Dans le cas de la pulvérisation cathodique, le plasma est créé par un processus appelé ionisation gazeuse.
Il s'agit d'introduire un gaz inerte à basse pression, généralement de l'argon, dans une chambre à vide.
Une haute tension est ensuite appliquée au gaz, ionisant les atomes et créant un plasma.
La tension requise dépend du gaz utilisé et de la pression du gaz, l'argon nécessitant généralement environ 15,8 électronvolts (eV) pour l'ionisation.
Comment le plasma est-il créé lors de la pulvérisation cathodique ? 5 étapes clés expliquées
1. Introduction du gaz inerte
La première étape consiste à introduire un gaz inerte à basse pression, généralement de l'argon, dans une chambre à vide.
2. Application d'une haute tension
Une haute tension est appliquée au gaz, ce qui ionise les atomes et crée un plasma.
3. Génération d'un plasma à proximité du matériau cible
La génération du plasma est cruciale pour le processus de pulvérisation car elle permet de bombarder le matériau cible avec des ions gazeux.
Lorsque le plasma est généré à proximité du matériau cible, les ions gazeux entrent en collision avec la surface de la cible, délogeant les atomes de la surface et les éjectant dans la phase gazeuse.
4. Éjection et déplacement des atomes
Les atomes éjectés se déplacent ensuite dans le gaz de pulvérisation à basse pression pour atteindre le substrat, où ils se condensent et forment un film mince.
5. Formation d'une couche mince
L'efficacité du processus de pulvérisation, caractérisée par le nombre d'atomes cibles éjectés par ion incident, est influencée par plusieurs facteurs, notamment la masse des ions, l'angle d'incidence, les atomes cibles et l'énergie de l'ion incident.
Le rendement de la pulvérisation, qui varie en fonction des conditions de pulvérisation et des matériaux cibles, est un paramètre clé qui détermine l'efficacité du processus.
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