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Creuset en graphite à évaporation par faisceau d'électrons

Pièces de dépôt de couches minces

Creuset en graphite à évaporation par faisceau d'électrons

Numéro d'article : KMS02

Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations


Matériel
Graphite
spécification
Ф35-65*17-30mm
couverture
facultatif
ISO & CE icon

Livraison:

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Applications

Le creuset en graphite à évaporation par faisceau d'électrons est une technologie qui utilise des faisceaux d'électrons pour créer des films de graphite flexibles et rugueux. Ses paramètres clés comprennent l'approvisionnement en source de carbone, l'énergie d'irradiation par faisceau d'électrons, la tension appliquée, la température d'évaporation et le temps d'évaporation. La tension appliquée module l'adhérence entre la couche de graphite et la couche inférieure du creuset. Pour assurer une couche de graphite plate, le débit et la taille des particules de l'alimentation en source de carbone doivent être contrôlés pour obtenir un dépôt et une évaporation uniformes.

Dans le domaine de l'électronique de puissance, la technologie du creuset en graphite à évaporation par faisceau d'électrons est largement utilisée. Il s'agit de déposer un matériau source de carbone à l'aide d'un faisceau d'électrons pour former un film mince de graphite. Le creuset en graphite fabriqué par ce procédé a une faible résistance, un faible corona et une limite d'élasticité élevée. Il est largement utilisé dans la dissipation thermique, la fabrication de tension de tenue et les tests d'équipements électroniques.

Détails et pièces

Détails du creuset en graphite à évaporation par faisceau d

Détails du creuset en graphite à évaporation par faisceau d

Détails du creuset en graphite à évaporation par faisceau d

Creuset en graphite étanche avec couvercle détail 1
Creuset en graphite étanche avec couvercle
Creuset en graphite étanche avec couvercle détail 2
Creuset en graphite étanche avec couvercle
Creuset en graphite étanche avec couvercle détail 3
Creuset en graphite étanche avec couvercle
Creuset en graphite étanche avec couvercle détail 4
Creuset en graphite étanche avec couvercle

Spécifications techniques

Dimensions du creuset en graphite 35*17mm 35*22mm 40*20mm 42.5*19.5mm 45*22.5mm 50*25mm 65*30mm

Les creusets que nous montrons sont disponibles en différentes tailles et des tailles personnalisées sont disponibles sur demande.

Avantage

  • Précision de la préparation : la technologie d'évaporation par faisceau d'électrons peut contrôler avec précision le processus de dépôt, ce qui permet d'obtenir des creusets en graphite de haute précision et cohérents.
  • Résistance aux chocs thermiques : Les films de graphite formés par évaporation par faisceau d'électrons ont une excellente résistance aux chocs thermiques et conviennent aux applications avec des changements de température rapides.
  • Résistance à l'usure : le creuset en graphite évaporé par faisceau d'électrons a une bonne résistance à l'usure, ce qui le rend durable et capable de résister à des conditions difficiles.
  • Résistance chimique : Ces creusets résistent aux acides, aux alcalis et à la contamination chimique, garantissant leur fiabilité et leur longévité dans des environnements chimiquement agressifs.
  • Flexibilité et rugosité : Le film de graphite formé par cette technique présente un certain degré de flexibilité et de rugosité, ce qui le rend efficace pour diverses applications.

En conclusion, les creusets en graphite évaporé par faisceau d'électrons ont une préparation précise, une résistance aux chocs thermiques, une résistance à l'abrasion, une résistance chimique, une flexibilité et une rugosité. Ils sont largement utilisés dans l'électronique de puissance, les tests de liaison moléculaire, la technologie laser, les batteries, les condensateurs haute tension et les applications de dispositifs médicaux.

FAQ

Quelles sont les sources d'évaporation thermique ?

Les sources d'évaporation thermique sont des dispositifs utilisés dans les systèmes d'évaporation thermique pour déposer des films minces sur des substrats. Elles fonctionnent en chauffant un matériau (évaporant) à des températures élevées, ce qui provoque son évaporation et sa condensation sur un substrat, formant ainsi un film mince.

Qu'est-ce qu'un four de graphitisation ?

Un four de graphitisation est un équipement spécialisé utilisé pour convertir des matières carbonées, telles que le coke de pétrole ou le brai de goudron de houille, en graphite par un traitement à haute température dans une atmosphère inerte. Ce processus implique généralement des températures comprises entre 2 500 et 3 000 degrés Celsius.

Comparaison de la technologie du creuset en graphite par évaporation par faisceau d'électrons et de la technologie traditionnelle.

Bien que la technologie des creusets en graphite à évaporation par faisceau d'électrons soit plus coûteuse que le pressage à chaud traditionnel, elle a une plus grande précision et convient mieux à la fabrication de creusets en graphite complexes. Par rapport à l'évaporation conventionnelle de la source de carbone, l'évaporation par faisceau d'électrons permet d'obtenir une distribution uniforme de la source de carbone et une surface de carbone lisse, améliorant ainsi les performances et la fiabilité du matériau. La technologie offre une méthode plus simple et plus économe en énergie pour la fabrication de dispositifs dans des domaines tels que l'électronique de puissance, et améliore considérablement la fiabilité des dispositifs.

Comment sont fabriqués les creusets en graphite de haute pureté ?

Les creusets en graphite de haute pureté sont généralement fabriqués selon un processus appelé pressage isostatique. Dans cette méthode, la poudre de graphite est placée dans un moule en caoutchouc, puis soumise à une haute pression provenant de toutes les directions. Cette pression compacte les particules de graphite en une forme de creuset dense et uniforme. Le creuset est ensuite chauffé à haute température pour éliminer les éventuelles impuretés et améliorer sa pureté.

Quels sont les principaux types de sources d'évaporation thermique ?

Les principaux types de sources d'évaporation thermique comprennent les sources d'évaporation résistive, les sources d'évaporation par faisceau d'électrons et les sources d'évaporation flash. Chaque type utilise différentes méthodes pour chauffer l'évaporant, telles que le chauffage résistif, le chauffage par faisceau d'électrons ou le contact direct avec une surface chaude.

Quelles sont les principales applications des fours de graphitisation ?

Les fours de graphitisation sont essentiels dans des industries telles que la métallurgie, l'électronique et l'aérospatiale. Ils fabriquent des produits en graphite de haute qualité tels que des électrodes, des creusets et des composants structurels, qui sont essentiels pour diverses applications à haute température.

Qu'est-ce que le PECVD RF ?

RF PECVD signifie dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma radiofréquence, qui est une technique utilisée pour préparer des films polycristallins sur un substrat en utilisant un plasma à décharge luminescente pour influencer le processus pendant le dépôt chimique en phase vapeur à basse pression. La méthode RF PECVD est bien établie pour la technologie standard des circuits intégrés au silicium, où des tranches généralement plates sont utilisées comme substrats. Cette méthode est avantageuse en raison de la possibilité d'une fabrication de film à faible coût et d'une grande efficacité de dépôt. Les matériaux peuvent également être déposés sous forme de films à gradient d'indice de réfraction ou sous forme d'empilement de nano-films ayant chacun des propriétés différentes.

Qu'est-ce que la cible de pulvérisation?

Une cible de pulvérisation est un matériau utilisé dans le processus de dépôt par pulvérisation, qui consiste à briser le matériau cible en minuscules particules qui forment un spray et recouvrent un substrat, tel qu'une plaquette de silicium. Les cibles de pulvérisation sont généralement des éléments métalliques ou des alliages, bien que certaines cibles en céramique soient disponibles. Ils sont disponibles dans une variété de tailles et de formes, certains fabricants créant des cibles segmentées pour les équipements de pulvérisation plus grands. Les cibles de pulvérisation ont une large gamme d'applications dans des domaines tels que la microélectronique, les cellules solaires à couches minces, l'optoélectronique et les revêtements décoratifs en raison de leur capacité à déposer des couches minces avec une grande précision et uniformité.

Quelles sont les applications courantes des creusets en graphite de haute pureté ?

Les creusets en graphite de haute pureté ont une large gamme d'applications dans des industries telles que la métallurgie, les fonderies et les laboratoires. Ils sont couramment utilisés pour fondre et couler des métaux non ferreux, notamment l’aluminium, le cuivre et les métaux précieux. Les creusets en graphite de haute pureté sont également utilisés dans la production d'alliages et de céramiques haute température. Ils sont essentiels dans des processus tels que l'analyse chimique, la spectroscopie et la préparation d'échantillons en laboratoire. De plus, ces creusets trouvent des applications dans l’industrie des semi-conducteurs pour la fusion et la croissance du silicium et d’autres matériaux semi-conducteurs.

Comment fonctionnent les sources d'évaporation thermique ?

Les sources d'évaporation thermique fonctionnent en faisant passer un courant électrique à travers un matériau résistif, qui s'échauffe jusqu'à atteindre des températures élevées. Cette chaleur est transférée à l'évaporant, qui fond et se vaporise. La vapeur traverse ensuite une chambre à vide et se condense sur un substrat, formant un film mince.

Quels sont les différents types de fours de graphitisation ?

Il existe plusieurs types de fours de graphitisation, notamment les fours de graphitisation horizontale à haute température, les grands fours de graphitisation verticale, les fours de graphitisation continue, les fours de graphitisation de matériaux négatifs, les fours de graphitisation verticale à haute température, les fours de graphitisation à ultra-haute température, les fours de graphitisation expérimentale IGBT, les fours de graphitisation de films à haute conductivité thermique, les fours de graphitisation à décharge par le bas pour les matériaux en carbone et les fours à vide pour le graphite à 2200°C.

Comment sont fabriquées les cibles de pulvérisation ?

Les cibles de pulvérisation sont fabriquées à l'aide de divers procédés de fabrication en fonction des propriétés du matériau cible et de son application. Celles-ci incluent la fusion et le laminage sous vide, le pressage à chaud, le procédé spécial de pressage fritté, le pressage à chaud sous vide et les méthodes de forgeage. La plupart des matériaux cibles de pulvérisation peuvent être fabriqués dans une large gamme de formes et de tailles, les formes circulaires ou rectangulaires étant les plus courantes. Les cibles sont généralement constituées d'éléments métalliques ou d'alliages, mais des cibles en céramique peuvent également être utilisées. Des cibles de pulvérisation composées sont également disponibles, fabriquées à partir d'une variété de composés, notamment des oxydes, des nitrures, des borures, des sulfures, des séléniures, des tellurures, des carbures, des mélanges cristallins et composites.

Quels facteurs doivent être pris en compte lors de la sélection de creusets en graphite de haute pureté ?

Lors de la sélection de creusets en graphite de haute pureté, plusieurs facteurs doivent être pris en compte. Premièrement, la taille et la capacité du creuset doivent correspondre à l'application prévue et à la quantité de matériau à fondre ou à traiter. La conductivité thermique du creuset, sa résistance aux chocs thermiques et sa compatibilité chimique doivent être évaluées pour garantir qu'ils répondent aux exigences spécifiques du processus. Il est important de sélectionner des creusets fabriqués à partir d'un matériau graphite de haute qualité avec des niveaux de pureté élevés pour minimiser la contamination et garantir d'excellentes performances. La conception et la construction du creuset doivent également être prises en compte, comme la présence de poignées ou de becs verseurs pour une manipulation aisée. De plus, il est conseillé de consulter des fabricants ou des experts dans le domaine pour garantir la sélection des creusets en graphite de haute pureté les plus adaptés à des applications spécifiques.

Quels sont les matériaux couramment utilisés pour les creusets d’évaporation ?

Les creusets évaporants sont généralement fabriqués à partir de matériaux tels que le tungstène, le tantale, le molybdène, le graphite ou des composés céramiques. Ces matériaux ont des points de fusion élevés et une bonne conductivité thermique, ce qui les rend adaptés aux conditions de température élevée requises lors de l'évaporation. Le choix du matériau du creuset dépend de facteurs tels que le matériau évaporant, les propriétés souhaitées du film et les paramètres du processus.

Quels sont les avantages des sources d'évaporation thermique ?

Les avantages des sources d'évaporation thermique comprennent des taux de dépôt élevés, une bonne direction, une excellente uniformité et une compatibilité avec divers matériaux. Elles sont également relativement simples et abordables, ce qui les rend adaptées à un large éventail d'applications dans le domaine du dépôt de couches minces.

Comment fonctionne un four de graphitisation ?

Un four de graphitisation fonctionne en soumettant des matériaux carbonés à des températures extrêmement élevées, généralement entre 2500 et 3000 degrés Celsius, dans une atmosphère inerte. Ce processus réarrange les atomes de carbone du matériau, le transformant en graphite, qui possède des propriétés uniques telles qu'une conductivité thermique élevée, une faible dilatation thermique et une inertie chimique.

A quoi sert la cible de pulvérisation ?

Les cibles de pulvérisation sont utilisées dans un processus appelé pulvérisation pour déposer des films minces d'un matériau sur un substrat en utilisant des ions pour bombarder la cible. Ces cibles ont une large gamme d'applications dans divers domaines, notamment la microélectronique, les cellules solaires à couches minces, l'optoélectronique et les revêtements décoratifs. Ils permettent le dépôt de couches minces de matériaux sur une variété de substrats avec une grande précision et uniformité, ce qui en fait un outil idéal pour produire des produits de précision. Les cibles de pulvérisation se présentent sous différentes formes et tailles et peuvent être spécialisées pour répondre aux exigences spécifiques de l'application.

Quels sont les avantages de l’utilisation de creusets évaporants ?

Les creusets évaporants offrent plusieurs avantages dans les procédés de dépôt de couches minces. Ils fournissent un environnement contrôlé pour l’évaporation des matériaux, permettant un contrôle précis de l’épaisseur et de l’uniformité du film. Les creusets peuvent résister à des températures élevées et assurer un transfert de chaleur efficace, garantissant des taux d'évaporation constants. Ils sont disponibles en différentes tailles et formes pour s'adapter à différents systèmes d'évaporation et configurations de substrat. Les creusets évaporants permettent également le dépôt d'une large gamme de matériaux, notamment les métaux, les semi-conducteurs et les céramiques. Ils peuvent être facilement chargés et déchargés, facilitant ainsi les changements rapides de matériaux ou les ajustements de processus. Dans l’ensemble, les creusets évaporants sont des outils essentiels dans les techniques de dépôt de couches minces, offrant polyvalence, fiabilité et reproductibilité.

Quelles sont les applications des sources d'évaporation thermique ?

Les sources d'évaporation thermique sont utilisées dans diverses applications telles que la production de revêtements optiques, de dispositifs semi-conducteurs et de divers types de couches minces. Elles sont particulièrement utiles dans les industries qui exigent un contrôle précis du dépôt de matériaux sur des substrats.

Quels sont les avantages de l'utilisation d'un four de graphitisation ?

Les avantages de l'utilisation d'un four de graphitisation comprennent la production d'un graphite de haute qualité doté d'une excellente conductivité thermique, d'une faible dilatation thermique et d'une inertie chimique. Ces propriétés font du graphite un matériau idéal pour une large gamme d'applications à haute température dans des industries telles que la métallurgie, l'électronique et l'aérospatiale.

Que sont les cibles de pulvérisation pour l'électronique ?

Les cibles de pulvérisation pour l'électronique sont des disques minces ou des feuilles de matériaux tels que l'aluminium, le cuivre et le titane qui sont utilisés pour déposer des films minces sur des tranches de silicium afin de créer des dispositifs électroniques tels que des transistors, des diodes et des circuits intégrés. Ces cibles sont utilisées dans un processus appelé pulvérisation, dans lequel les atomes du matériau cible sont physiquement éjectés de la surface et déposés sur un substrat en bombardant la cible avec des ions. Les cibles de pulvérisation pour l'électronique sont essentielles dans la production de microélectronique et nécessitent généralement une précision et une uniformité élevées pour garantir des dispositifs de qualité.

Comment les creusets évaporants doivent-ils être manipulés et entretenus ?

Les creusets évaporants doivent être manipulés et entretenus avec soin pour garantir leur longévité et leurs performances. Les creusets doivent être soigneusement nettoyés avant chaque utilisation pour éliminer tout matériau résiduel des dépôts précédents. Évitez d'utiliser des matériaux abrasifs qui pourraient endommager la surface du creuset. Pendant le chargement et le déchargement, manipuler les creusets avec des gants propres ou des outils spécialisés pour éviter toute contamination. Lorsqu'ils ne sont pas utilisés, stockez les creusets dans un environnement sec et propre pour éviter la corrosion ou la dégradation. Une inspection régulière des creusets à la recherche de fissures, de défauts ou de signes d'usure est importante pour éviter des pannes inattendues pendant le processus d'évaporation. Suivez les recommandations du fabricant pour toute procédure de maintenance spécifique, telle que le recuit ou le traitement de surface, afin de prolonger la durée de vie du creuset.

Quelle est la durée de vie d'une cible de pulvérisation ?

La durée de vie d'une cible de pulvérisation dépend de facteurs tels que la composition du matériau, sa pureté et l'application spécifique pour laquelle elle est utilisée. Généralement, les cibles peuvent durer plusieurs centaines à quelques milliers d'heures de pulvérisation, mais cela peut varier considérablement en fonction des conditions spécifiques de chaque cycle. Une manipulation et un entretien appropriés peuvent également prolonger la durée de vie d'une cible. De plus, l'utilisation de cibles de pulvérisation rotative peut augmenter les durées d'exécution et réduire l'apparition de défauts, ce qui en fait une option plus rentable pour les processus à volume élevé.
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4.8

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