Lorsqu'il s'agit de mesurer l'épaisseur de films minces, une technique se distingue : l'ellipsométrie spectroscopique.
Laquelle des techniques de mesure suivantes est couramment utilisée pour déterminer l'épaisseur des couches minces ? (4 méthodes clés explorées)
1. Ellipsométrie spectroscopique
L'ellipsométrie spectroscopique est une méthode non destructive et sans contact.
Elle permet de mesurer l'épaisseur des films monocouches et multicouches transparents et semi-transparents.
Cette méthode est largement utilisée dans les industries telles que l'électronique et les semi-conducteurs.
Elle permet de mesurer simultanément l'épaisseur d'un film et ses propriétés optiques telles que l'indice de réfraction et le coefficient d'extinction.
La plage d'épaisseur appropriée pour l'ellipsométrie spectroscopique se situe entre 1 nm et 1 000 nm.
Toutefois, elle ne permet pas de mesurer avec précision l'épaisseur des couches minces sur les substrats transparents utilisés en optique.
2. Profilométrie au stylet
La profilométrie au stylet est une autre technique qui peut être utilisée pour les mesures mécaniques de l'épaisseur des films.
Elle nécessite la présence d'une rainure ou d'une marche sur la surface du film.
3. Interférométrie
L'interférométrie est également une méthode qui peut être utilisée pour mesurer l'épaisseur d'un film.
Comme la profilométrie à stylet, elle nécessite des caractéristiques de surface spécifiques pour fonctionner efficacement.
4. Autres techniques
Pour les applications impliquant des substrats transparents utilisés en optique, d'autres méthodes telles que le XRR, le MEB en coupe et le MET en coupe peuvent être explorées.
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Avec la possibilité de calculer l'indice de réfraction du film, notre méthode non destructive et sans contact est reconnue par les industries de l'électronique et des semi-conducteurs.
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