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Four CVD & PECVD
Four tubulaire à glissière PECVD avec gazéificateur de liquide Machine PECVD
Numéro d'article : KT-PE12
Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations
- Max. température
- 1200 ℃
- Température de travail constante
- 1100 ℃
- Diamètre du tube du four
- 60 millimètres
- Longueur de la zone de chauffage
- 1x450mm
- Taux de chauffage
- 0-20 ℃/min
- Distance de glissement
- 600mm
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Le système KT-PE12 Slide PECVD avec gazéificateur de liquide se compose d'une source de plasma RF de 500 W, d'un four coulissant TF-1200, d'une unité de contrôle précise de 4 gaz MFC et d'une station de vide standard. Système coulissant de rail de chambre de four, qui peut réaliser le chauffage rapide et le refroidissement rapide, un ventilateur de circulation d'air forcé auxiliaire en option peut être installé pour accélérer la vitesse de refroidissement ; mouvement coulissant en option fonctionnant automatiquement ; max. La température de fonctionnement est jusqu'à 1200 ℃, le tube de four est un tube de quartz de 60 mm de diamètre; Débitmètre massique MFC à 4 canaux avec sources de gaz CH4, H2, O2 et N2 ; La station de vide est une pompe à vide à palettes rotatives 4L/S, max. La pression du vide est jusqu'à 10 Pa.
Avantages
- Source d'adaptation automatique au plasma RF, large plage de puissance de sortie de 5 à 500 W, sortie stable
- Un système de coulissement de la chambre du four pour un chauffage à grande vitesse et un refroidissement de courte durée, un refroidissement rapide auxiliaire et un mouvement de coulissement automatique sont disponibles
- Contrôle de température programmable PID, excellente précision de contrôle et prise en charge de la télécommande et du contrôle centralisé
- Contrôle du débitmètre massique MFC de haute précision, prémélange des gaz sources et vitesse d'alimentation en gaz stable
- Bride à vide en acier inoxydable avec divers orifices d'adaptation pour répondre aux différentes configurations de station de pompe à vide, bonne étanchéité et degré de vide élevé
- CTF Pro applique un contrôleur d'écran tactile TFT de 7 pouces, un réglage de programme plus convivial et une analyse des données d'historique
Différents systèmes CVD de température et de configuration disponibles
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Avantage de sécurité
- Le four à tube Kindle Tech possède une protection contre les surintensités et une fonction d'alarme de surchauffe, le four s'éteindra automatiquement
- Four construit dans la fonction de détection de couple thermique, le four arrête de chauffer et l'alarme s'allume une fois cassé ou une panne détectée
- PE Pro prend en charge la fonction de redémarrage en cas de panne de courant, le four reprendra le programme de chauffage du four lorsque le courant arrive après une panne
Spécifications techniques
Modèle de four | KT-PE12-60 |
Max. température | 1200℃ |
Température de travail constante | 1100℃ |
Matériau du tube du four | Quartz de haute pureté |
Diamètre du tube du four | 60mm |
Longueur de la zone de chauffage | 1x450mm |
Matériau de la chambre | Fibre d'alumine du Japon |
Élément chauffant | Bobine de fil Cr2Al2Mo2 |
Taux de chauffage | 0-20℃/min |
Couple thermique | Construit en type K |
Contrôleur de température | Contrôleur PID numérique/contrôleur PID à écran tactile |
Précision du contrôle de la température | ±1℃ |
Distance de glissement | 600mm |
Unité Plasma RF | |
Puissance de sortie | 5 -500W réglable avec ± 1% de stabilité |
Fréquence RF | 13,56 MHz ± 0,005 % de stabilité |
Puissance de réflexion | 350W max. |
Correspondant à | Automatique |
Bruit | <50 dB |
Refroidissement | Refroidissement par air. |
Unité de contrôle précise du gaz | |
Débitmètre | Débitmètre massique MFC |
Canaux de gaz | 4 canaux |
Débit | MFC1 : 0-5SCCM O2 MFC2 : 0-20SCMCH4 MFC3 : 0-100 SCCM H2 MFC4 : 0-500 SCCM N2 |
Linéarité | ±0,5 % PE |
Répétabilité | ±0,2 % PE |
Conduite et vanne | Acier inoxydable |
Pression de fonctionnement maximale | 0.45MPa |
Contrôleur de débitmètre | Contrôleur de bouton numérique/contrôleur d'écran tactile |
Unité de vide standard (facultatif) | |
Pompe à vide | Pompe à vide à palettes |
Débit de la pompe | 4L/S |
Orifice d'aspiration sous vide | KF25 |
Jauge à vide | Vacuomètre silicone Pirani/Resistance |
Pression de vide nominale | 10 Pa |
Unité de vide poussé (facultatif) | |
Pompe à vide | Pompe à palettes rotatives + pompe moléculaire |
Débit de la pompe | 4L/S+110L/S |
Orifice d'aspiration sous vide | KF25 |
Jauge à vide | Jauge à vide composée |
Pression de vide nominale | 6x10-5Pa |
Les spécifications et configurations ci-dessus peuvent être personnalisées |
Forfait Standard
Non. | Description | Quantité |
1 | fourneau | 1 |
2 | Tube de quartz | 1 |
3 | Bride de vide | 2 |
4 | Bloc thermique du tube | 2 |
5 | Crochet de bloc thermique de tube | 1 |
6 | Gant résistant à la chaleur | 1 |
7 | Source de plasma RF | 1 |
8 | Contrôle précis du gaz | 1 |
9 | Unité de vide | 1 |
dix | Mode d'emploi | 1 |
Configuration facultative
- Dans la détection et la surveillance des gaz à tube, comme H2, O2, etc.
- Surveillance et enregistrement indépendants de la température du four
- Port de communication RS 485 pour télécommande PC et exportation de données
- Insérez le contrôle du débit d'alimentation en gaz, comme le débitmètre massique et le débitmètre à flotteur
- Régulateur de température à écran tactile avec fonctions polyvalentes conviviales pour l'opérateur
- Configurations de stations de pompage à vide élevé, comme la pompe à vide à palettes, la pompe moléculaire, la pompe à diffusion
Avertissements
La sécurité des opérateurs est la question la plus importante ! Veuillez faire fonctionner l'équipement avec des précautions. Travailler avec des gaz inflammables, explosifs ou toxiques est très dangereux, les opérateurs doivent prendre toutes les précautions nécessaires avant de démarrer le équipement. Travailler en pression positive à l’intérieur des réacteurs ou des chambres est dangereux, l'opérateur doit suivre strictement les procédures de sécurité. Supplémentaire des précautions doivent également être prises lors de l'utilisation de matériaux réactifs à l'air, surtout sous vide. Une fuite peut aspirer de l'air dans l'appareil et provoquer un une réaction violente se produit.
Conçu pour vous
KinTek fournit un service et des équipements sur mesure aux clients du monde entier, notre travail d'équipe spécialisé et nos riches ingénieurs expérimentés sont capables de entreprendre les exigences en matière d'équipement matériel et logiciel sur mesure, et aider notre client à constituer l'équipement exclusif et personnalisé et solution!
FAQ
Qu'est-ce Que La Méthode PECVD ?
Qu'est-ce Que Mpcvd ?
A Quoi Sert Le PECVD ?
Qu'est-ce Qu'une Machine Mpcvd ?
Quels Sont Les Avantages Du PECVD ?
Quels Sont Les Avantages De Mpcvd ?
Quelle Est La Différence Entre ALD Et PECVD ?
Les Diamants CVD Sont-ils Vrais Ou Faux ?
Quelle Est La Différence Entre Le PECVD Et La Pulvérisation ?
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Pourquoi le PECVD est essentiel pour la fabrication de dispositifs microélectroniques
PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) est une technique de dépôt de couches minces populaire utilisée dans la fabrication de dispositifs microélectroniques.
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Un guide du débutant sur les machines MPCVD
Le MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) est un procédé utilisé pour déposer des couches minces de matériau sur un substrat à l'aide d'un plasma généré par des micro-ondes.