Le courant des ions de pulvérisation dans un processus de pulvérisation est déterminé par la tension appliquée et le type de technique de pulvérisation utilisée. Dans le cas de la pulvérisation cathodique, une tension continue de 500 à 1 000 V est appliquée, ce qui enflamme un plasma d'argon à basse pression entre une cible et un substrat. Des ions d'argon positifs sont alors accélérés vers la cible sous l'effet de cette tension, ce qui provoque l'éjection d'atomes de la cible et leur dépôt sur le substrat.
Dans la pulvérisation RF, un courant alternatif d'une fréquence d'environ 14 MHz est utilisé. Cela permet de pulvériser des matériaux isolants, car les électrons peuvent être accélérés pour osciller avec le RF, tandis que les ions plus lourds ne réagissent qu'à la tension moyenne générée dans le système RF. Les ions sont affectés par la tension d'auto-biaisement (VDC) qui les accélère vers la cible, qui se rapproche de la tension équivalente appliquée lors de la pulvérisation en courant continu.
Le courant des ions de pulvérisation est directement lié à la tension appliquée et au type de technique de pulvérisation utilisée. Dans le cas de la pulvérisation à diode en courant continu, le courant est déterminé par la tension de 500 à 1000 V en courant continu, tandis que dans le cas de la pulvérisation par radiofréquence, le courant est déterminé par la tension d'auto-biaisation (VDC) qui accélère les ions jusqu'à la cible.
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