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Creuset de tungstène de revêtement d'évaporation de faisceau d'électrons/creuset de molybdène

Pièces de dépôt de couches minces

Creuset de tungstène de revêtement d'évaporation de faisceau d'électrons/creuset de molybdène

Numéro d'article : KMS04

Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations

Matériel
Molybdène / Tungstène
spécification
30-50mm*15-25mm
ISO & CE icon

Livraison:

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Application

L'évaporation par faisceau d'électrons (EBE) est une technique de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour le dépôt de couches minces. Dans EBE, un faisceau d'électrons à haute énergie est utilisé pour chauffer et vaporiser un matériau solide, qui se condense ensuite sur un substrat pour former un film mince. Les creusets en tungstène et en molybdène sont couramment utilisés dans les procédés d'évaporation par faisceau d'électrons en raison de leurs excellentes propriétés thermiques et mécaniques. Les creusets en tungstène/molybdène sont couramment utilisés pour le dépôt de couches minces dans la production de microélectronique, comme les circuits intégrés (CI) et les microprocesseurs ; les procédés de revêtement optique, pour déposer des couches minces sur des lentilles, des miroirs ou d'autres composants optiques ; sont des dépôts de couches minces pour les revêtements antireflets ou les couches conductrices ; revêtements résistants à l'usure : les creusets en tungstène peuvent être utilisés pour déposer des revêtements résistants à l'usure sur divers composants, tels que des outils de coupe ou des pièces de moteur, etc.

Détails et pièces

Creuset de tungstène de revêtement d

Creuset de tungstène de revêtement d

Creuset de tungstène de revêtement d

Creuset de tungstène de revêtement d

Creuset de tungstène de revêtement d

Spécifications techniques

Diamètre extérieur et haut 30*15mm 34*20mm 35*17mm 40*17mm 42*19mm 45*22mm 50mm*22

Les creusets que nous montrons sont disponibles en différentes tailles et des tailles personnalisées sont disponibles sur demande.

Avantages

  • Point de fusion très élevé; adapté au traitement de matériaux à point de fusion élevé. Conductivité thermique élevée pour un transfert de chaleur efficace lors de l'évaporation.
  • Haute pureté; l'utilisation d'un creuset en tungstène permet d'assurer la pureté du film déposé.
  • Haute résistance mécanique; Le tungstène est connu pour son excellente résistance mécanique et sa résistance à la déformation à haute température.
  • basse pression de vapeur ; Le tungstène a une faible pression de vapeur qui aide à minimiser la contamination et à maintenir un environnement de vide propre pendant l'évaporation.

FAQ

Que sont les bateaux en tungstène ?

Les bateaux en tungstène sont de petits conteneurs ou plateaux en métal tungstène. Ils sont conçus pour maintenir et transporter des matériaux à haute température dans diverses applications industrielles et de laboratoire. Les bateaux en tungstène sont couramment utilisés dans des processus tels que l'évaporation, le frittage et l'analyse thermique.

Quels sont les avantages d’utiliser des bateaux en tungstène ?

Les bateaux en tungstène offrent plusieurs avantages dans les applications à haute température. Premièrement, le tungstène a un point de fusion extrêmement élevé de 3 422 °C, ce qui le rend adapté à une utilisation dans des environnements à températures extrêmement élevées. Les bateaux en tungstène ont également une excellente conductivité thermique, permettant un transfert de chaleur efficace et un chauffage uniforme du matériau traité. Ils ont une résistance mécanique élevée et peuvent résister à la déformation et au gauchissement même à des températures élevées. Le tungstène est très résistant à la corrosion chimique, ce qui rend les bateaux en tungstène compatibles avec une large gamme de matériaux et d'environnements. De plus, le tungstène a une faible pression de vapeur, ce qui signifie qu'il présente une contamination minimale par la vapeur, ce qui le rend adapté aux applications de haute pureté. Les bateaux en tungstène ont une longue durée de vie et peuvent être utilisés à plusieurs reprises sans détérioration significative.

Quelles sont les sources d'évaporation thermique ?

Les sources d'évaporation thermique sont des dispositifs utilisés dans les systèmes d'évaporation thermique pour déposer des films minces sur des substrats. Elles fonctionnent en chauffant un matériau (évaporant) à des températures élevées, ce qui provoque son évaporation et sa condensation sur un substrat, formant ainsi un film mince.

Qu'est-ce que le dépôt physique en phase vapeur (PVD) ?

Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) est une technique de dépôt de couches minces en vaporisant un matériau solide sous vide puis en le déposant sur un substrat. Les revêtements PVD sont très durables, résistants aux rayures et à la corrosion, ce qui les rend idéaux pour une variété d'applications, des cellules solaires aux semi-conducteurs. Le PVD crée également des films minces qui peuvent résister à des températures élevées. Cependant, le PVD peut être coûteux et le coût varie en fonction de la méthode utilisée. Par exemple, l'évaporation est une méthode PVD peu coûteuse, tandis que la pulvérisation par faisceau d'ions est plutôt coûteuse. La pulvérisation magnétron, en revanche, est plus coûteuse mais plus évolutive.

Quels sont les principaux types de sources d'évaporation thermique ?

Les principaux types de sources d'évaporation thermique comprennent les sources d'évaporation résistive, les sources d'évaporation par faisceau d'électrons et les sources d'évaporation flash. Chaque type utilise différentes méthodes pour chauffer l'évaporant, telles que le chauffage résistif, le chauffage par faisceau d'électrons ou le contact direct avec une surface chaude.

Qu'est-ce que la pulvérisation magnétron ?

La pulvérisation magnétron est une technique de revêtement à base de plasma utilisée pour produire des films très denses avec une excellente adhérence, ce qui en fait une méthode polyvalente pour créer des revêtements sur des matériaux qui ont des points de fusion élevés et ne peuvent pas être évaporés. Cette méthode génère un plasma magnétiquement confiné près de la surface d'une cible, où des ions énergétiques chargés positivement entrent en collision avec le matériau cible chargé négativement, provoquant l'éjection ou la "pulvérisation" des atomes. Ces atomes éjectés sont ensuite déposés sur un substrat ou une plaquette pour créer le revêtement souhaité.

Quelles sont les méthodes utilisées pour déposer des couches minces ?

Les deux principales méthodes utilisées pour déposer des couches minces sont le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt physique en phase vapeur (PVD). Le CVD consiste à introduire des gaz réactifs dans une chambre, où ils réagissent à la surface de la plaquette pour former un film solide. Le PVD n'implique pas de réactions chimiques ; au lieu de cela, des vapeurs de matériaux constitutifs sont créées à l'intérieur de la chambre, qui se condensent ensuite sur la surface de la tranche pour former un film solide. Les types courants de PVD comprennent le dépôt par évaporation et le dépôt par pulvérisation. Les trois types de techniques de dépôt par évaporation sont l'évaporation thermique, l'évaporation par faisceau d'électrons et le chauffage par induction.

Qu'est-ce que la cible de pulvérisation?

Une cible de pulvérisation est un matériau utilisé dans le processus de dépôt par pulvérisation, qui consiste à briser le matériau cible en minuscules particules qui forment un spray et recouvrent un substrat, tel qu'une plaquette de silicium. Les cibles de pulvérisation sont généralement des éléments métalliques ou des alliages, bien que certaines cibles en céramique soient disponibles. Ils sont disponibles dans une variété de tailles et de formes, certains fabricants créant des cibles segmentées pour les équipements de pulvérisation plus grands. Les cibles de pulvérisation ont une large gamme d'applications dans des domaines tels que la microélectronique, les cellules solaires à couches minces, l'optoélectronique et les revêtements décoratifs en raison de leur capacité à déposer des couches minces avec une grande précision et uniformité.

Comment fonctionnent les sources d'évaporation thermique ?

Les sources d'évaporation thermique fonctionnent en faisant passer un courant électrique à travers un matériau résistif, qui s'échauffe jusqu'à atteindre des températures élevées. Cette chaleur est transférée à l'évaporant, qui fond et se vaporise. La vapeur traverse ensuite une chambre à vide et se condense sur un substrat, formant un film mince.

Pourquoi la pulvérisation magnétron ?

La pulvérisation magnétron est préférée en raison de sa capacité à obtenir une grande précision dans l'épaisseur du film et la densité des revêtements, surpassant les méthodes d'évaporation. Cette technique est particulièrement adaptée à la création de revêtements métalliques ou isolants aux propriétés optiques ou électriques particulières. De plus, les systèmes de pulvérisation magnétron peuvent être configurés avec plusieurs sources de magnétron.

Qu'est-ce qu'un équipement de dépôt de couches minces ?

L'équipement de dépôt de couches minces fait référence aux outils et aux méthodes utilisés pour créer et déposer des revêtements de couches minces sur un matériau de substrat. Ces revêtements peuvent être constitués de divers matériaux et avoir différentes caractéristiques qui peuvent améliorer ou altérer les performances du substrat. Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) est une technique populaire qui consiste à vaporiser un matériau solide sous vide, puis à le déposer sur un substrat. D'autres méthodes incluent l'évaporation et la pulvérisation. L'équipement de dépôt de couches minces est utilisé dans la production de dispositifs optoélectroniques, d'implants médicaux et d'optiques de précision, entre autres.

Comment sont fabriquées les cibles de pulvérisation ?

Les cibles de pulvérisation sont fabriquées à l'aide de divers procédés de fabrication en fonction des propriétés du matériau cible et de son application. Celles-ci incluent la fusion et le laminage sous vide, le pressage à chaud, le procédé spécial de pressage fritté, le pressage à chaud sous vide et les méthodes de forgeage. La plupart des matériaux cibles de pulvérisation peuvent être fabriqués dans une large gamme de formes et de tailles, les formes circulaires ou rectangulaires étant les plus courantes. Les cibles sont généralement constituées d'éléments métalliques ou d'alliages, mais des cibles en céramique peuvent également être utilisées. Des cibles de pulvérisation composées sont également disponibles, fabriquées à partir d'une variété de composés, notamment des oxydes, des nitrures, des borures, des sulfures, des séléniures, des tellurures, des carbures, des mélanges cristallins et composites.

Quels sont les matériaux couramment utilisés pour les creusets d’évaporation ?

Les creusets évaporants sont généralement fabriqués à partir de matériaux tels que le tungstène, le tantale, le molybdène, le graphite ou des composés céramiques. Ces matériaux ont des points de fusion élevés et une bonne conductivité thermique, ce qui les rend adaptés aux conditions de température élevée requises lors de l'évaporation. Le choix du matériau du creuset dépend de facteurs tels que le matériau évaporant, les propriétés souhaitées du film et les paramètres du processus.

Quels sont les avantages des sources d'évaporation thermique ?

Les avantages des sources d'évaporation thermique comprennent des taux de dépôt élevés, une bonne direction, une excellente uniformité et une compatibilité avec divers matériaux. Elles sont également relativement simples et abordables, ce qui les rend adaptées à un large éventail d'applications dans le domaine du dépôt de couches minces.

Quels sont les avantages d’utiliser des bateaux d’évaporation ?

Les bateaux d'évaporation offrent plusieurs avantages dans les processus de dépôt de couches minces. Ils fournissent un environnement contrôlé pour l’évaporation des matériaux, garantissant un contrôle précis de l’épaisseur et de l’uniformité du film. Les bateaux d'évaporation peuvent résister à des températures élevées et assurer un transfert de chaleur efficace, permettant des taux d'évaporation constants. Ils sont disponibles en différentes tailles et formes, s'adaptant à différents systèmes d'évaporation et configurations de substrat. Les bateaux d'évaporation permettent le dépôt d'une large gamme de matériaux, notamment les métaux, les semi-conducteurs et les céramiques. Ils sont faciles à charger et à décharger, ce qui facilite les changements rapides de matériaux ou les ajustements de processus. Dans l’ensemble, les bateaux d’évaporation sont des outils essentiels dans les techniques de dépôt de couches minces, offrant polyvalence, fiabilité et reproductibilité.

Quels sont les matériaux utilisés dans le dépôt de couches minces ?

Le dépôt de couches minces utilise couramment des métaux, des oxydes et des composés comme matériaux, chacun avec ses avantages et ses inconvénients uniques. Les métaux sont préférés pour leur durabilité et leur facilité de dépôt mais sont relativement coûteux. Les oxydes sont très durables, peuvent résister à des températures élevées et peuvent se déposer à basse température, mais peuvent être cassants et difficiles à travailler. Les composés offrent résistance et durabilité, peuvent être déposés à basse température et adaptés pour présenter des propriétés spécifiques.

Le choix du matériau pour un revêtement en couche mince dépend des exigences de l'application. Les métaux sont idéaux pour la conduction thermique et électrique, tandis que les oxydes sont efficaces pour offrir une protection. Les composés peuvent être adaptés pour répondre à des besoins spécifiques. En fin de compte, le meilleur matériau pour un projet particulier dépendra des besoins spécifiques de l'application.

Qu'est-ce que la technologie de dépôt en couche mince ?

La technologie de dépôt de couches minces est le processus d'application d'un film très mince de matériau, dont l'épaisseur varie de quelques nanomètres à 100 micromètres, sur une surface de substrat ou sur des revêtements préalablement déposés. Cette technologie est utilisée dans la production d'électronique moderne, y compris les semi-conducteurs, les dispositifs optiques, les panneaux solaires, les CD et les lecteurs de disque. Les deux grandes catégories de dépôt de couches minces sont le dépôt chimique, où un changement chimique produit un revêtement déposé chimiquement, et le dépôt physique en phase vapeur, où un matériau est libéré d'une source et déposé sur un substrat à l'aide de processus mécaniques, électromécaniques ou thermodynamiques.

A quoi sert la cible de pulvérisation ?

Les cibles de pulvérisation sont utilisées dans un processus appelé pulvérisation pour déposer des films minces d'un matériau sur un substrat en utilisant des ions pour bombarder la cible. Ces cibles ont une large gamme d'applications dans divers domaines, notamment la microélectronique, les cellules solaires à couches minces, l'optoélectronique et les revêtements décoratifs. Ils permettent le dépôt de couches minces de matériaux sur une variété de substrats avec une grande précision et uniformité, ce qui en fait un outil idéal pour produire des produits de précision. Les cibles de pulvérisation se présentent sous différentes formes et tailles et peuvent être spécialisées pour répondre aux exigences spécifiques de l'application.

Quels sont les avantages de l’utilisation de creusets évaporants ?

Les creusets évaporants offrent plusieurs avantages dans les procédés de dépôt de couches minces. Ils fournissent un environnement contrôlé pour l’évaporation des matériaux, permettant un contrôle précis de l’épaisseur et de l’uniformité du film. Les creusets peuvent résister à des températures élevées et assurer un transfert de chaleur efficace, garantissant des taux d'évaporation constants. Ils sont disponibles en différentes tailles et formes pour s'adapter à différents systèmes d'évaporation et configurations de substrat. Les creusets évaporants permettent également le dépôt d'une large gamme de matériaux, notamment les métaux, les semi-conducteurs et les céramiques. Ils peuvent être facilement chargés et déchargés, facilitant ainsi les changements rapides de matériaux ou les ajustements de processus. Dans l’ensemble, les creusets évaporants sont des outils essentiels dans les techniques de dépôt de couches minces, offrant polyvalence, fiabilité et reproductibilité.

Quelles sont les applications des sources d'évaporation thermique ?

Les sources d'évaporation thermique sont utilisées dans diverses applications telles que la production de revêtements optiques, de dispositifs semi-conducteurs et de divers types de couches minces. Elles sont particulièrement utiles dans les industries qui exigent un contrôle précis du dépôt de matériaux sur des substrats.

Quelle est la durée de vie typique d’un bateau d’évaporation ?

La durée de vie d'un bateau d'évaporation peut varier en fonction de plusieurs facteurs. Cela dépend avant tout du matériau utilisé pour le bateau, des conditions d'exploitation et de la fréquence d'utilisation. Les bateaux d'évaporation fabriqués à partir de métaux réfractaires comme le tungstène ou le molybdène sont généralement plus durables et ont une durée de vie plus longue que les bateaux fabriqués à partir de matériaux céramiques. Avec une manipulation appropriée, un entretien régulier et des procédures de nettoyage appropriées, les bateaux d'évaporation peuvent généralement être utilisés pour plusieurs cycles de dépôt. Cependant, au fil du temps, les bateaux d’évaporation peuvent subir une usure, telle que des fissures ou une dégradation, ce qui peut réduire leur durée de vie. Il est important de surveiller l’état du bateau d’évaporation, d’effectuer des inspections régulières et de le remplacer si nécessaire pour garantir un dépôt de couche mince cohérent et fiable.

Quelles sont les méthodes pour obtenir un dépôt optimal de couches minces ?

Pour obtenir des films minces aux propriétés souhaitables, des cibles de pulvérisation et des matériaux d'évaporation de haute qualité sont essentiels. La qualité de ces matériaux peut être influencée par divers facteurs, tels que la pureté, la granulométrie et l'état de surface.

La pureté des cibles de pulvérisation ou des matériaux d'évaporation joue un rôle crucial, car les impuretés peuvent provoquer des défauts dans le film mince résultant. La taille des grains affecte également la qualité du film mince, des grains plus gros entraînant de mauvaises propriétés du film. De plus, l'état de surface est crucial, car les surfaces rugueuses peuvent entraîner des défauts dans le film.

Pour atteindre des cibles de pulvérisation et des matériaux d'évaporation de la plus haute qualité, il est crucial de sélectionner des matériaux qui possèdent une grande pureté, une petite taille de grain et des surfaces lisses.

Utilisations du dépôt de couches minces

Films minces à base d'oxyde de zinc

Les couches minces de ZnO trouvent des applications dans plusieurs industries telles que la thermique, l'optique, le magnétique et l'électricité, mais leur utilisation principale est dans les revêtements et les dispositifs à semi-conducteurs.

Résistances à couches minces

Les résistances à couches minces sont cruciales pour la technologie moderne et sont utilisées dans les récepteurs radio, les circuits imprimés, les ordinateurs, les appareils à radiofréquence, les moniteurs, les routeurs sans fil, les modules Bluetooth et les récepteurs de téléphones portables.

Couches Minces Magnétiques

Les couches minces magnétiques sont utilisées dans l'électronique, le stockage de données, l'identification par radiofréquence, les dispositifs à micro-ondes, les écrans, les cartes de circuits imprimés et l'optoélectronique en tant que composants clés.

Couches minces optiques

Les revêtements optiques et l'optoélectronique sont des applications standard des couches minces optiques. L'épitaxie par faisceau moléculaire peut produire des dispositifs optoélectroniques à couches minces (semi-conducteurs), où les films épitaxiaux sont déposés un atome à la fois sur le substrat.

Films minces polymères

Les couches minces de polymère sont utilisées dans les puces de mémoire, les cellules solaires et les appareils électroniques. Les techniques de dépôt chimique (CVD) offrent un contrôle précis des revêtements de film polymère, y compris la conformité et l'épaisseur du revêtement.

Batteries à couches minces

Les batteries à couches minces alimentent les appareils électroniques tels que les dispositifs médicaux implantables, et la batterie lithium-ion a considérablement progressé grâce à l'utilisation de couches minces.

Revêtements à couche mince

Les revêtements en couches minces améliorent les caractéristiques chimiques et mécaniques des matériaux cibles dans diverses industries et domaines technologiques. Les revêtements antireflets, les revêtements anti-ultraviolets ou anti-infrarouges, les revêtements anti-rayures et la polarisation des lentilles en sont des exemples courants.

Cellules solaires à couche mince

Les cellules solaires à couches minces sont essentielles à l'industrie de l'énergie solaire, permettant la production d'électricité relativement bon marché et propre. Les systèmes photovoltaïques et l'énergie thermique sont les deux principales technologies applicables.

Que sont les cibles de pulvérisation pour l'électronique ?

Les cibles de pulvérisation pour l'électronique sont des disques minces ou des feuilles de matériaux tels que l'aluminium, le cuivre et le titane qui sont utilisés pour déposer des films minces sur des tranches de silicium afin de créer des dispositifs électroniques tels que des transistors, des diodes et des circuits intégrés. Ces cibles sont utilisées dans un processus appelé pulvérisation, dans lequel les atomes du matériau cible sont physiquement éjectés de la surface et déposés sur un substrat en bombardant la cible avec des ions. Les cibles de pulvérisation pour l'électronique sont essentielles dans la production de microélectronique et nécessitent généralement une précision et une uniformité élevées pour garantir des dispositifs de qualité.

Comment les creusets évaporants doivent-ils être manipulés et entretenus ?

Les creusets évaporants doivent être manipulés et entretenus avec soin pour garantir leur longévité et leurs performances. Les creusets doivent être soigneusement nettoyés avant chaque utilisation pour éliminer tout matériau résiduel des dépôts précédents. Évitez d'utiliser des matériaux abrasifs qui pourraient endommager la surface du creuset. Pendant le chargement et le déchargement, manipuler les creusets avec des gants propres ou des outils spécialisés pour éviter toute contamination. Lorsqu'ils ne sont pas utilisés, stockez les creusets dans un environnement sec et propre pour éviter la corrosion ou la dégradation. Une inspection régulière des creusets à la recherche de fissures, de défauts ou de signes d'usure est importante pour éviter des pannes inattendues pendant le processus d'évaporation. Suivez les recommandations du fabricant pour toute procédure de maintenance spécifique, telle que le recuit ou le traitement de surface, afin de prolonger la durée de vie du creuset.

Les bateaux d'évaporation peuvent-ils être réutilisés ?

Les bateaux d'évaporation peuvent être réutilisés, mais cela dépend de plusieurs facteurs. L'état du bateau, sa propreté et sa compatibilité avec les différents matériaux évaporants jouent un rôle important pour déterminer s'il peut être réutilisé. Si le bateau d'évaporation est en bon état, exempt de fissures ou de défauts, et a été soigneusement nettoyé, il peut généralement être réutilisé pour des dépôts ultérieurs. Cependant, si le bateau a été exposé à des matériaux réactifs ou présente des signes de dégradation, il peut ne pas être adapté à la réutilisation. Tenez compte du potentiel de contamination ou de réactions indésirables lors de la réutilisation des bateaux d’évaporation. Une inspection régulière et des procédures de nettoyage appropriées sont essentielles pour maintenir les performances du bateau et garantir son aptitude à la réutilisation.

Facteurs et paramètres qui influencent le dépôt de couches minces

Taux de dépôt :

La vitesse à laquelle le film est produit, généralement mesurée en épaisseur divisée par le temps, est cruciale pour sélectionner une technologie adaptée à l'application. Des taux de dépôt modérés sont suffisants pour les films minces, tandis que des taux de dépôt rapides sont nécessaires pour les films épais. Il est important de trouver un équilibre entre la vitesse et le contrôle précis de l'épaisseur du film.

Uniformité:

La consistance du film à travers le substrat est connue sous le nom d'uniformité, qui fait généralement référence à l'épaisseur du film, mais peut également être liée à d'autres propriétés telles que l'indice de réfraction. Il est important d'avoir une bonne compréhension de l'application pour éviter de sous-spécifier ou de sur-spécifier l'uniformité.

Capacité de remplissage :

La capacité de remplissage ou la couverture des étapes fait référence à la façon dont le processus de dépôt couvre la topographie du substrat. La méthode de dépôt utilisée (par exemple, CVD, PVD, IBD ou ALD) a un impact significatif sur la couverture et le remplissage des étapes.

Caractéristiques du film :

Les caractéristiques du film dépendent des exigences de l'application, qui peuvent être classées comme photoniques, optiques, électroniques, mécaniques ou chimiques. La plupart des films doivent satisfaire aux exigences dans plus d'une catégorie.

Température de processus :

Les caractéristiques du film sont considérablement affectées par la température du procédé, qui peut être limitée par l'application.

Dommage:

Chaque technologie de dépôt a le potentiel d'endommager le matériau sur lequel elle est déposée, les éléments plus petits étant plus susceptibles d'être endommagés par le processus. La pollution, le rayonnement UV et le bombardement ionique font partie des sources potentielles de dommages. Il est crucial de comprendre les limites des matériaux et des outils.

Quelle est la durée de vie d'une cible de pulvérisation ?

La durée de vie d'une cible de pulvérisation dépend de facteurs tels que la composition du matériau, sa pureté et l'application spécifique pour laquelle elle est utilisée. Généralement, les cibles peuvent durer plusieurs centaines à quelques milliers d'heures de pulvérisation, mais cela peut varier considérablement en fonction des conditions spécifiques de chaque cycle. Une manipulation et un entretien appropriés peuvent également prolonger la durée de vie d'une cible. De plus, l'utilisation de cibles de pulvérisation rotative peut augmenter les durées d'exécution et réduire l'apparition de défauts, ce qui en fait une option plus rentable pour les processus à volume élevé.

Comment sélectionnez-vous le matériau approprié du bateau d’évaporation ?

Le choix du matériau approprié pour le bateau d'évaporation dépend de plusieurs facteurs. Tenez compte du point de fusion du matériau en cours d'évaporation et choisissez un matériau de bateau avec un point de fusion plus élevé pour éviter une défaillance du bateau. Tenez également compte de la compatibilité du matériau du bateau avec l'évaporant pour éviter les réactions ou la contamination. La conductivité thermique et la capacité thermique du bateau doivent être évaluées pour un transfert de chaleur et un contrôle efficaces de la température pendant l'évaporation. De plus, tenez compte des propriétés mécaniques du bateau, telles que la résistance et la durabilité, pour vous assurer qu'il peut résister à des cycles répétés de chauffage et de refroidissement.
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4.8

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5

Electron beam evaporation coating made simple and efficient with Kintek Solution's tools.

Jannie Krige

4.9

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Kintek Solution's crucibles have taken our manufacturing process to the next level. The quality and durability are second to none.

Brice Beaubien

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The expertise of Kintek Solution in electron beam evaporation coating is evident in their outstanding products.

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Marc-Andre Giroux

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Bogdan Steblecki

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5

Kintek Solution's electron beam evaporation coating products are a game-changer, delivering precision and reliability.

Jana Novak

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Creuset d'évaporation en graphite

Creuset d'évaporation en graphite

Cuves pour applications à haute température, où les matériaux sont maintenus à des températures extrêmement élevées pour s'évaporer, permettant le dépôt de couches minces sur des substrats.

Bateau demi-cercle en creuset en céramique d'alumine (Al2O3) avec couvercle

Bateau demi-cercle en creuset en céramique d'alumine (Al2O3) avec couvercle

Les creusets sont des récipients largement utilisés pour la fusion et le traitement de divers matériaux, et les creusets semi-circulaires en forme de bateau conviennent aux exigences spéciales de fusion et de traitement. Leurs types et utilisations varient selon le matériau et la forme.

Creuset en céramique d'alumine (Al2O3) pour four à moufle de laboratoire

Creuset en céramique d'alumine (Al2O3) pour four à moufle de laboratoire

Les creusets en céramique d'alumine sont utilisés dans certains matériaux et outils de fusion de métaux, et les creusets à fond plat conviennent à la fusion et au traitement de plus grands lots de matériaux avec une meilleure stabilité et uniformité.

Creuset en alumine (Al2O3) avec couvercle Creuset de laboratoire cylindrique

Creuset en alumine (Al2O3) avec couvercle Creuset de laboratoire cylindrique

Creusets cylindriques Les creusets cylindriques sont l'une des formes de creuset les plus courantes, adaptées à la fusion et au traitement d'une grande variété de matériaux, et sont faciles à manipuler et à nettoyer.

Creuset d'évaporation pour matière organique

Creuset d'évaporation pour matière organique

Un creuset d'évaporation pour matière organique, appelé creuset d'évaporation, est un récipient pour évaporer des solvants organiques dans un environnement de laboratoire.

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