Le gaz utilisé dans le processus de pulvérisation est généralement un gaz inerte, l'argon étant le choix le plus courant et le plus rentable. D'autres gaz inertes tels que le krypton, le xénon, le néon et l'azote sont également utilisés, en fonction des exigences spécifiques du processus de pulvérisation et du poids atomique du matériau cible. Le choix du gaz est crucial pour un transfert efficace de la quantité de mouvement, les gaz plus légers comme le néon étant préférés pour la pulvérisation d'éléments légers et les gaz plus lourds comme le krypton ou le xénon étant utilisés pour les éléments lourds. En outre, les gaz réactifs tels que l'oxygène et l'azote peuvent être utilisés conjointement avec des gaz inertes pour déposer des couches minces d'oxydes, de nitrures et d'autres composés. Le choix du gaz de pulvérisation peut influencer de manière significative la vitesse de dépôt et la qualité du film ou du revêtement sur le substrat.
Découvrez la précision et la polyvalence des gaz de pulvérisation de KINTEK SOLUTION, conçus pour améliorer l'efficacité de vos procédés et la qualité de vos films. De l'argon standard à des mélanges spécialisés de krypton et de néon, notre gamme de gaz inertes et réactifs garantit des performances de pulvérisation optimales pour tout matériau cible. Améliorez vos capacités de pulvérisation dès aujourd'hui grâce à la sélection supérieure de gaz et à l'expertise industrielle de KINTEK SOLUTION.
