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MPCVD
Bell-jar Resonator MPCVD Machine pour la croissance de laboratoire et de diamants
Numéro d'article : KTMP315
Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations
- Puissance micro-ondes
- Fréquence micro-ondes 2450±15MHZ
- Puissance de sortie
- 1~10 KW réglable en continu
- Fuite de micro-ondes
- ≤2MW/cm2
- Interface de guide d'ondes de sortie
- WR340, 430 avec bride standard FD-340, 430
- Porte-échantillon
- Diamètre de la table d'échantillon≥70mm, zone d'utilisation efficace≥64 mm
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Obtenez votre devis maintenant! Laisser un message Obtenir un devis rapidement Via Chat en ligneMPCVD signifie Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition. Il fait pousser des films de diamant de qualité dans des laboratoires utilisant du gaz carbonique et du plasma micro-ondes.
Système MPCVD
MPCVD est un système de dépôt de couches minces sur un substrat à l'aide d'une chambre à vide, d'un générateur de micro-ondes et d'un système de distribution de gaz. Un plasma est généré à l'intérieur de la chambre par un magnétron ou un klystron générant des micro-ondes à 2,45 GHz. Le système de distribution de gaz a des MFC calibrés en sccm pour contrôler le débit de gaz. La température du substrat est contrôlée par le plasma et mesurée par un thermocouple. Le plasma chauffe le substrat et la température est surveillée pendant le dépôt.
Applications
MPCVD est prometteur pour la production de gros diamants de haute qualité à faible coût.
Les propriétés uniques du diamant, telles que la dureté, la rigidité, la conductivité thermique élevée, la faible dilatation thermique, la dureté par rayonnement et l'inertie chimique, en font un matériau précieux. Cependant, le coût élevé, la taille limitée et la difficulté à contrôler les impuretés des diamants naturels et synthétiques à haute pression et à haute température ont limité leurs applications.
MPCVD est l'équipement principal pour la culture de pierres précieuses et de films de diamant, qui peuvent être monocristallins ou polycristallins. L'industrie des semi-conducteurs utilise largement la croissance du film de diamant pour les substrats de diamant de grande taille, ainsi que l'industrie des outils de coupe ou de forage au diamant.
Par rapport à la méthode HPHT pour les diamants cultivés en laboratoire, la méthode CVD par micro-ondes est avantageuse pour la croissance des diamants de grande taille à moindre coût, ce qui en fait une solution idéale pour les diamants semi-conducteurs, la croissance des diamants optiques et le grand marché des diamants de joaillerie.
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
Avantages du MPCVD
MPCVD est une méthode de synthèse de diamant avec des avantages par rapport à HFCVD et DC-PJ CVD. Il évite la contamination et permet plusieurs gaz. Il offre un réglage en douceur de la puissance des micro-ondes et un contrôle stable de la température, évitant ainsi la perte de germes cristallins. MPCVD est prometteur pour les applications industrielles en raison d'une grande surface de plasma stable.
MPCVD produit des diamants plus purs en utilisant moins d'énergie que HPHT. Il permet également la production de diamants plus gros.
Avantages de notre système MPCVD
Nous sommes profondément impliqués dans l'industrie depuis de nombreuses années et, par conséquent, nous avons une vaste clientèle qui fait confiance à notre équipement et l'utilise. Notre équipement MPCVD fonctionne régulièrement depuis plus de 40 000 heures, démontrant une stabilité, une fiabilité, une répétabilité et une rentabilité exceptionnelles. Les autres avantages de notre système MPCVD incluent :
- Surface de croissance du substrat de 3 pouces, max. chargement par lots jusqu'à 45 pièces de diamants
- Puissance micro-ondes de sortie réglable de 1 à 10 kW pour une consommation d'électricité moindre
- Équipe de recherche riche et expérimentée avec support de recettes de culture de diamants à la frontière
- Programme d'assistance technique exclusif pour l'équipe d'expérience de culture de diamants zéro
En tirant parti de notre technologie de pointe accumulée, nous avons mis en œuvre plusieurs séries de mises à niveau et d'améliorations de notre système MPCVD, ce qui a permis d'améliorer considérablement l'efficacité et de réduire les coûts d'équipement. De ce fait, nos équipements MPCVD sont à la pointe des avancées technologiques et offerts à un prix compétitif. Bienvenue à nous consulter.

Traitement de travail
La machine MPCVD contrôle le débit de chaque trajet de gaz et la pression de la cavité tout en introduisant des gaz réactifs (tels que CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) dans la cavité sous une pression spécifique. Après avoir stabilisé le flux d'air, le générateur de micro-ondes à semi-conducteurs de 6KW génère des micro-ondes qui sont ensuite introduites dans la cavité à travers le guide d'ondes.
Le gaz de réaction se transforme en un état de plasma sous le champ de micro-ondes, formant une boule de plasma qui plane au-dessus du substrat en diamant. La température élevée du plasma chauffe le substrat à une température spécifique. L'excès de chaleur produit dans la cavité est dissipé par l'unité de refroidissement par eau.
Pour garantir des conditions de croissance optimales pendant le processus de croissance du diamant monocristallin MPCVD, nous ajustons des facteurs tels que la puissance, la composition de la source de gaz et la pression de la cavité. De plus, étant donné que la boule de plasma n'entre pas en contact avec la paroi de la cavité, le processus de croissance du diamant est exempt d'impuretés, améliorant ainsi la qualité du diamant.
Détails et pièces

Système micro-ondes
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Chambre de réaction
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Système d'écoulement de gaz

Système de vide et de capteur
Spécifications techniques
Système micro-ondes |
|
Chambre de réaction |
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Porte-échantillon |
|
Système d'écoulement de gaz |
|
Système de refroidissement |
|
Capteur de température |
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Système de contrôle |
|
Fonction facultative |
|
Avertissements
La sécurité des opérateurs est la question la plus importante ! Veuillez faire fonctionner l'équipement avec des précautions. Travailler avec des gaz inflammables, explosifs ou toxiques est très dangereux, les opérateurs doivent prendre toutes les précautions nécessaires avant de démarrer le équipement. Travailler en pression positive à l’intérieur des réacteurs ou des chambres est dangereux, l'opérateur doit suivre strictement les procédures de sécurité. Supplémentaire des précautions doivent également être prises lors de l'utilisation de matériaux réactifs à l'air, surtout sous vide. Une fuite peut aspirer de l'air dans l'appareil et provoquer un une réaction violente se produit.
Conçu pour vous
KinTek fournit un service et des équipements sur mesure aux clients du monde entier, notre travail d'équipe spécialisé et nos riches ingénieurs expérimentés sont capables de entreprendre les exigences en matière d'équipement matériel et logiciel sur mesure, et aider notre client à constituer l'équipement exclusif et personnalisé et solution!
FAQ
Qu'est-ce Qu'une Machine à Diamant CVD?
Quels Types De Machines De Croissance De Diamants Sont Disponibles ?
Quels Sont Les Avantages Des Diamants Cultivés En Laboratoire ?
Quel Est Le Principe De Base Du CVD ?
Quel Est Le Prix De La Machine De Culture CVD ?
Quels Sont Les Différents Types De Méthode CVD ?
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Four tubulaire CVD à chambre divisée avec machine CVD à station de vide
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Système RF PECVD Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à radiofréquence
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Machine à four tubulaire à dépôt chimique assisté par plasma rotatif incliné (PECVD)
Présentation de notre four PECVD rotatif incliné pour un dépôt précis de couches minces. Profitez d'une source d'adaptation automatique, d'un contrôle de température programmable PID et d'un contrôle de débitmètre massique MFC de haute précision. Fonctions de sécurité intégrées pour une tranquillité d'esprit.
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Matrice d'étirage revêtement nano-diamant HFCVD Equipment
Le moule d'étirage du revêtement composite nano-diamant utilise du carbure cémenté (WC-Co) comme substrat et utilise la méthode chimique en phase vapeur (méthode CVD en abrégé) pour revêtir le diamant conventionnel et le revêtement composite nano-diamant sur la surface de l'orifice intérieur du moule.
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Machine de revêtement par évaporation améliorée par plasma PECVD
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Distillation à court trajet 5L
Faites l'expérience d'une distillation à court trajet efficace et de haute qualité de 5 litres avec notre verrerie en borosilicate durable, notre manteau de chauffage rapide et notre dispositif de montage délicat. Extrayez et purifiez facilement vos liquides mixtes cibles dans des conditions de vide poussé. Découvrez dès maintenant ses avantages !
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Distillation à court trajet 20L
Extrayez et purifiez efficacement les liquides mélangés avec notre système de distillation à court trajet de 20 litres. Chauffage sous vide poussé et à basse température pour des résultats optimaux.
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Four de fusion d'arc de système de filature de fonte d'induction de vide
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Les progrès des systèmes MPCVD pour les diamants monocristallins de grande taille
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Comprendre le PECVD : un guide pour le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma
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