Le courant des ions de pulvérisation dans un processus de pulvérisation est un facteur crucial qui détermine l'efficacité et la qualité du processus de dépôt.
Qu'est-ce que le courant des ions de pulvérisation ? (Expliqué en 4 points clés)
1. Pulvérisation à diode DC
Dans la pulvérisation cathodique, une tension continue de 500 à 1000 V est appliquée.
Cette tension enflamme un plasma d'argon à basse pression entre une cible et un substrat.
Des ions d'argon positifs sont alors accélérés vers la cible sous l'effet de cette tension.
Cette accélération provoque l'éjection d'atomes de la cible et leur dépôt sur le substrat.
2. Pulvérisation RF
Dans la pulvérisation RF, un courant alternatif d'une fréquence d'environ 14 MHz est utilisé.
Cette méthode permet de pulvériser des matériaux isolants.
Les électrons peuvent être accélérés pour osciller avec la radiofréquence.
Les ions plus lourds ne réagissent qu'à la tension moyenne générée dans le système RF.
Les ions sont affectés par la tension d'auto-biaisement (VDC) qui les accélère vers la cible.
Cette tension d'auto-biaisement se rapproche de la tension équivalente appliquée lors de la pulvérisation cathodique.
3. Relation entre la tension et le courant
Le courant des ions de pulvérisation est directement lié à la tension appliquée.
Dans le cas de la pulvérisation à diode en courant continu, le courant est déterminé par la tension continue de 500 à 1000 V. Dans le cas de la pulvérisation à radiofréquence, le courant est déterminé par la tension équivalente appliquée.
Dans la pulvérisation RF, le courant est déterminé par la tension d'auto-biaisement (VDC) qui accélère les ions vers la cible.
4. Précision et efficacité
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