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sources d'évaporation thermique

Nos sources d'évaporation thermique sont des outils essentiels dans le domaine du dépôt de couches minces, utilisés pour déposer divers métaux, alliages et matériaux sur des substrats. Nos produits comprennent notamment des cuves d'évaporation en molybdène/tungstène/tantale, des creusets d'évaporation par faisceau d'électrons et des creusets d'évaporation en graphite. Ces sources assurent la compatibilité avec différentes sources d'énergie et sont essentielles pour obtenir des revêtements en couches minces uniformes et de haute qualité.

Four sous vide de tungstène 2200 ℃

Four sous vide de tungstène 2200 ℃

Numéro d'article : KT-VT

1800℃ Four à moufle

1800℃ Four à moufle

Numéro d'article : KT-18M

Creuset d'évaporation en graphite

Creuset d'évaporation en graphite

Numéro d'article : KME07


Sources d'évaporation thermique avancées pour le dépôt de couches minces de précision

Les sources d'évaporation thermique sont essentielles dans le processus de dépôt de couches minces, une technique largement utilisée dans des industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, l'optique et l'électronique. Notre gamme de sources d'évaporation thermique, comprenant des cuves d'évaporation en molybdène/tungstène/tantale, des creusets d'évaporation par faisceau d'électrons et des creusets d'évaporation en graphite, est conçue pour répondre aux exigences rigoureuses de ces applications.

Caractéristiques et principes clés

Pendant le fonctionnement, le courant électrique passe par des barres d'alimentation dans la source, ce qui permet un chauffage résistif à des températures élevées. Ce processus de chauffage fait fondre et s'évaporer l'évaporant supporté, libérant de la vapeur qui se déplace à travers le vide de la chambre pour revêtir un substrat. Le choix de la source est crucial, car il détermine l'efficacité et la pureté du processus de dépôt. Nos sources sont équipées d'un blindage de type boîte pour améliorer l'efficacité et limiter l'émission d'IR et de matériaux de dépôt dans des directions non désirées.

Avantages de nos sources d'évaporation thermique

  1. Taux de dépôt élevés: Nos sources assurent un dépôt rapide et efficace, ce qui est essentiel pour les applications à haut débit.
  2. Excellente uniformité: L'utilisation de masques et de systèmes planétaires garantit un revêtement uniforme sur tout le substrat.
  3. Faibles niveaux d'impureté: Les méthodes d'évaporation par faisceau d'électrons offrent de faibles niveaux d'impureté, ce qui garantit des revêtements d'une grande pureté.
  4. Polyvalence: Convient à une large gamme de matériaux, y compris les métaux, les alliages et les non-métaux.
  5. Solutions personnalisables: Nous proposons des sources d'évaporation personnalisables pour répondre aux exigences spécifiques des clients, garantissant des performances optimales pour des applications uniques.

Applications

Nos sources d'évaporation thermique sont utilisées dans diverses applications, notamment :

  • Fabrication de semi-conducteurs: Pour le dépôt de couches minces dans les circuits intégrés.
  • L'optique: Dans la production de revêtements optiques pour les lentilles et les miroirs.
  • Électronique: Pour la création de couches conductrices et isolantes dans les appareils électroniques.
  • Recherche et développement: Dans les laboratoires de recherche et de développement de matériaux avancés.

Pourquoi nous choisir ?

Notre expertise dans le domaine des sources d'évaporation thermique s'appuie sur des années d'expérience et un engagement de qualité. Nous fournissons non seulement des produits de haute performance, mais aussi une assistance technique complète et des services de personnalisation. Que vous ayez besoin de sources d'évaporation standard ou de solutions sur mesure, nous sommes là pour répondre à vos besoins.

Pour plus d'informations ou pour discuter de vos besoins spécifiques, veuilleznous contacter. Notre équipe d'experts est prête à vous aider à obtenir les meilleurs résultats pour vos processus de dépôt de couches minces.


FAQ

Quelles sont les sources d'évaporation thermique ?

Les sources d'évaporation thermique sont des dispositifs utilisés dans les systèmes d'évaporation thermique pour déposer des films minces sur des substrats. Elles fonctionnent en chauffant un matériau (évaporant) à des températures élevées, ce qui provoque son évaporation et sa condensation sur un substrat, formant ainsi un film mince.

Quels sont les principaux types de sources d'évaporation thermique ?

Les principaux types de sources d'évaporation thermique comprennent les sources d'évaporation résistive, les sources d'évaporation par faisceau d'électrons et les sources d'évaporation flash. Chaque type utilise différentes méthodes pour chauffer l'évaporant, telles que le chauffage résistif, le chauffage par faisceau d'électrons ou le contact direct avec une surface chaude.

Comment fonctionnent les sources d'évaporation thermique ?

Les sources d'évaporation thermique fonctionnent en faisant passer un courant électrique à travers un matériau résistif, qui s'échauffe jusqu'à atteindre des températures élevées. Cette chaleur est transférée à l'évaporant, qui fond et se vaporise. La vapeur traverse ensuite une chambre à vide et se condense sur un substrat, formant un film mince.

Quels sont les avantages des sources d'évaporation thermique ?

Les avantages des sources d'évaporation thermique comprennent des taux de dépôt élevés, une bonne direction, une excellente uniformité et une compatibilité avec divers matériaux. Elles sont également relativement simples et abordables, ce qui les rend adaptées à un large éventail d'applications dans le domaine du dépôt de couches minces.

Quelles sont les applications des sources d'évaporation thermique ?

Les sources d'évaporation thermique sont utilisées dans diverses applications telles que la production de revêtements optiques, de dispositifs semi-conducteurs et de divers types de couches minces. Elles sont particulièrement utiles dans les industries qui exigent un contrôle précis du dépôt de matériaux sur des substrats.

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