MPCVD
Système de réacteur de machine MPCVD à résonateur cylindrique pour dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes et croissance de diamants de laboratoire
Numéro d'article : KTWB315
Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations
- Puissance micro-ondes
- Fréquence micro-ondes 2450±15MHZ
- Puissance de sortie
- 1～10 KW réglable en continu
- Fuite micro-ondes
- ≤2MW/cm2
- Interface guide d'ondes de sortie
- WR340, 430 avec bride standard FD-340, 430
- Support d'échantillon
- Diamètre de la table d'échantillon≥72mm, zone d'utilisation effective≥66 mm
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MPCVD signifie dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes. C'est une méthode de croissance de films de diamant de haute qualité en laboratoire en utilisant un gaz contenant du carbone et un plasma micro-ondes.
Système MPCVD
Le système MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) est un processus utilisé pour déposer des films minces sur la surface d'un substrat. Le système se compose d'une chambre à vide où se déroule le processus de dépôt, d'un générateur de micro-ondes et d'un système d'alimentation en gaz. Le générateur de micro-ondes est utilisé pour générer un plasma à l'intérieur de la chambre à vide, qui est utilisé pour décomposer et déposer les espèces gazeuses sur le substrat.
Le générateur de micro-ondes est généralement un magnétron ou un klystron, qui génère des micro-ondes dans la gamme de 2,45 GHz. Les micro-ondes sont couplées à la chambre à vide par une fenêtre en quartz.
Le système d'alimentation en gaz se compose de contrôleurs de débit massique (MFC) qui régulent le débit de gaz dans la chambre à vide. Les MFC sont calibrés en centimètres cubes standard par minute (sccm).
La température du substrat est contrôlée par la position du plasma et mesurée par un thermocouple. Le plasma est utilisé pour chauffer le substrat, et la température est surveillée par le thermocouple pour s'assurer que le substrat est à la température souhaitée pendant le processus de dépôt.
Applications
La MPCVD est une technologie prometteuse pour la production de diamants de grande taille, de haute qualité et à faible coût.
Les propriétés uniques du diamant, notamment sa dureté, sa rigidité, sa conductivité thermique élevée, sa faible dilatation thermique, sa résistance aux radiations et son inertie chimique, en font un matériau précieux.
Malgré son grand potentiel, le coût élevé, la taille limitée et la difficulté à contrôler les impuretés des diamants naturels et synthétiques haute pression, haute température ont limité leurs applications.
La MPCVD est l'équipement principal utilisé pour la croissance de pierres précieuses et de films de diamant.
La croissance de films de diamant peut être monocristalline ou polycristalline, et elle est largement utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs pour les substrats de diamant de grande taille ainsi que dans l'industrie des outils de coupe ou de perçage de diamant.
Comparée à la méthode HPHT pour les diamants cultivés en laboratoire, la méthode CVD micro-ondes est avantageuse pour la croissance de diamants de grande taille à moindre coût, ce qui en fait une solution idéale pour les applications de diamants semi-conducteurs, la croissance de diamants optiques et les besoins du marché de la bijouterie de diamants de grande taille.
Avantages de la MPCVD
La MPCVD est une méthode de synthèse de diamants qui présente plusieurs avantages par rapport à d'autres méthodes, telles que la HFCVD et la DC-PJ CVD. Elle évite la contamination du diamant par des fils chauds et permet l'utilisation de plusieurs gaz pour répondre à différents besoins industriels. Comparée à la DC-PJ CVD, elle permet un ajustement doux et continu de la puissance des micro-ondes et un contrôle stable de la température de réaction, ce qui évite la chute des germes cristallins du substrat due aux arcs et aux pannes de flamme. Avec une grande surface de plasma à décharge stable, la méthode MPCVD est considérée comme la méthode de synthèse de diamants la plus prometteuse pour les applications industrielles.
Les diamants produits par MPCVD sont de plus grande pureté par rapport à ceux produits par la méthode HPHT, et le processus de production consomme moins d'énergie. De plus, la méthode MPCVD facilite la production de diamants plus grands.
Avantages de notre système MPCVD
Nous sommes profondément impliqués dans l'industrie depuis de nombreuses années, et par conséquent, nous avons une vaste clientèle qui fait confiance à notre équipement et l'utilise. Notre équipement MPCVD fonctionne de manière stable depuis plus de 40 000 heures, démontrant une stabilité, une fiabilité, une répétabilité et une rentabilité exceptionnelles. Les avantages supplémentaires de notre système MPCVD comprennent :
- Zone de croissance de substrat de 3 pouces, charge par lot max. jusqu'à 45 diamants
- Puissance micro-ondes de sortie réglable de 1 à 10 kW pour une consommation d'électricité réduite
- Équipe de recherche expérimentée avec support de recettes de croissance de diamants de pointe
- Programme de support technique exclusif pour les équipes sans expérience de croissance de diamants
En tirant parti de notre technologie avancée accumulée, nous avons mis en œuvre plusieurs cycles de mises à niveau et d'améliorations de notre système MPCVD, ce qui a entraîné une efficacité considérablement améliorée et des coûts d'équipement réduits. Par conséquent, notre équipement MPCVD est à la pointe des avancées technologiques et proposé à un prix compétitif. Bienvenue à nous consulter.
Processus de travail
La machine MPCVD contrôle le flux de chaque trajet de gaz et la pression de la cavité tout en introduisant les gaz réactifs (tels que CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) dans la cavité sous une pression spécifique. Après stabilisation du flux d'air, le générateur de micro-ondes à état solide de 6 kW génère des micro-ondes qui sont ensuite introduites dans la cavité par le guide d'ondes.
Le gaz de réaction se transforme en état de plasma sous le champ micro-ondes, formant une boule de plasma qui flotte au-dessus du substrat de diamant. La température élevée du plasma chauffe le substrat à une température spécifique. L'excès de chaleur produit dans la cavité est dissipé par l'unité de refroidissement par eau.
Pour assurer des conditions de croissance optimales pendant le processus de croissance de diamants monocristallins par MPCVD, nous ajustons des facteurs tels que la puissance, la composition de la source de gaz et la pression de la cavité. De plus, comme la boule de plasma n'entre pas en contact avec la paroi de la cavité, le processus de croissance du diamant est exempt d'impuretés, améliorant ainsi la qualité du diamant.
Détails et pièces
Système micro-ondes
Chambre de réaction
Système de débit de gaz
Système de vide et de capteurs
Spécifications techniques
| Système micro-ondes |
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| Chambre de réaction |
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| Support d'échantillon |
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| Système de débit de gaz |
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| Système de refroidissement |
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| Capteur de température |
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| Système de contrôle |
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| Fonction optionnelle |
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Avertissements
La sécurité des opérateurs est la question la plus importante ! Veuillez faire fonctionner l'équipement avec des précautions. Travailler avec des gaz inflammables, explosifs ou toxiques est très dangereux, les opérateurs doivent prendre toutes les précautions nécessaires avant de démarrer le équipement. Travailler en pression positive à l’intérieur des réacteurs ou des chambres est dangereux, l'opérateur doit suivre strictement les procédures de sécurité. Supplémentaire des précautions doivent également être prises lors de l'utilisation de matériaux réactifs à l'air, surtout sous vide. Une fuite peut aspirer de l'air dans l'appareil et provoquer un une réaction violente se produit.
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FAQ
Qu'est-ce Que Mpcvd ?
Qu'est-ce Qu'une Machine Mpcvd ?
Quels Sont Les Avantages De Mpcvd ?
Les Diamants CVD Sont-ils Vrais Ou Faux ?
Fiche Technique du Produit
Système de réacteur de machine MPCVD à résonateur cylindrique pour dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes et croissance de diamants de laboratoire
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