Four CVD & PECVD
Système d'équipement de dépôt chimique en phase vapeur CVD Four tubulaire PECVD à chambre coulissante avec gazéifieur de liquide Machine PECVD
Numéro d'article : KT-PE12
Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations
- Température maximale
- 1200 ℃
- Température de travail constante
- 1100 ℃
- Diamètre du tube du four
- 60 mm
- Longueur de la zone de chauffage
- 1x450 mm
- Vitesse de chauffage
- 0-20 ℃/min
- Distance de glissement
- 600mm
Livraison:
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Introduction
Le four tubulaire PECVD coulissant avec gazéifieur de liquide est un système polyvalent et performant conçu pour une large gamme d'applications de dépôt de couches minces. Il comprend une source plasma RF de 500W, un four coulissant, un contrôle précis du débit de gaz et une station de vide. Le système offre des avantages tels que l'adaptation automatique du plasma, le chauffage et le refroidissement à grande vitesse, le contrôle programmable de la température et une interface conviviale. Il est largement utilisé dans les environnements de recherche et de production pour le dépôt de couches minces dans diverses industries, notamment l'électronique, les semi-conducteurs et l'optique.
Applications
Le four tubulaire PECVD coulissant avec gazéifieur de liquide trouve ses applications dans :
- Dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
- Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD)
- Dépôt de couches minces
- Fabrication de cellules solaires
- Traitement des semi-conducteurs
- Nanotechnologie
- Science des matériaux
- Recherche et développement
Différents systèmes CVD de température et de configuration disponibles
Principe
Le four tubulaire PECVD coulissant avec gazéifieur de liquide utilise un plasma à basse température pour générer une décharge luminescente dans la cathode de la chambre de traitement (plateau d'échantillon). La décharge luminescente (ou une autre source de chaleur) élève la température de l'échantillon à un niveau prédéterminé. Ensuite, des quantités contrôlées de gaz de processus sont introduites, subissant des réactions chimiques et de plasma pour former un film solide sur la surface de l'échantillon.
Caractéristiques
Le four tubulaire PECVD coulissant avec gazéifieur de liquide offre de nombreux avantages aux utilisateurs :
- Production d'énergie améliorée pour les tranches de cellules solaires : La structure innovante de la nacelle en graphite améliore considérablement la puissance de sortie des cellules solaires.
- Élimination de la différence de couleur dans les cellules PECVD tubulaires : Cet équipement résout efficacement le problème de variation de couleur dans les cellules PECVD tubulaires.
- Large plage de puissance de sortie (5-500W) : La source d'adaptation automatique du plasma RF offre une plage polyvalente de puissance de sortie, garantissant des performances optimales pour diverses applications.
- Chauffage et refroidissement à grande vitesse : Le système coulissant de la chambre du four permet un chauffage et un refroidissement rapides, réduisant le temps de traitement. La circulation d'air forcé auxiliaire accélère davantage la vitesse de refroidissement.
- Mouvement coulissant automatisé : La fonction de mouvement coulissant en option permet un fonctionnement automatique, améliorant l'efficacité et réduisant l'intervention manuelle.
- Contrôle précis de la température : Le contrôle de température programmable PID assure une régulation précise de la température, prenant en charge le contrôle à distance et centralisé pour plus de commodité.
- Contrôle par débitmètre massique MFC de haute précision : Le débitmètre massique MFC contrôle précisément les gaz sources, assurant une alimentation en gaz stable et constante.
- Station de vide polyvalente : La bride à vide en acier inoxydable avec plusieurs ports d'adaptation s'adapte à diverses configurations de stations de pompage à vide, garantissant un degré de vide élevé.
- Interface conviviale : Le contrôleur à écran tactile TFT de 7 pouces CTF Pro simplifie le réglage du programme et permet une analyse facile des données historiques.
Avantages
- Source d'adaptation automatique du plasma RF, large plage de puissance de sortie de 5 à 500 W avec sortie stable
- Système coulissant de la chambre du four pour un chauffage à grande vitesse et un refroidissement rapide, refroidissement rapide auxiliaire et mouvement coulissant automatique disponibles
- Contrôle de température programmable PID, excellente précision de contrôle et prise en charge du contrôle à distance et du contrôle centralisé
- Contrôle par débitmètre massique MFC de haute précision, prémélange des gaz sources et vitesse d'alimentation en gaz stable
- Bride à vide en acier inoxydable avec divers ports d'adaptation pour répondre aux différentes configurations de stations de pompage à vide, bonne étanchéité et degré de vide élevé
- CTF Pro utilise un contrôleur à écran tactile TFT de 7 pouces, un réglage de programme plus convivial et une analyse des données historiques
Avantages en matière de sécurité
- Le four tubulaire Kindle Tech possède une protection contre les surintensités et une fonction d'alarme de surchauffe, le four coupera l'alimentation automatiquement
- Fonction de détection de thermocouple intégrée au four, le four arrêtera de chauffer et l'alarme s'activera en cas de rupture ou de défaillance détectée
- PE Pro prend en charge la fonction de redémarrage après une panne de courant, le four reprendra le programme de chauffage du four lorsque le courant reviendra après une panne
Spécifications techniques
| Modèle de four | KT-PE12-60 |
| Température max. | 1200℃ |
| Température de travail constante | 1100℃ |
| Matériau du tube du four | Quartz de haute pureté |
| Diamètre du tube du four | 60mm |
| Longueur de la zone de chauffage | 1x450mm |
| Matériau de la chambre | Fibre d'alumine du Japon |
| Élément chauffant | Bobine de fil Cr2Al2Mo2 |
| Vitesse de chauffage | 0-20℃/min |
| Thermocouple | Type K intégré |
| Contrôleur de température | Contrôleur PID numérique / Contrôleur PID à écran tactile |
| Précision du contrôle de température | ±1℃ |
| Distance de coulissement | 600mm |
| Unité Plasma RF | |
| Puissance de sortie | 5 - 500W réglable avec une stabilité de ± 1% |
| Fréquence RF | 13,56 MHz ± 0,005% de stabilité |
| Puissance de réflexion | 350W max. |
| Adaptation | Automatique |
| Bruit | <50 dB |
| Refroidissement | Refroidissement par air. |
| Unité de contrôle précis du gaz | |
| Débitmètre | Débitmètre massique MFC |
| Canaux de gaz | 4 canaux |
| Débit | MFC1 : 0-5SCCM O2 MFC2 : 0-20SCMCH4 MFC3 : 0-100SCCM H2 MFC4 : 0-500 SCCM N2 |
| Linéarité | ±0,5% F.S. |
| Répétabilité | ±0,2% F.S. |
| Tuyauterie et vanne | Acier inoxydable |
| Pression de service maximale | 0,45 MPa |
| Contrôleur de débitmètre | Contrôleur à bouton numérique / Contrôleur à écran tactile |
| Unité de vide standard (en option) | |
| Pompe à vide | Pompe à vide à palettes rotatives |
| Débit de la pompe | 4L/S |
| Port d'aspiration de vide | KF25 |
| Jauge de vide | Jauge de vide Pirani/Résistance au silicium |
| Pression de vide nominale | 10Pa |
| Unité de vide poussé (en option) | |
| Pompe à vide | Pompe à palettes rotatives + Pompe moléculaire |
| Débit de la pompe | 4L/S + 110L/S |
| Port d'aspiration de vide | KF25 |
| Jauge de vide | Jauge de vide composée |
| Pression de vide nominale | 6x10-4Pa |
| Les spécifications et configurations ci-dessus peuvent être personnalisées | |
Contenu de l'emballage standard
| N° | Description | Quantité |
| 1 | Four | 1 |
| 2 | Tube de quartz | 1 |
| 3 | Bride à vide | 2 |
| 4 | Bloc thermique de tube | 2 |
| 5 | Crochet de bloc thermique de tube | 1 |
| 6 | Gant résistant à la chaleur | 1 |
| 7 | Source plasma RF | 1 |
| 8 | Contrôle précis du gaz | 1 |
| 9 | Unité de vide | 1 |
| 10 | Manuel d'utilisation | 1 |
Configuration optionnelle
- Détection et surveillance des gaz dans le tube, comme H2, O2, etc.
- Surveillance et enregistrement indépendants de la température du four
- Port de communication RS 485 pour le contrôle à distance par PC et l'exportation de données
- Contrôle du débit d'alimentation en gaz d'insertion, comme le débitmètre massique et le débitmètre à flotteur
- Contrôleur de température à écran tactile avec fonctions conviviales polyvalentes
- Configurations de stations de pompage à vide poussé, comme pompe à vide à palettes, pompe moléculaire, pompe à diffusion
Avertissements
La sécurité des opérateurs est la question la plus importante ! Veuillez faire fonctionner l'équipement avec des précautions. Travailler avec des gaz inflammables, explosifs ou toxiques est très dangereux, les opérateurs doivent prendre toutes les précautions nécessaires avant de démarrer le équipement. Travailler en pression positive à l’intérieur des réacteurs ou des chambres est dangereux, l'opérateur doit suivre strictement les procédures de sécurité. Supplémentaire des précautions doivent également être prises lors de l'utilisation de matériaux réactifs à l'air, surtout sous vide. Une fuite peut aspirer de l'air dans l'appareil et provoquer un une réaction violente se produit.
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FAQ
Qu'est-ce Que La Méthode PECVD ?
Qu'est-ce Que Mpcvd ?
A Quoi Sert Le PECVD ?
Qu'est-ce Qu'une Machine Mpcvd ?
Quels Sont Les Avantages Du PECVD ?
Quels Sont Les Avantages De Mpcvd ?
Quelle Est La Différence Entre ALD Et PECVD ?
Les Diamants CVD Sont-ils Vrais Ou Faux ?
Quelle Est La Différence Entre Le PECVD Et La Pulvérisation ?
4.9 / 5
The speed of this system is phenomenal! High-speed heating and cooling has drastically cut our research time. A game-changer for our lab.
4.8 / 5
Incredible value for such advanced tech. The precise gas flow control and RF plasma source deliver production-grade results in our R&D.
4.9 / 5
The build quality is exceptional. The stainless steel vacuum flange and safety features give us complete peace of mind during long runs.
4.7 / 5
A workhorse! The automated sliding movement and robust construction suggest this machine will be a cornerstone of our work for years.
4.9 / 5
The technological leap is real. The automatic plasma matching and touch screen interface make complex depositions surprisingly straightforward.
4.8 / 5
Arrived faster than expected and set up was a breeze. The user-friendly interface had us running experiments on day one.
4.7 / 5
Outstanding performance for the price. The consistent film quality we achieve on solar cells is directly attributable to this machine's precision.
4.9 / 5
The durability is impressive. It handles continuous operation in our semiconductor processing line without a hiccup. A truly reliable investment.
4.8 / 5
A marvel of engineering. The slide-out furnace for fast cooling is a brilliant feature that boosts our lab's overall efficiency significantly.
4.9 / 5
Top-tier advancement. The ability to eliminate color difference in our PECVD cells has elevated the quality of our entire product line.
4.7 / 5
Speed and quality in one package. The rapid processing time doesn't compromise the exceptional thin film results. Highly recommended.
4.8 / 5
Worth every penny. The versatility for nanotechnology and materials science research is unmatched by any other system we've used.
4.9 / 5
The attention to detail in safety and control is superb. The power failure restart function alone has saved us countless hours of work.
4.8 / 5
Seamless integration into our workflow. The remote control capabilities and data export make analysis and reporting incredibly efficient.
Fiche Technique du Produit
Système d'équipement de dépôt chimique en phase vapeur CVD Four tubulaire PECVD à chambre coulissante avec gazéifieur de liquide Machine PECVD
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