Made my work so much easier.
4.6
out of
5
Reliable and efficient. Highly recommend it to others.
4.8
out of
5
Great addition to my lab. Highly satisfied with the results.
4.9
out of
5
Excellent product. Meets all my requirements.
4.7
out of
5
User-friendly interface. Makes my work more efficient.
PDF - Revêtement par évaporation par faisceau d'électrons Creuset en cuivre sans oxygène
TéléchargerCatalogue de Pièces De Dépôt De Couches Minces
TéléchargerCatalogue de Creuset D'Évaporation
TéléchargerCatalogue de Sources D'évaporation Thermique
TéléchargerCatalogue de Équipement De Dépôt De Couches Minces
TéléchargerCatalogue de Matériaux De Dépôt De Couches Minces
TéléchargerCatalogue de Rf Pecvd
TéléchargerCatalogue de Cibles De Pulvérisation
TéléchargerRICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team di professionisti ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitate a contattarci!
Produits associés
Creuset à faisceau de canon à électrons
Dans le contexte de l'évaporation par faisceau de canon à électrons, un creuset est un conteneur ou un support de source utilisé pour contenir et évaporer le matériau à déposer sur un substrat.
Creuset de tungstène de revêtement d'évaporation de faisceau d'électrons/creuset de molybdène
Les creusets en tungstène et en molybdène sont couramment utilisés dans les procédés d'évaporation par faisceau d'électrons en raison de leurs excellentes propriétés thermiques et mécaniques.
Creuset en nitrure de bore conducteur de haute pureté et lisse pour le revêtement par évaporation par faisceau d'électrons, avec des performances à haute température et de cyclage thermique.
Creuset en graphite à évaporation par faisceau d'électrons
Une technologie principalement utilisée dans le domaine de l'électronique de puissance. Il s'agit d'un film de graphite constitué d'un matériau source de carbone par dépôt de matériau à l'aide de la technologie à faisceau d'électrons.
Ces creusets agissent comme des conteneurs pour le matériau d'or évaporé par le faisceau d'évaporation d'électrons tout en dirigeant avec précision le faisceau d'électrons pour un dépôt précis.
Bateau demi-cercle en creuset en céramique d'alumine (Al2O3) avec couvercle
Les creusets sont des récipients largement utilisés pour la fusion et le traitement de divers matériaux, et les creusets semi-circulaires en forme de bateau conviennent aux exigences spéciales de fusion et de traitement. Leurs types et utilisations varient selon le matériau et la forme.
Creuset d'évaporation en graphite
Cuves pour applications à haute température, où les matériaux sont maintenus à des températures extrêmement élevées pour s'évaporer, permettant le dépôt de couches minces sur des substrats.
Ensemble de bateau d'évaporation en céramique
Il peut être utilisé pour le dépôt en phase vapeur de divers métaux et alliages. La plupart des métaux peuvent être évaporés complètement sans perte. Les paniers d'évaporation sont réutilisables.
Machine de revêtement par évaporation améliorée par plasma PECVD
Améliorez votre processus de revêtement avec l'équipement de revêtement PECVD. Idéal pour les LED, les semi-conducteurs de puissance, les MEMS, etc. Dépose des films solides de haute qualité à basse température.
Bateau d'évaporation de tungstène/molybdène à fond hémisphérique
Utilisé pour le placage d'or, le placage d'argent, le platine, le palladium, adapté à une petite quantité de matériaux à couche mince. Réduisez le gaspillage de matériaux de film et réduisez la dissipation de chaleur.
Creuset en céramique d'alumine (Al2O3) pour four à moufle de laboratoire
Les creusets en céramique d'alumine sont utilisés dans certains matériaux et outils de fusion de métaux, et les creusets à fond plat conviennent à la fusion et au traitement de plus grands lots de matériaux avec une meilleure stabilité et uniformité.
Bateau d'évaporation en céramique aluminisée
Cuve de dépôt de couches minces ; a un corps en céramique revêtu d'aluminium pour une efficacité thermique et une résistance chimique améliorées. ce qui le rend adapté à diverses applications.
Creuset en alumine (Al2O3) avec couvercle Creuset de laboratoire cylindrique
Creusets cylindriques Les creusets cylindriques sont l'une des formes de creuset les plus courantes, adaptées à la fusion et au traitement d'une grande variété de matériaux, et sont faciles à manipuler et à nettoyer.
Bateau d'évaporation de molybdène/tungstène/tantale
Les sources de bateaux d'évaporation sont utilisées dans les systèmes d'évaporation thermique et conviennent au dépôt de divers métaux, alliages et matériaux. Les sources de bateaux d'évaporation sont disponibles dans différentes épaisseurs de tungstène, de tantale et de molybdène pour garantir la compatibilité avec une variété de sources d'énergie. En tant que conteneur, il est utilisé pour l'évaporation sous vide des matériaux. Ils peuvent être utilisés pour le dépôt de couches minces de divers matériaux ou conçus pour être compatibles avec des techniques telles que la fabrication par faisceau électronique.
Système RF PECVD Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à radiofréquence
RF-PECVD est un acronyme pour "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Ce procédé permet de déposer un film de carbone de type diamant (DLC) sur des substrats de germanium et de silicium. Il est utilisé dans la gamme de longueurs d'onde infrarouge 3-12um.
Bateau d'évaporation molybdène/tungstène/tantale - forme spéciale
Le bateau d'évaporation de tungstène est idéal pour l'industrie du revêtement sous vide et le four de frittage ou le recuit sous vide. nous proposons des bateaux d'évaporation en tungstène conçus pour être durables et robustes, avec une longue durée de vie et pour garantir une répartition constante et uniforme des métaux en fusion.
Plaque de quartz optique JGS1 / JGS2 / JGS3
La plaque de quartz est un composant transparent, durable et polyvalent largement utilisé dans diverses industries. Fabriqué à partir de cristal de quartz de haute pureté, il présente une excellente résistance thermique et chimique.
Machine à four tubulaire à dépôt chimique assisté par plasma rotatif incliné (PECVD)
Présentation de notre four PECVD rotatif incliné pour un dépôt précis de couches minces. Profitez d'une source d'adaptation automatique, d'un contrôle de température programmable PID et d'un contrôle de débitmètre massique MFC de haute précision. Fonctions de sécurité intégrées pour une tranquillité d'esprit.
Creuset d'évaporation pour matière organique
Un creuset d'évaporation pour matière organique, appelé creuset d'évaporation, est un récipient pour évaporer des solvants organiques dans un environnement de laboratoire.
Creusets en Alumine (Al2O3) Couverts Analyse Thermique / TGA / DTA
Les cuves d'analyse thermique TGA/DTA sont en oxyde d'aluminium (corindon ou oxyde d'aluminium). Il peut résister à des températures élevées et convient à l'analyse de matériaux nécessitant des tests à haute température.
Four tubulaire CVD polyvalent fabriqué par le client
Obtenez votre four CVD exclusif avec le four polyvalent fabriqué par le client KT-CTF16. Fonctions de glissement, de rotation et d'inclinaison personnalisables pour des réactions précises. Commandez maintenant!
Rack de nettoyage de substrat en verre conducteur PTFE
Le support de nettoyage de substrat en verre conducteur en PTFE est utilisé comme support de la tranche de silicium de cellule solaire carrée pour assurer une manipulation efficace et sans pollution pendant le processus de nettoyage.
Tube de protection en oxyde d'aluminium (Al2O3) - Haute température
Le tube de protection en oxyde d'alumine, également connu sous le nom de tube de corindon résistant aux hautes températures ou tube de protection de thermocouple, est un tube en céramique principalement composé d'alumine (oxyde d'aluminium).
Four tubulaire CVD à chambre divisée avec machine CVD à station de vide
Four CVD à chambre divisée efficace avec station de vide pour un contrôle intuitif des échantillons et un refroidissement rapide. Température maximale jusqu'à 1200℃ avec contrôle précis par débitmètre de masse MFC.
Machine à diamant MPCVD 915MHz
La machine MPCVD 915 MHz pour diamants et sa croissance efficace multi-cristaux, la zone maximale peut atteindre 8 pouces, la zone maximale de croissance efficace du monocristal peut atteindre 5 pouces. Cet équipement est principalement utilisé pour la production de films de diamant polycristallin de grande taille, la croissance de longs diamants monocristallins, la croissance à basse température de graphène de haute qualité et d'autres matériaux dont la croissance nécessite de l'énergie fournie par un plasma à micro-ondes.
Articles associés
Une étude comparative des techniques d'évaporation et de pulvérisation dans le dépôt de couches minces
Les deux techniques les plus couramment utilisées pour le dépôt de couches minces sont l'évaporation et la pulvérisation cathodique.
Comprendre l'électrodéposition avec des électrodes électrochimiques
L'électrodéposition est un processus de dépôt d'un métal ou d'un matériau non métallique sur une surface en appliquant un courant électrique.
Comprendre les cellules électrolytiques et leur rôle dans la purification et la galvanoplastie du cuivre
Les cellules électrolytiques jouent un rôle crucial dans divers processus industriels, notamment la purification du cuivre et la galvanoplastie. Ces cellules utilisent une source d’énergie externe pour provoquer des réactions chimiques, entraînant la décomposition des substances. Grâce au processus d’électrolyse, un courant électrique traverse un liquide ou une solution contenant des ions, provoquant leur décomposition.
Techniques avancées d'évaluation des revêtements à l'aide de cellules électrolytiques
Découvrez le guide complet sur l'évaluation des revêtements à l'aide de cellules électrolytiques, couvrant la galvanoplastie, les méthodes sol-gel et les techniques chimiques par voie humide. Améliorez votre compréhension des propriétés et des applications des revêtements métalliques.
Four de fusion sous vide : Guide complet de la fusion par induction sous vide
Découvrez les subtilités des fours de fusion par induction sous vide, leurs composants, leur fonctionnement, leurs avantages et leurs applications. Découvrez comment ces fours révolutionnent le traitement des métaux et permettent d'obtenir des propriétés de matériaux exceptionnelles.
Revêtement par évaporation par faisceau d'électrons : Avantages, inconvénients et applications
Un examen approfondi des avantages et des inconvénients du revêtement par évaporation par faisceau d'électrons et de ses diverses applications dans l'industrie.
Comprendre les électrodes et les cellules électrochimiques
Une électrode est un point où le courant entre et sort de l’électrolyte. C'est un conducteur utilisé pour réaliser une jonction avec une partie non métallique d'un circuit. Les électrodes peuvent être constituées de matériaux tels que l'or, le platine, le carbone, le graphite ou le métal. Ils servent de surface aux réactions d’oxydo-réduction dans les cellules électrochimiques. Il existe différents types d’électrodes, dont l’anode et la cathode.
Sélection des matériaux de revêtement sous vide : Facteurs clés et considérations
Lignes directrices sur le choix des matériaux de revêtement sous vide en fonction de l'application, des propriétés des matériaux, des méthodes de dépôt, de l'économie, de la compatibilité avec les substrats et de la sécurité.
Technologie de l'enrobage sous vide : Développement et application
Explore l'évolution, les méthodes et les applications de la technologie de revêtement sous vide, en se concentrant sur le dépôt en phase vapeur (PVD) et son impact sur les outils industriels et les moules.
Procédés de dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs
Vue d'ensemble des techniques de dépôt de couches minces, en se concentrant sur les processus de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de dépôt physique en phase vapeur (PVD) dans la fabrication des semi-conducteurs.
Comprendre la technologie de dépôt par pulvérisation cathodique
Un aperçu approfondi de la technologie de dépôt par pulvérisation cathodique, de ses mécanismes, de ses types et de ses applications.
Méthodes de revêtement pour la croissance de films monocristallins
Une vue d'ensemble des différentes méthodes de revêtement telles que le CVD, le PVD et l'épitaxie pour la production de films monocristallins.