La technique de mesure couramment utilisée pour déterminer l'épaisseur des films minces est l'ellipsométrie spectroscopique. L'ellipsométrie spectroscopique est une méthode non destructive et sans contact qui permet de mesurer l'épaisseur des films monocouches et multicouches transparents et semi-transparents. Elle est largement utilisée dans des industries telles que l'électronique et les semi-conducteurs. Cette méthode permet de mesurer simultanément l'épaisseur d'un film et ses propriétés optiques telles que l'indice de réfraction et le coefficient d'extinction. La plage d'épaisseur pour laquelle l'ellipsométrie spectroscopique est adaptée se situe entre 1 nm et 1000 nm. Toutefois, elle ne permet pas de mesurer avec précision l'épaisseur des films minces à base de substrats transparents utilisés en optique. D'autres techniques, telles que la profilométrie à stylet et l'interférométrie, peuvent également être utilisées pour les mesures mécaniques de l'épaisseur des films, mais elles nécessitent la présence d'une rainure ou d'une marche à la surface du film. Il est important de prendre en compte des facteurs tels que la transparence du matériau, les informations supplémentaires requises et le budget lors du choix d'une technique de mesure de l'épaisseur d'un film mince.
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