Produits Équipement thermique MPCVD Machine à diamant MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire
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Machine à diamant MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire

MPCVD

Machine à diamant MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire

Numéro d'article : KTWB315

Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations


Puissance des micro-ondes
Fréquence des micro-ondes 2450±15MHZ
Puissance de sortie
1~10 KW réglable en continu
Fuite de micro-ondes
≤2MW/cm2
Interface du guide d'ondes de sortie
WR340, 430 avec bride standard FD-340, 430
Porte-échantillon
Diamètre de la table d'échantillonnage≥72mm, surface d'utilisation effective≥66 mm
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Livraison:

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MPCVD signifie Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition (dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes). Il s'agit d'une méthode permettant de produire des films de diamant de haute qualité en laboratoire en utilisant un gaz contenant du carbone et un plasma à micro-ondes.

KinTek MPCVD

Système MPCVD

Le système MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) est un procédé utilisé pour déposer des films minces sur la surface d'un substrat. Le système se compose d'une chambre à vide où se déroule le processus de dépôt, d'un générateur de micro-ondes et d'un système de distribution de gaz. Le générateur de micro-ondes est utilisé pour générer un plasma à l'intérieur de la chambre à vide, qui est utilisé pour décomposer et déposer les espèces gazeuses sur le substrat.

Le générateur de micro-ondes est généralement un magnétron ou un klystron, qui génère des micro-ondes dans la gamme des 2,45 GHz. Les micro-ondes sont couplées à la chambre à vide à travers une fenêtre en quartz.

Le système d'alimentation en gaz se compose de régulateurs de débit massique (MFC) qui contrôlent le débit de gaz dans la chambre à vide. Les MFC sont calibrés en centimètres cubes standard par minute (sccm).

La température du substrat est contrôlée par la position du plasma et mesurée par un thermocouple. Le plasma est utilisé pour chauffer le substrat et la température est contrôlée par le thermocouple pour s'assurer que le substrat est à la température désirée pendant le processus de dépôt.

Applications

La MPCVD est une technologie prometteuse pour la production de gros diamants de haute qualité à faible coût.

Les propriétés uniques du diamant, notamment sa dureté, sa rigidité, sa conductivité thermique élevée, sa faible dilatation thermique, sa dureté aux radiations et son inertie chimique, en font un matériau précieux.

Malgré son grand potentiel, le coût élevé, la taille limitée et la difficulté à contrôler les impuretés des diamants naturels et synthétiques à haute pression et à haute température ont limité leurs applications.

La technologie MPCVD est le principal équipement utilisé pour la croissance des pierres précieuses et des films de diamant.

La croissance de films de diamant peut être monocristalline ou polycristalline, et elle est largement utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs pour les substrats diamantés de grande taille, ainsi que dans l'industrie des outils de coupe ou de forage diamantés.

Comparée à la méthode HPHT pour les diamants cultivés en laboratoire, la méthode CVD micro-ondes est avantageuse pour la croissance de diamants de grande taille à un coût inférieur, ce qui en fait une solution idéale pour les applications de diamants semi-conducteurs, la croissance de diamants optiques et les besoins du marché des grands diamants de joaillerie.

Machines KINTEK MPCVD
Machines à diamant KINTEK MPCVD
Nouveau modèle de machine KINTEK MPCVD pour le diamant
Nouveau modèle de machine à diamant KINTEK MPCVD
Nouveau modèle de machine diamantaire KINTEK MPCVD
Nouveau modèle de machine à diamant KINTEK MPCVD
Diamants bruts cultivés par KINTEK MPCVD
Diamants bruts cultivés par KINTEK MPCVD
Dans la machine KinTek MPCVD, les diamants poussent
Dans la machine KinTek MPCVD, les diamants poussent
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent
Dans la machine MPCVD de KinTek, les diamants poussent
Diamant brut cultivé par une machine KINTEK MPCVD
Diamant brut cultivé par une machine KINTEK MPCVD
Diamant brut cultivé par une machine KINTEK MPCVD
Diamant brut cultivé par une machine KINTEK MPCVD
Diamant brut cultivé par la machine KINTEK MPCVD
Diamant brut cultivé par la machine KINTEK MPCVD
Diamants cultivés par MPCVD après polissage
Diamants cultivés par MPCVD après polissage
Polycristallin par KinTek MPCVD
Polycristallin par KinTek MPCVD

Avantages de la méthode MPCVD

La méthode MPCVD est une méthode de synthèse du diamant qui présente plusieurs avantages par rapport à d'autres méthodes, telles que la HFCVD et la DC-PJ CVD. Elle évite la contamination du diamant par les fils chauds et permet l'utilisation de plusieurs gaz pour répondre à différents besoins industriels. Par rapport à la DC-PJ CVD, elle permet un réglage souple et continu de la puissance des micro-ondes et un contrôle stable de la température de réaction, ce qui évite que les germes de cristaux ne tombent du substrat en raison d'un arc électrique ou d'une défaillance de la flamme. Avec une large zone de plasma de décharge stable, la méthode MPCVD est considérée comme la méthode de synthèse du diamant la plus prometteuse pour les applications industrielles.

Les diamants produits par MPCVD sont d'une plus grande pureté que ceux produits par la méthode HPHT, et le processus de production consomme moins d'énergie. En outre, la méthode MPCVD facilite la production de diamants de plus grande taille.

Avantages de notre système MPCVD

Nous sommes très impliqués dans l'industrie depuis de nombreuses années, ce qui nous permet d'avoir une vaste base de clients qui font confiance à notre équipement et l'utilisent. Notre équipement MPCVD a fonctionné régulièrement pendant plus de 40 000 heures, faisant preuve d'une stabilité, d'une fiabilité, d'une répétabilité et d'une rentabilité exceptionnelles. Voici d'autres avantages de notre système MPCVD :

  • Zone de croissance de substrat de 3 pouces, charge de lot maximale jusqu'à 45 pièces de diamant
  • Puissance de sortie des micro-ondes réglable de 1 à 10 kW pour réduire la consommation d'électricité.
  • Une équipe de recherche expérimentée avec un support de recettes de culture de diamants à la pointe de la technologie.
  • Programme d'assistance technique exclusif pour l'équipe expérimentée dans la culture de diamants zéro.

En tirant parti de la technologie de pointe que nous avons accumulée, nous avons mis en œuvre plusieurs séries de mises à niveau et d'améliorations de notre système MPCVD, ce qui a permis d'améliorer considérablement l'efficacité et de réduire les coûts d'équipement. Par conséquent, notre équipement MPCVD est à la pointe des avancées technologiques et est proposé à un prix compétitif. N'hésitez pas à nous consulter.

Simulation KinTek MPCVD
Simulation MPCVD KinTek

Processus de travail

La machine MPCVD contrôle le débit de chaque voie de gaz et la pression de la cavité tout en introduisant les gaz réactifs (tels que CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) dans la cavité sous une pression spécifique. Après avoir stabilisé le flux d'air, le générateur de micro-ondes à semi-conducteurs de 6KW génère des micro-ondes qui sont ensuite introduites dans la cavité à travers le guide d'ondes.

Le gaz de réaction se transforme en plasma sous l'effet du champ de micro-ondes, formant une boule de plasma qui plane au-dessus du substrat de diamant. La température élevée du plasma chauffe le substrat à une température spécifique. L'excès de chaleur produit dans la cavité est dissipé par l'unité de refroidissement à eau.

Pour garantir des conditions de croissance optimales au cours du processus de croissance du diamant monocristallin MPCVD, nous ajustons des facteurs tels que la puissance, la composition de la source de gaz et la pression de la cavité. En outre, comme la boule de plasma n'entre pas en contact avec la paroi de la cavité, le processus de croissance du diamant est exempt d'impuretés, ce qui améliore la qualité du diamant.

Détails et pièces

Système à micro-ondes

Système à micro-ondes

Chambre de réaction

Chambre de réaction

Système de flux de gaz

Système de flux de gaz

Système de vide et de capteurs

Système de vide et de capteurs

Spécifications techniques

Système à micro-ondes
  • Fréquence des micro-ondes 2450±15MHZ,
  • Puissance de sortie 1~10 KW réglable en continu
  • Stabilité de la puissance de sortie des micro-ondes : <±1%
  • Fuite de micro-ondes ≤2MW/cm2
  • Interface de guide d'ondes de sortie : WR340, 430 avec bride standard FD-340, 430
  • Débit d'eau de refroidissement : 6-12L/min
  • Coefficient d'onde stationnaire du système : VSWR ≤ 1.5
  • Réglage manuel des micro-ondes à 3 broches, cavité d'excitation, charge haute puissance
  • Alimentation d'entrée : 380VAC/50Hz ± 10%, triphasé
Chambre de réaction
  • Taux de fuite du vide<5 × 10-9 Pa .m3/s
  • La pression limite est inférieure à 0,7 Pa (configuration standard avec jauge à vide Pirani).
  • L'augmentation de la pression de la chambre ne doit pas dépasser 50 Pa après 12 heures de maintien de la pression.
  • Mode de fonctionnement de la chambre de réaction : Mode TM021 ou TM023
  • Type de cavité : Cavité résonante cylindrique, d'une puissance maximale de 10 kW, en acier inoxydable 304, avec couche intermédiaire refroidie à l'eau et méthode d'étanchéité par plaque de quartz de haute pureté.
  • Mode d'admission d'air : Entrée d'air uniforme annulaire supérieure
  • Scellage sous vide : Le raccord inférieur de la chambre principale et la porte d'injection sont scellés par des anneaux en caoutchouc, la pompe à vide et le soufflet sont scellés par du KF, la plaque de quartz est scellée par un anneau métallique en C, et le reste est scellé par du CF.
  • Fenêtre d'observation et de mesure de la température : 8 ports d'observation
  • Port de chargement de l'échantillon à l'avant de la chambre
  • Décharge stable dans la plage de pression de 0,7KPa~30KPa (la pression d'alimentation doit être adaptée)
Porte-échantillon
  • Diamètre de la table d'échantillonnage≥72mm, surface d'utilisation effective≥66 mm
  • Plate-forme de la plaque de base, structure sandwich refroidie à l'eau
  • Le porte-échantillon peut être soulevé et abaissé uniformément électriquement dans la cavité.
Système de flux de gaz
  • Disque d'air pour le soudage de tous les métaux
  • Des joints de soudure ou des joints VCR doivent être utilisés pour tous les circuits de gaz internes de l'équipement.
  • Débitmètre MFC à 5 canaux, H2/CH4/O2/N/Ar. H2 : 1000 sccm ;CH4:100 sccm ; O2 : 2 sccm ; N2 : 2 sccm ; Ar : 10 sccm
  • Pression de travail 0,05-0,3MPa, précision ±2%.
  • Contrôle indépendant des vannes pneumatiques pour chaque débitmètre de canal
Système de refroidissement
  • 3 lignes de refroidissement par eau, surveillance en temps réel de la température et du débit.
  • Le débit d'eau de refroidissement du système est ≤ 50L/min
  • La pression de l'eau de refroidissement est <4KG, et la température de l'eau d'entrée est de 20-25 ℃.
Capteur de température
  • Le thermomètre infrarouge externe a une plage de température de 300-1400 ℃.
  • Précision du contrôle de la température < 2 ℃ ou 2 %.
Système de contrôle
  • L'automate Siemens smart 200 et le contrôle par écran tactile sont adoptés.
  • Le système dispose d'une variété de programmes, qui peuvent réaliser l'équilibre automatique de la température de croissance, le contrôle précis de la pression de l'air de croissance, l'augmentation automatique de la température, la baisse automatique de la température et d'autres fonctions.
  • La surveillance du débit d'eau, de la température, de la pression et d'autres paramètres permet d'assurer un fonctionnement stable et une protection complète de l'équipement. La fiabilité et la sécurité du fonctionnement peuvent être garanties par un verrouillage fonctionnel.
Fonction optionnelle
  • Système de surveillance du centre
  • Puissance de base du substrat

Avertissements

La sécurité des opérateurs est la question la plus importante ! Veuillez faire fonctionner l'équipement avec des précautions. Travailler avec des gaz inflammables, explosifs ou toxiques est très dangereux, les opérateurs doivent prendre toutes les précautions nécessaires avant de démarrer le équipement. Travailler en pression positive à l’intérieur des réacteurs ou des chambres est dangereux, l'opérateur doit suivre strictement les procédures de sécurité. Supplémentaire des précautions doivent également être prises lors de l'utilisation de matériaux réactifs à l'air, surtout sous vide. Une fuite peut aspirer de l'air dans l'appareil et provoquer un une réaction violente se produit.

Conçu pour vous

KinTek fournit un service et des équipements sur mesure aux clients du monde entier, notre travail d'équipe spécialisé et nos riches ingénieurs expérimentés sont capables de entreprendre les exigences en matière d'équipement matériel et logiciel sur mesure, et aider notre client à constituer l'équipement exclusif et personnalisé et solution!

Pourriez-vous s'il vous plaît nous faire part de vos idées, nos ingénieurs sont prêts à vous accueillir maintenant !

FAQ

Qu'est-ce Que Mpcvd ?

MPCVD signifie Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition et c'est un processus de dépôt de couches minces sur une surface. Il utilise une chambre à vide, un générateur de micro-ondes et un système de distribution de gaz pour créer un plasma composé de produits chimiques réactifs et des catalyseurs nécessaires. Le MPCVD est largement utilisé dans le réseau ANFF pour déposer des couches de diamant en utilisant du méthane et de l'hydrogène pour faire pousser de nouveaux diamants sur un substrat ensemencé de diamant. Il s'agit d'une technologie prometteuse pour produire de gros diamants de haute qualité à faible coût et elle est largement utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs et de la taille des diamants.

Qu'est-ce Qu'une Machine Mpcvd ?

La machine MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) est un équipement de laboratoire utilisé pour développer des films de diamant de haute qualité. Il utilise un gaz contenant du carbone et un plasma micro-ondes pour créer une boule de plasma au-dessus du substrat de diamant, qui le chauffe à une température spécifique. La boule de plasma n'entre pas en contact avec la paroi de la cavité, ce qui rend le processus de croissance du diamant exempt d'impuretés et améliore la qualité du diamant. Le système MPCVD se compose d'une chambre à vide, d'un générateur de micro-ondes et d'un système de distribution de gaz qui contrôle le flux de gaz dans la chambre.

Quels Sont Les Avantages De Mpcvd ?

Le MPCVD présente plusieurs avantages par rapport aux autres méthodes de production de diamants, tels qu'une pureté plus élevée, une consommation d'énergie moindre et la capacité de produire des diamants plus gros.

Les Diamants CVD Sont-ils Vrais Ou Faux ?

Les diamants CVD sont de vrais diamants et non des faux. Ils sont cultivés en laboratoire par un procédé appelé dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Contrairement aux diamants naturels qui sont extraits sous la surface de la terre, les diamants CVD sont créés à l'aide d'une technologie de pointe dans des laboratoires. Ces diamants sont 100% carbone et sont la forme la plus pure de diamants connus sous le nom de diamants de type IIa. Ils ont les mêmes propriétés optiques, thermiques, physiques et chimiques que les diamants naturels. La seule différence est que les diamants CVD sont créés dans un laboratoire et non extraits de la terre.
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4.9

out of

5

KINTEK's MPCVD machine is a game-changer! Its 1-10Kw adjustable output microwave power feature not only saves electricity but also ensures precise control over the diamond growth process.

Harshitha Gujjar

4.8

out of

5

As a lab manager, I appreciate the stability and reliability of the KINTEK MPCVD system. It has been running non-stop for over 40,000 hours, providing us with consistent, high-quality diamond growth.

Elvin Wang

4.7

out of

5

The rich experience and frontier diamond growing recipe support from KINTEK's research team have been invaluable. Their expertise has helped us optimize our MPCVD process and achieve exceptional results.

Sophia Mitchell

4.8

out of

5

KINTEK's exclusive technical support program for teams with zero diamond growing experience is a lifesaver. Their guidance and assistance have been instrumental in our successful adoption of the MPCVD system.

Mustafa Kamal

5.0

out of

5

The 3 inches substrate growing area and max. batch load of up to 45 pieces diamonds make the KINTEK MPCVD machine a highly efficient and productive choice for our lab. We can now produce more diamonds in less time.

Isabella Garcia

4.9

out of

5

The KINTEK MPCVD system is a technological marvel. Its advanced features and continuous upgrades have kept us at the forefront of diamond growth innovation.

Oliver Chen

4.7

out of

5

The competitive price of the KINTEK MPCVD equipment makes it an affordable and accessible solution for labs like ours. We're grateful for the opportunity to leverage its cutting-edge technology without breaking the bank.

Aisha Khan

5.0

out of

5

The KINTEK MPCVD machine has exceeded our expectations. Its user-friendly interface, stable performance, and exceptional diamond quality have made it an indispensable tool in our lab.

Elijah Harper

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