MPCVD
Machine à diamant MPCVD à résonateur cylindrique pour la croissance de diamants en laboratoire
Numéro d'article : KTWB315
Le prix varie en fonction de specs and customizations
- Puissance des micro-ondes
- Fréquence des micro-ondes 2450±15MHZ
- Puissance de sortie
- 1～10 KW réglable en continu
- Fuite de micro-ondes
- ≤2MW/cm2
- Interface du guide d'ondes de sortie
- WR340, 430 avec bride standard FD-340, 430
- Porte-échantillon
- Diamètre de la table d'échantillonnage≥72mm, surface d'utilisation effective≥66 mm
Livraison:
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Obtenez votre devis maintenant! Leave a Message Obtenir un devis rapidement Via WhatsappMPCVD signifie Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition (dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes). Il s'agit d'une méthode permettant de produire des films de diamant de haute qualité en laboratoire en utilisant un gaz contenant du carbone et un plasma à micro-ondes.
Système MPCVD
Le système MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) est un procédé utilisé pour déposer des films minces sur la surface d'un substrat. Le système se compose d'une chambre à vide où se déroule le processus de dépôt, d'un générateur de micro-ondes et d'un système de distribution de gaz. Le générateur de micro-ondes est utilisé pour générer un plasma à l'intérieur de la chambre à vide, qui est utilisé pour décomposer et déposer les espèces gazeuses sur le substrat.
Le générateur de micro-ondes est généralement un magnétron ou un klystron, qui génère des micro-ondes dans la gamme des 2,45 GHz. Les micro-ondes sont couplées à la chambre à vide à travers une fenêtre en quartz.
Le système d'alimentation en gaz se compose de régulateurs de débit massique (MFC) qui contrôlent le débit de gaz dans la chambre à vide. Les MFC sont calibrés en centimètres cubes standard par minute (sccm).
La température du substrat est contrôlée par la position du plasma et mesurée par un thermocouple. Le plasma est utilisé pour chauffer le substrat et la température est contrôlée par le thermocouple pour s'assurer que le substrat est à la température désirée pendant le processus de dépôt.
Applications
La MPCVD est une technologie prometteuse pour la production de gros diamants de haute qualité à faible coût.
Les propriétés uniques du diamant, notamment sa dureté, sa rigidité, sa conductivité thermique élevée, sa faible dilatation thermique, sa dureté aux radiations et son inertie chimique, en font un matériau précieux.
Malgré son grand potentiel, le coût élevé, la taille limitée et la difficulté à contrôler les impuretés des diamants naturels et synthétiques à haute pression et à haute température ont limité leurs applications.
La technologie MPCVD est le principal équipement utilisé pour la croissance des pierres précieuses et des films de diamant.
La croissance de films de diamant peut être monocristalline ou polycristalline, et elle est largement utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs pour les substrats diamantés de grande taille, ainsi que dans l'industrie des outils de coupe ou de forage diamantés.
Comparée à la méthode HPHT pour les diamants cultivés en laboratoire, la méthode CVD micro-ondes est avantageuse pour la croissance de diamants de grande taille à un coût inférieur, ce qui en fait une solution idéale pour les applications de diamants semi-conducteurs, la croissance de diamants optiques et les besoins du marché des grands diamants de joaillerie.
Avantages de la méthode MPCVD
La méthode MPCVD est une méthode de synthèse du diamant qui présente plusieurs avantages par rapport à d'autres méthodes, telles que la HFCVD et la DC-PJ CVD. Elle évite la contamination du diamant par les fils chauds et permet l'utilisation de plusieurs gaz pour répondre à différents besoins industriels. Par rapport à la DC-PJ CVD, elle permet un réglage souple et continu de la puissance des micro-ondes et un contrôle stable de la température de réaction, ce qui évite que les germes de cristaux ne tombent du substrat en raison d'un arc électrique ou d'une défaillance de la flamme. Avec une large zone de plasma de décharge stable, la méthode MPCVD est considérée comme la méthode de synthèse du diamant la plus prometteuse pour les applications industrielles.
Les diamants produits par MPCVD sont d'une plus grande pureté que ceux produits par la méthode HPHT, et le processus de production consomme moins d'énergie. En outre, la méthode MPCVD facilite la production de diamants de plus grande taille.
Avantages de notre système MPCVD
Nous sommes très impliqués dans l'industrie depuis de nombreuses années, ce qui nous permet d'avoir une vaste base de clients qui font confiance à notre équipement et l'utilisent. Notre équipement MPCVD a fonctionné régulièrement pendant plus de 40 000 heures, faisant preuve d'une stabilité, d'une fiabilité, d'une répétabilité et d'une rentabilité exceptionnelles. Voici d'autres avantages de notre système MPCVD :
- Zone de croissance de substrat de 3 pouces, charge de lot maximale jusqu'à 45 pièces de diamant
- Puissance de sortie des micro-ondes réglable de 1 à 10 kW pour réduire la consommation d'électricité.
- Une équipe de recherche expérimentée avec un support de recettes de culture de diamants à la pointe de la technologie.
- Programme d'assistance technique exclusif pour l'équipe expérimentée dans la culture de diamants zéro.
En tirant parti de la technologie de pointe que nous avons accumulée, nous avons mis en œuvre plusieurs séries de mises à niveau et d'améliorations de notre système MPCVD, ce qui a permis d'améliorer considérablement l'efficacité et de réduire les coûts d'équipement. Par conséquent, notre équipement MPCVD est à la pointe des avancées technologiques et est proposé à un prix compétitif. N'hésitez pas à nous consulter.
Processus de travail
La machine MPCVD contrôle le débit de chaque voie de gaz et la pression de la cavité tout en introduisant les gaz réactifs (tels que CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) dans la cavité sous une pression spécifique. Après avoir stabilisé le flux d'air, le générateur de micro-ondes à semi-conducteurs de 6KW génère des micro-ondes qui sont ensuite introduites dans la cavité à travers le guide d'ondes.
Le gaz de réaction se transforme en plasma sous l'effet du champ de micro-ondes, formant une boule de plasma qui plane au-dessus du substrat de diamant. La température élevée du plasma chauffe le substrat à une température spécifique. L'excès de chaleur produit dans la cavité est dissipé par l'unité de refroidissement à eau.
Pour garantir des conditions de croissance optimales au cours du processus de croissance du diamant monocristallin MPCVD, nous ajustons des facteurs tels que la puissance, la composition de la source de gaz et la pression de la cavité. En outre, comme la boule de plasma n'entre pas en contact avec la paroi de la cavité, le processus de croissance du diamant est exempt d'impuretés, ce qui améliore la qualité du diamant.
Détails et pièces
Système à micro-ondes
Chambre de réaction
Système de flux de gaz
Système de vide et de capteurs
Spécifications techniques
| Système à micro-ondes |
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| Chambre de réaction |
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| Porte-échantillon |
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| Système de flux de gaz |
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| Système de refroidissement |
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| Capteur de température |
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| Système de contrôle |
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| Fonction optionnelle |
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Avertissements
La sécurité de l'opérateur est la question la plus importante ! Veuillez utiliser l'équipement avec prudence. Travailler avec des gaz inflammables et explosifs ou toxiques est très dangereux, les opérateurs doivent prendre toutes les précautions nécessaires avant de démarrer l'équipement. Travailler avec une pression positive à l'intérieur des réacteurs ou des chambres est dangereux, l'opérateur doit respecter strictement les procédures de sécurité. Des précautions supplémentaires doivent également être prises lors de l'utilisation de matériaux réactifs à l'air, en particulier sous vide. Une fuite peut aspirer de l'air dans l'appareil et provoquer une réaction violente.
Conçu pour vous
KinTek fournit un service et des équipements sur mesure approfondis aux clients du monde entier, notre travail d'équipe spécialisé et nos riches ingénieurs expérimentés sont capables d'entreprendre les exigences d'équipement matériel et logiciel sur mesure, et d'aider nos clients à créer l'équipement et la solution exclusifs et personnalisés !
Souhaitez-vous s'il vous plaît nous faire part de vos idées, nos ingénieurs sont prêts pour vous maintenant !
FAQ
Qu'est-ce qu'un four CVD ?
Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est une technologie qui utilise diverses sources d'énergie telles que le chauffage, l'excitation du plasma ou le rayonnement lumineux pour faire réagir chimiquement des substances chimiques gazeuses ou en phase vapeur sur la phase gazeuse ou l'interface gaz-solide pour former des dépôts solides dans le réacteur au moyen de réaction chimique. Pour le dire simplement, deux ou plusieurs matières premières gazeuses sont introduites dans une chambre de réaction, puis elles réagissent l'une avec l'autre pour former un nouveau matériau et le déposer sur la surface du substrat.
Le four CVD est un système de four combiné avec une unité de four tubulaire à haute température, une unité de contrôle des gaz et une unité de vide, il est largement utilisé pour l'expérimentation et la production de préparation de matériaux composites, de processus microélectronique, d'optoélectronique semi-conducteur, d'utilisation de l'énergie solaire, de communication par fibre optique, supraconducteur technologie, domaine des revêtements de protection.
Comment fonctionne le four CVD ?
Le système de four CVD se compose d'une unité de four tubulaire à haute température, d'une unité de contrôle précise de la source de gaz réactif, d'une station de pompe à vide et des pièces d'assemblage correspondantes.
La pompe à vide consiste à éliminer l'air du tube de réaction et à s'assurer qu'il n'y a pas de gaz indésirables à l'intérieur du tube de réaction, après quoi le four tubulaire chauffera le tube de réaction à une température cible, puis l'unité de contrôle précise de la source de gaz de réaction peut introduire différents gaz avec un rapport défini dans le tube du four pour la réaction chimique, le dépôt chimique en phase vapeur sera formé dans le four CVD.
Qu'est-ce que Mpcvd ?
Qu'est-ce qu'une machine à diamant CVD?
Quels types de machines de croissance de diamants sont disponibles ?
Quelles sont les méthodes utilisées pour déposer des couches minces ?
Quel gaz est utilisé dans le procédé CVD ?
Il existe d'énormes sources de gaz pouvant être utilisées dans le processus CVD, les réactions chimiques courantes de CVD comprennent la pyrolyse, la photolyse, la réduction, l'oxydation, le redox, de sorte que les gaz impliqués dans ces réactions chimiques peuvent être utilisés dans le processus CVD.
Nous prenons la croissance du graphène CVD par exemple, les gaz utilisés dans le processus CVD seront CH4, H2, O2 et N2.
Qu'est-ce qu'une machine Mpcvd ?
Quels sont les avantages des diamants cultivés en laboratoire ?
Quel est le principe de base du CVD ?
Qu'est-ce qu'un équipement de dépôt de couches minces ?
Quel est l'avantage du système CVD ?
- Une large gamme de films peut être produite, film métallique, film non métallique et film d'alliage multi-composants selon les besoins. En même temps, il peut préparer des cristaux de haute qualité difficiles à obtenir par d'autres méthodes, telles que GaN, BP, etc.
- La vitesse de formation du film est rapide, généralement plusieurs microns par minute voire des centaines de microns par minute. Il est possible de déposer simultanément de grandes quantités de revêtements avec une composition uniforme, ce qui est incomparable aux autres méthodes de préparation de film, telles que l'épitaxie en phase liquide (LPE) et l'épitaxie par jet moléculaire (MBE).
- Les conditions de travail sont réalisées dans des conditions de pression normale ou de vide faible, de sorte que le revêtement a une bonne diffraction et que les pièces aux formes complexes peuvent être uniformément revêtues, ce qui est bien supérieur au PVD.
- En raison de la diffusion mutuelle du gaz de réaction, du produit de réaction et du substrat, un revêtement avec une bonne force d'adhérence peut être obtenu, ce qui est crucial pour la préparation de films renforcés en surface tels que des films résistants à l'usure et anti-corrosion.
- Certains films se développent à une température bien inférieure au point de fusion du matériau du film. Dans des conditions de croissance à basse température, le gaz de réaction et la paroi du réacteur et les impuretés qu'ils contiennent ne réagissent presque pas, de sorte qu'un film de haute pureté et de bonne cristallinité peut être obtenu.
- Le dépôt chimique en phase vapeur permet d'obtenir une surface de dépôt lisse. En effet, par rapport au LPE, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est effectué sous une saturation élevée, avec un taux de nucléation élevé, une densité de nucléation élevée et une distribution uniforme sur tout le plan, ce qui donne une surface lisse macroscopique. Dans le même temps, dans le dépôt chimique en phase vapeur, le libre parcours moyen des molécules (atomes) est beaucoup plus grand que le LPE, de sorte que la distribution spatiale des molécules est plus uniforme, ce qui favorise la formation d'une surface de dépôt lisse.
- Faibles dommages causés par les radiations, condition nécessaire à la fabrication de semi-conducteurs à oxyde métallique (MOS) et d'autres dispositifs
Quels sont les avantages de Mpcvd ?
Quel est le prix de la machine de culture CVD ?
Quels sont les différents types de méthode CVD ?
Qu'est-ce que la technologie de dépôt en couche mince ?
Que signifie PECVD ?
Le PECVD est une technologie qui utilise le plasma pour activer le gaz de réaction, favoriser la réaction chimique à la surface du substrat ou près de l'espace de surface et générer un film solide. Le principe de base de la technologie de dépôt chimique en phase vapeur par plasma est que, sous l'action d'un champ électrique RF ou CC, le gaz source est ionisé pour former un plasma, le plasma à basse température est utilisé comme source d'énergie, une quantité appropriée de gaz de réaction est introduit, et la décharge de plasma est utilisée pour activer le gaz de réaction et réaliser le dépôt chimique en phase vapeur.
Selon la méthode de génération de plasma, il peut être divisé en plasma RF, plasma DC et plasma micro-ondes CVD, etc.
Les diamants CVD sont-ils vrais ou faux ?
Quelle est la différence entre CVD et PECVD ?
La différence entre la technologie PECVD et la technologie CVD traditionnelle est que le plasma contient un grand nombre d'électrons à haute énergie, qui peuvent fournir l'énergie d'activation requise dans le processus de dépôt chimique en phase vapeur, modifiant ainsi le mode d'alimentation en énergie du système de réaction. Étant donné que la température des électrons dans le plasma est aussi élevée que 10000K, la collision entre les électrons et les molécules de gaz peut favoriser la rupture de la liaison chimique et la recombinaison des molécules de gaz de réaction pour générer des groupes chimiques plus actifs, tandis que l'ensemble du système de réaction maintient une température plus basse.
Ainsi, par rapport au processus CVD, le PECVD peut effectuer le même processus de dépôt chimique en phase vapeur avec une température plus basse.
4.9
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KINTEK's MPCVD machine is a game-changer! Its 1-10Kw adjustable output microwave power feature not only saves electricity but also ensures precise control over the diamond growth process.
4.8
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As a lab manager, I appreciate the stability and reliability of the KINTEK MPCVD system. It has been running non-stop for over 40,000 hours, providing us with consistent, high-quality diamond growth.
4.7
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The rich experience and frontier diamond growing recipe support from KINTEK's research team have been invaluable. Their expertise has helped us optimize our MPCVD process and achieve exceptional results.
4.8
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KINTEK's exclusive technical support program for teams with zero diamond growing experience is a lifesaver. Their guidance and assistance have been instrumental in our successful adoption of the MPCVD system.
5.0
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5
The 3 inches substrate growing area and max. batch load of up to 45 pieces diamonds make the KINTEK MPCVD machine a highly efficient and productive choice for our lab. We can now produce more diamonds in less time.
4.9
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The KINTEK MPCVD system is a technological marvel. Its advanced features and continuous upgrades have kept us at the forefront of diamond growth innovation.
4.7
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The competitive price of the KINTEK MPCVD equipment makes it an affordable and accessible solution for labs like ours. We're grateful for the opportunity to leverage its cutting-edge technology without breaking the bank.
5.0
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The KINTEK MPCVD machine has exceeded our expectations. Its user-friendly interface, stable performance, and exceptional diamond quality have made it an indispensable tool in our lab.
PDF of KTWB315
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