Matériel de laboratoire
Nitrure de titane (TiN) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule
Numéro d'article : LM-TiN
Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations
- Formule chimique
- Croire
- Pureté
- 2N5
- Forme
- disques / fil / bloc / poudre / plaques / cibles colonnes / cible pas à pas / sur mesure
Livraison:
Contactez-nous pour obtenir les détails d'expédition. Profitez-en Garantie d'expédition dans les délais.
Demandez votre devis personnalisé 👋
Obtenez votre devis maintenant! Laisser un message Obtenir un devis rapidement Via Chat en ligneNous fournissons des matériaux en nitrure de titane (TiN) pour une utilisation en laboratoire à des prix abordables. Notre spécialité réside dans la production et la personnalisation de matériaux en nitrure de titane (TiN) de différentes puretés, formes et tailles pour répondre à vos besoins individuels.
Nous proposons une sélection variée de spécifications et de tailles pour les cibles de pulvérisation (circulaires, carrées, tubulaires, irrégulières), les matériaux de revêtement, les cylindres, les cônes, les particules, les feuilles, les poudres, les poudres d'impression 3D, les poudres nanométriques, les fils machine, les lingots et les blocs, entre autres.
Détails
À propos du nitrure de titane (TiN)
Le nitrure de titane est un matériau facilement disponible, avec des formes submicroniques et nanopoudres de haute pureté également disponibles. Dans notre usine, nous produisons diverses qualités standard de cible de pulvérisation de nitrure de titane de haute pureté (99,999%), y compris Mil Spec (qualité militaire), ACS, réactif, technique, alimentaire, agricole, pharmaceutique, optique, USP et EP/BP (européen Pharmacopée/British Pharmacopeia). Nous suivons les normes de test ASTM applicables pour garantir la qualité de nos matériaux.
Pour résumer, nous proposons une gamme variée de matériaux en nitrure de titane de haute pureté qui répondent aux diverses exigences de l'industrie et des applications. Nos matériaux sont produits dans le strict respect des normes de test ASTM, garantissant une qualité et des performances constantes.
Formas de metal disponibles
Detalles de formas de metal
Fabricamos casi todos los metales enumerados en la tabla periódica en una amplia gama de formas y purezas, así como en tamaños y dimensiones estándar. También podemos producir productos personalizados para cumplir con los requisitos específicos del cliente, como tamaño, forma, área de superficie, composición y más. La siguiente lista proporciona una muestra de los formularios que ofrecemos, pero no es exhaustiva. Si necesita consumibles de laboratorio, contáctenos directamente para solicitar una cotización.
- Formas planas/planares: cartón, película, lámina, microlámina, microlámina, papel, placa, cinta, hoja, tira, cinta, oblea
- Formas preformadas: ánodos, bolas, bandas, barras, botes, pernos, briquetas, cátodos, círculos, bobinas, crisoles, cristales, cubos, tazas, cilindros, discos, electrodos, fibras, filamentos, bridas, rejillas, lentes, mandriles, tuercas , Partes, Prismas, Discos, Anillos, Varillas, Formas, Escudos, Mangas, Resortes, Cuadrados, Objetivos de pulverización catódica, Palos, Tubos, Arandelas, Ventanas, Alambres
- Microtamaños: Perlas, Bits, Cápsulas, Chips, Monedas, Polvo, Copos, Granos, Gránulos, Micropolvo, Agujas, Partículas, Guijarros, Pellets, Alfileres, Píldoras, Polvo, Virutas, Perdigones, Babosas, Esferas, Tabletas
- Macrotamaños: palanquillas, trozos, esquejes, fragmentos, lingotes, terrones, pepitas, piezas, punzones, rocas, desechos, segmentos, virutas
- Porosos y semiporosos: tela, espuma, gasa, nido de abeja, malla, esponja, lana
- Nanoescala: nanopartículas, nanopolvos, nanoláminas, nanotubos, nanobarras, nanoprismas
- Otros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Residuo, Muestras, Especímenes
KinTek se especializa en la fabricación de materiales de pureza ultra alta y alta con un rango de pureza de 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) y, en algunos casos, hasta 99,99999 % (7N). ). Nuestros materiales están disponibles en grados específicos, incluidos los grados UP/UHP, semiconductores, electrónicos, de deposición, de fibra óptica y MBE. Nuestros metales, óxidos y compuestos de alta pureza están diseñados específicamente para cumplir con las rigurosas demandas de las aplicaciones de alta tecnología y son ideales para usar como dopantes y materiales precursores para la deposición de películas delgadas, el crecimiento de cristales de semiconductores y la síntesis de nanomateriales. Estos materiales encuentran uso en microelectrónica avanzada, celdas solares, celdas de combustible, materiales ópticos y otras aplicaciones de vanguardia.
embalaje
Utilizamos envasado al vacío para nuestros materiales de alta pureza, y cada material tiene un embalaje específico adaptado a sus características únicas. Por ejemplo, nuestro objetivo de pulverización catódica Hf está etiquetado y etiquetado externamente para facilitar la identificación y el control de calidad eficientes. Tenemos mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda ocurrir durante el almacenamiento o el transporte.
Contrôle de la qualité des ingrédients
- Analyse de la composition des matières premières
- Grâce à l'utilisation d'équipements tels que l'ICP et le GDMS, la teneur en impuretés métalliques est détectée et analysée pour s'assurer qu'elle répond à la norme de pureté ;
Les impuretés non métalliques sont détectées par des équipements tels que des analyseurs de carbone et de soufre, des analyseurs d'azote et d'oxygène. - Analyse de détection de défauts métallographiques
- Le matériau cible est inspecté à l'aide d'un équipement de détection des défauts pour s'assurer qu'il n'y a pas de défauts ou de trous de retrait à l'intérieur du produit ;
Grâce à des tests métallographiques, la structure granulaire interne du matériau cible est analysée pour s'assurer que les grains sont fins et denses. - Inspection de l'apparence et des dimensions
- Les dimensions du produit sont mesurées à l'aide de micromètres et d'étriers de précision pour assurer la conformité aux dessins ;
L'état de surface et la propreté du produit sont mesurés à l'aide d'un mesureur de propreté de surface.
Tailles des cibles de pulvérisation conventionnelles
- Processus de préparation
- pressage isostatique à chaud, fusion sous vide, etc.
- Forme de la cible de pulvérisation
- cible de pulvérisation plane, cible de pulvérisation à arcs multiples, cible de pulvérisation par étapes, cible de pulvérisation de forme spéciale
- Taille cible de pulvérisation ronde
- Diamètre : 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Épaisseur : 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
La taille peut être personnalisée. - Taille cible de pulvérisation carrée
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, la taille peut être personnalisée
4.8
out of
5
KINTEK SOLUTION's TiN sputtering target is the perfect choice for my lab. It delivers consistent results and has significantly improved the efficiency of our processes.
4.9
out of
5
The quality of KINTEK SOLUTION's TiN sputtering target is exceptional. It has enhanced the performance of our instruments and contributed to groundbreaking research.
4.7
out of
5
KINTEK SOLUTION's TiN sputtering target is an excellent investment for any laboratory. Its durability and reliability have exceeded our expectations.
4.8
out of
5
KINTEK SOLUTION's TiN sputtering target is a game-changer. It has enabled us to achieve remarkable results in our research and has set a new standard for quality.
4.7
out of
5
KINTEK SOLUTION's TiN sputtering target is a must-have for any laboratory seeking precision and accuracy. It has transformed our research capabilities.
4.9
out of
5
KINTEK SOLUTION's TiN sputtering target is a testament to their commitment to excellence. It has revolutionized our laboratory's capabilities and opened up new avenues for innovation.
4.6
out of
5
KINTEK SOLUTION's TiN sputtering target is a reliable workhorse in our lab. It has consistently delivered exceptional results, making it an indispensable tool.
4.8
out of
5
KINTEK SOLUTION's TiN sputtering target is a valuable asset to our laboratory. It has enabled us to push the boundaries of research and achieve groundbreaking results.
4.7
out of
5
KINTEK SOLUTION's TiN sputtering target is a game-changer. It has significantly improved the efficiency and accuracy of our research, leading to groundbreaking discoveries.
4.9
out of
5
KINTEK SOLUTION's TiN sputtering target is a remarkable product. It has transformed our laboratory's capabilities and enabled us to achieve exceptional results.
4.8
out of
5
KINTEK SOLUTION's TiN sputtering target is a testament to their dedication to quality. It has exceeded our expectations and has become an essential tool in our laboratory.
4.7
out of
5
KINTEK SOLUTION's TiN sputtering target is a valuable addition to our laboratory. It has enhanced the accuracy and reliability of our research, leading to significant breakthroughs.
4.9
out of
5
KINTEK SOLUTION's TiN sputtering target is a remarkable product. It has revolutionized our research capabilities and has enabled us to achieve groundbreaking results.
4.6
out of
5
KINTEK SOLUTION's TiN sputtering target is a reliable and cost-effective solution for our laboratory. It has enabled us to conduct groundbreaking research with exceptional precision.
PDF - Nitrure de titane (TiN) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule
disabled = false, 3000)"> TéléchargerCatalogue de Matériel De Laboratoire
disabled = false, 3000)"> TéléchargerRICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team di professionisti ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitate a contattarci!
Produits associés
Cible de pulvérisation de titane (Ti) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Achetez des matériaux en titane (Ti) de haute qualité à des prix raisonnables pour une utilisation en laboratoire. Trouvez une large gamme de produits sur mesure pour répondre à vos besoins uniques, notamment des cibles de pulvérisation, des revêtements, des poudres, etc.
Vous recherchez des matériaux TiNiAg personnalisables ? Nous proposons une large gamme de tailles et de puretés à des prix compétitifs, y compris des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres, etc. Contactez-nous aujourd'hui!
Cible de pulvérisation de carbure de titane (TiC) / Poudre / Fil / Bloc / Granule
Obtenez des matériaux en carbure de titane (TiC) de haute qualité pour votre laboratoire à des prix abordables. Nous proposons une large gamme de formes et de tailles, y compris des cibles de pulvérisation, des poudres, etc. Adapté à vos besoins spécifiques.
Nitrure de tantale (TaN) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule
Découvrez des matériaux abordables en nitrure de tantale pour les besoins de votre laboratoire. Nos experts produisent des formes et des puretés personnalisées pour répondre à vos spécifications uniques. Choisissez parmi une variété de cibles de pulvérisation, de revêtements, de poudres et plus encore.
Cible de pulvérisation en alliage de titane et de silicium (TiSi) / Poudre / Fil / Bloc / Granule
Découvrez nos matériaux abordables en alliage titane-silicium (TiSi) pour une utilisation en laboratoire. Notre production sur mesure propose différentes puretés, formes et tailles pour les cibles de pulvérisation, les revêtements, les poudres, etc. Trouvez la combinaison parfaite pour vos besoins uniques.
Cible de pulvérisation en alliage de tungstène-titane (WTi) / Poudre / Fil / Bloc / Granule
Découvrez nos matériaux en alliage de tungstène et de titane (WTi) pour une utilisation en laboratoire à des prix abordables. Notre expertise nous permet de produire des matériaux sur mesure de différentes puretés, formes et tailles. Choisissez parmi une large gamme de cibles de pulvérisation, de poudres et plus encore.
Cible de pulvérisation de dioxyde de titane de haute pureté (TiO2) / Poudre / Fil / Bloc / Granule
Vous recherchez des matériaux de dioxyde de titane de haute qualité ? Nos produits sur mesure répondent aux exigences uniques de tout laboratoire. Parcourez notre gamme de formes, de tailles et de puretés dès aujourd'hui.
Titanate de lithium (Li2TiO3) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule
Obtenez des matériaux Lithium Titanate de haute qualité pour les besoins de votre laboratoire à des prix abordables. Nous proposons des solutions sur mesure avec différentes formes, tailles et puretés. Trouvez des cibles de pulvérisation, des poudres et plus encore dans diverses spécifications.
Cible de pulvérisation de titanate d'Iithium (LiTiO3)/poudre/fil/bloc/granule
Obtenez des matériaux Iithium Titanate (LiTiO3) de haute qualité pour votre laboratoire à des prix raisonnables. Nos solutions sur mesure répondent à différentes puretés, formes et tailles, y compris les cibles de pulvérisation, les matériaux de revêtement, les poudres, etc. Commandez maintenant!
Cible de pulvérisation de tantale (Ta) de grande pureté/poudre/fil/bloc/granule
Découvrez nos matériaux en tantale (Ta) de haute qualité pour une utilisation en laboratoire à des prix abordables. Nous nous adaptons à vos besoins spécifiques avec différentes formes, tailles et puretés. Découvrez notre gamme de cibles de pulvérisation, de matériaux de revêtement, de poudres et bien plus encore.
Alliage nickel niobium (NiNb) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule
Trouvez des matériaux en alliage nickel niobium (NiNb) de haute qualité pour les besoins de votre laboratoire. Nous proposons des puretés, des formes et des tailles sur mesure, ainsi que des cibles de pulvérisation, des revêtements, des poudres, etc. Découvrez notre gamme maintenant !
Alliage de tantale et de tungstène (TaW) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule
Vous recherchez des matériaux en alliage de tantale et de tungstène (TaW) de haute qualité ? Nous proposons une large gamme d'options personnalisables à des prix compétitifs pour une utilisation en laboratoire, notamment des cibles de pulvérisation, des revêtements, des poudres, etc.
Cible de pulvérisation d'étain (Sn) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Vous recherchez des matériaux en étain (Sn) de haute qualité pour une utilisation en laboratoire ? Nos experts proposent des matériaux Tin (Sn) personnalisables à des prix raisonnables. Découvrez notre gamme de spécifications et de tailles dès aujourd'hui.
Nitrure de silicium (Si3N4) Cible de pulvérisation / Poudre / Fil / Bloc / Granule
Obtenez des matériaux abordables en nitrure de silicium (Si3N4) pour les besoins de votre laboratoire. Nous produisons et personnalisons différentes formes, tailles et puretés pour répondre à vos besoins. Parcourez notre gamme de cibles de pulvérisation, de poudres et plus encore.
Feuille de titane de haute pureté / feuille de titane
Le titane est chimiquement stable, avec une densité de 4,51 g/cm3, ce qui est supérieur à l'aluminium et inférieur à l'acier, au cuivre et au nickel, mais sa résistance spécifique se classe au premier rang des métaux.
Cible de pulvérisation en alliage nickel-silicium (NiSi) / Poudre / Fil / Bloc / Granule
Vous recherchez des matériaux en alliage nickel-silicium pour votre laboratoire ? Nos matériaux fabriqués et fabriqués par des experts sont disponibles dans différentes formes et tailles pour répondre à vos besoins uniques. Obtenez des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres et plus encore à des prix raisonnables.
Cible de pulvérisation de nickel (Ni) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Vous recherchez des matériaux Nickel (Ni) de haute qualité pour une utilisation en laboratoire ? Ne cherchez pas plus loin que notre sélection personnalisable ! Avec des prix compétitifs et une gamme de tailles et de formes parmi lesquelles choisir, nous avons tout ce dont vous avez besoin pour répondre à vos besoins uniques.
Articles associés
Pressage isostatique à chaud pour une uniformité optimale de la microstructure
Le pressage isostatique à chaud (HIP) est une technologie utilisée pour densifier les matériaux à hautes températures et pressions. Le processus consiste à placer un matériau dans un récipient scellé, qui est ensuite pressurisé avec un gaz inerte et chauffé à haute température.
Pressage isostatique à froid : un aperçu et ses applications industrielles
Le pressage isostatique à froid (CIP) est une méthode de traitement de matériaux utilisant la pression d'un liquide pour compacter la poudre. C'est similaire au traitement des moules métalliques et est basé sur la loi de Pascal.
Processus et paramètres détaillés de la PECVD pour le dépôt de TiN et de Si3N4
Une exploration approfondie des procédés PECVD pour TiN et Si3N4, y compris la configuration de l'équipement, les étapes opérationnelles et les paramètres clés du procédé.
Traitement de surface avancé : Revêtement CVD de titane
Explore les avantages et les applications des revêtements CVD sur les alliages de titane, en se concentrant sur la résistance à l'usure, la résistance à la corrosion et la stabilité thermique.
Défis liés au dépôt d'un film TiN à l'aide d'un courant alternatif et solutions
Examine les difficultés liées à la croissance d'un film de TiN sous courant alternatif et propose des solutions telles que la pulvérisation cathodique et le courant continu pulsé.