Matériel de laboratoire
Cible de pulvérisation de lutétium (Lu) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Numéro d'article : LM-LU
Le prix varie en fonction de specs and customizations
- Formule chimique
- Lu
- Pureté
- 3n
- Forme
- disques / fil / bloc / poudre / plaques / cibles colonnes / cible pas à pas / sur mesure
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Obtenez votre devis maintenant! Leave a Message Obtenir un devis rapidement Via WhatsappNous sommes heureux d'offrir des matériaux en lutétium (Lu) de qualité laboratoire à des prix compétitifs. Notre force réside dans la production et la personnalisation de matériaux Lutetium (Lu) de puretés, de formes et de tailles variables, adaptés à vos besoins spécifiques.
Nous proposons une vaste sélection de cibles de pulvérisation (circulaires, carrées, tubulaires, irrégulières), de matériaux de revêtement, de cylindres, de cônes, de particules, de feuilles, de poudres, de poudres d'impression 3D, de poudres nanométriques, de fils machine, de lingots, de blocs et d'autres spécifications à choisir depuis.
Détails
À propos du lutétium (Lu)
Le lutétium est un matériau important dans le domaine de la science des matériaux en raison de ses propriétés uniques. L'une de ses propriétés notables est sa haute densité, faisant du tantalate de lutétium un hôte idéal pour les luminophores à rayons X. De plus, le lutétium est utilisé comme dopant pour faire correspondre les paramètres de réseau de certains cristaux de grenat de substrat.
Le lutétium est disponible sous différentes formes, y compris des cibles de pulvérisation de haute pureté, des métaux et des composés avec des puretés allant de 99 % à 99,999 %. La poudre d'oxyde de lutétium de haute pureté est également disponible sous des formes élémentaires ou métalliques, telles que des pastilles, des tiges, des fils et des granulés à des fins de matière source d'évaporation.
De plus, l'oxyde de lutétium est disponible sous forme de poudre et de pastilles denses pour les applications de revêtement optique et de couches minces. Les fluorures de lutétium, une autre forme insoluble de lutétium, sont également utilisés dans la métallurgie, le dépôt chimique et physique en phase vapeur et certains revêtements optiques.
Enfin, le lutétium peut être fabriqué sous forme de composés solubles, tels que les chlorures, les nitrates et les acétates à des stoechiométries spécifiées.
FAQ
Qu'est-ce que le dépôt physique en phase vapeur (PVD) ?
Qu'est-ce que la cible de pulvérisation?
Que sont les matériaux de haute pureté ?
Qu'est-ce que la pulvérisation magnétron ?
Que sont les métaux de haute pureté ?
Comment sont fabriquées les cibles de pulvérisation ?
Pourquoi la pulvérisation magnétron ?
À quoi servent les métaux de haute pureté ?
A quoi sert la cible de pulvérisation ?
Quels sont les matériaux utilisés dans le dépôt de couches minces ?
Le dépôt de couches minces utilise couramment des métaux, des oxydes et des composés comme matériaux, chacun avec ses avantages et ses inconvénients uniques. Les métaux sont préférés pour leur durabilité et leur facilité de dépôt mais sont relativement coûteux. Les oxydes sont très durables, peuvent résister à des températures élevées et peuvent se déposer à basse température, mais peuvent être cassants et difficiles à travailler. Les composés offrent résistance et durabilité, peuvent être déposés à basse température et adaptés pour présenter des propriétés spécifiques.
Le choix du matériau pour un revêtement en couche mince dépend des exigences de l'application. Les métaux sont idéaux pour la conduction thermique et électrique, tandis que les oxydes sont efficaces pour offrir une protection. Les composés peuvent être adaptés pour répondre à des besoins spécifiques. En fin de compte, le meilleur matériau pour un projet particulier dépendra des besoins spécifiques de l'application.
Que sont les cibles de pulvérisation pour l'électronique ?
Quelles sont les méthodes pour obtenir un dépôt optimal de couches minces ?
Pour obtenir des films minces aux propriétés souhaitables, des cibles de pulvérisation et des matériaux d'évaporation de haute qualité sont essentiels. La qualité de ces matériaux peut être influencée par divers facteurs, tels que la pureté, la granulométrie et l'état de surface.
La pureté des cibles de pulvérisation ou des matériaux d'évaporation joue un rôle crucial, car les impuretés peuvent provoquer des défauts dans le film mince résultant. La taille des grains affecte également la qualité du film mince, des grains plus gros entraînant de mauvaises propriétés du film. De plus, l'état de surface est crucial, car les surfaces rugueuses peuvent entraîner des défauts dans le film.
Pour atteindre des cibles de pulvérisation et des matériaux d'évaporation de la plus haute qualité, il est crucial de sélectionner des matériaux qui possèdent une grande pureté, une petite taille de grain et des surfaces lisses.
Utilisations du dépôt de couches minces
Films minces à base d'oxyde de zinc
Les couches minces de ZnO trouvent des applications dans plusieurs industries telles que la thermique, l'optique, le magnétique et l'électricité, mais leur utilisation principale est dans les revêtements et les dispositifs à semi-conducteurs.
Résistances à couches minces
Les résistances à couches minces sont cruciales pour la technologie moderne et sont utilisées dans les récepteurs radio, les circuits imprimés, les ordinateurs, les appareils à radiofréquence, les moniteurs, les routeurs sans fil, les modules Bluetooth et les récepteurs de téléphones portables.
Couches Minces Magnétiques
Les couches minces magnétiques sont utilisées dans l'électronique, le stockage de données, l'identification par radiofréquence, les dispositifs à micro-ondes, les écrans, les cartes de circuits imprimés et l'optoélectronique en tant que composants clés.
Couches minces optiques
Les revêtements optiques et l'optoélectronique sont des applications standard des couches minces optiques. L'épitaxie par faisceau moléculaire peut produire des dispositifs optoélectroniques à couches minces (semi-conducteurs), où les films épitaxiaux sont déposés un atome à la fois sur le substrat.
Films minces polymères
Les couches minces de polymère sont utilisées dans les puces de mémoire, les cellules solaires et les appareils électroniques. Les techniques de dépôt chimique (CVD) offrent un contrôle précis des revêtements de film polymère, y compris la conformité et l'épaisseur du revêtement.
Batteries à couches minces
Les batteries à couches minces alimentent les appareils électroniques tels que les dispositifs médicaux implantables, et la batterie lithium-ion a considérablement progressé grâce à l'utilisation de couches minces.
Revêtements à couche mince
Les revêtements en couches minces améliorent les caractéristiques chimiques et mécaniques des matériaux cibles dans diverses industries et domaines technologiques. Les revêtements antireflets, les revêtements anti-ultraviolets ou anti-infrarouges, les revêtements anti-rayures et la polarisation des lentilles en sont des exemples courants.
Cellules solaires à couche mince
Les cellules solaires à couches minces sont essentielles à l'industrie de l'énergie solaire, permettant la production d'électricité relativement bon marché et propre. Les systèmes photovoltaïques et l'énergie thermique sont les deux principales technologies applicables.
Quelle est la durée de vie d'une cible de pulvérisation ?
Facteurs et paramètres qui influencent le dépôt de couches minces
Taux de dépôt :
La vitesse à laquelle le film est produit, généralement mesurée en épaisseur divisée par le temps, est cruciale pour sélectionner une technologie adaptée à l'application. Des taux de dépôt modérés sont suffisants pour les films minces, tandis que des taux de dépôt rapides sont nécessaires pour les films épais. Il est important de trouver un équilibre entre la vitesse et le contrôle précis de l'épaisseur du film.
Uniformité:
La consistance du film à travers le substrat est connue sous le nom d'uniformité, qui fait généralement référence à l'épaisseur du film, mais peut également être liée à d'autres propriétés telles que l'indice de réfraction. Il est important d'avoir une bonne compréhension de l'application pour éviter de sous-spécifier ou de sur-spécifier l'uniformité.
Capacité de remplissage :
La capacité de remplissage ou la couverture des étapes fait référence à la façon dont le processus de dépôt couvre la topographie du substrat. La méthode de dépôt utilisée (par exemple, CVD, PVD, IBD ou ALD) a un impact significatif sur la couverture et le remplissage des étapes.
Caractéristiques du film :
Les caractéristiques du film dépendent des exigences de l'application, qui peuvent être classées comme photoniques, optiques, électroniques, mécaniques ou chimiques. La plupart des films doivent satisfaire aux exigences dans plus d'une catégorie.
Température de processus :
Les caractéristiques du film sont considérablement affectées par la température du procédé, qui peut être limitée par l'application.
Dommage:
Chaque technologie de dépôt a le potentiel d'endommager le matériau sur lequel elle est déposée, les éléments plus petits étant plus susceptibles d'être endommagés par le processus. La pollution, le rayonnement UV et le bombardement ionique font partie des sources potentielles de dommages. Il est crucial de comprendre les limites des matériaux et des outils.
4.8
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Excellent quality of Lu sputtering target, works well for our application.
4.9
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KINTEK SOLUTION's Lu powder is highly pure and consistent. Great choice for our research.
4.7
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Fast delivery and responsive customer service. Highly recommend their Lu wire.
4.8
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Great value for money. The Lu block is well-made and durable.
4.6
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KINTEK SOLUTION's Lu sputtering target is of exceptional quality. Highly satisfied.
4.9
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The Lu granule is of high purity and precisely manufactured. Perfect for our thin film application.
4.7
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5
KINTEK SOLUTION's Lu sputtering target is reliable and produces consistent results. Great product.
4.8
out of
5
Excellent quality and fast delivery. Highly recommend their Lu powder.
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