La principale différence entre les revêtements diamantés CVD et PVD réside dans leurs processus de création et leurs propriétés. Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) consiste à faire réagir chimiquement des molécules de gaz pour déposer une couche sur un substrat, ce qui donne une surface plus épaisse et potentiellement plus rugueuse. En revanche, le dépôt physique en phase vapeur (PVD) consiste à condenser une vapeur sur un substrat, ce qui crée une surface plus fine et plus lisse. Les revêtements PVD sont plus durables et peuvent résister à des températures plus élevées, tandis que les revêtements CVD peuvent être déposés sur une plus large gamme de matériaux.
Revêtements diamant CVD (dépôt chimique en phase vapeur) :
Le dépôt en phase vapeur implique l'utilisation de molécules de gaz qui réagissent chimiquement pour déposer une couche sur un substrat. Ce procédé permet généralement d'obtenir un revêtement plus épais dont la surface peut être plus rugueuse. L'avantage du dépôt en phase vapeur est sa polyvalence en termes de gamme de matériaux sur lesquels il peut être déposé. Cette méthode est particulièrement utile pour créer des revêtements sur des substrats complexes ou délicats qui ne résisteraient pas aux forces physiques impliquées dans le PVD.Revêtements diamant par PVD (Physical Vapor Deposition) :
Le dépôt en phase vapeur (PVD), quant à lui, implique la condensation d'une vapeur sur un substrat. Ce procédé produit généralement un revêtement plus fin et plus lisse. La durabilité des revêtements PVD est supérieure et ils peuvent supporter des températures plus élevées que les revêtements CVD. Le dépôt en phase vapeur est donc une méthode privilégiée pour les applications où la durabilité et la résistance aux températures élevées sont essentielles.
