Articles

Une exploration complète de la technologie CVD, de ses principes, de ses caractéristiques, de ses classifications, de ses nouvelles avancées et de ses applications dans divers domaines.

Une vue d'ensemble de la technologie CVD et du rôle des gaz spéciaux électroniques dans la fabrication des semi-conducteurs.

Analyse détaillée des méthodes de dépôt de couches minces de passivation dans les cellules TOPCon, y compris les technologies PVD et CVD.

Cet article détaille les différentes méthodes CVD et PVD pour le dépôt de couches minces inorganiques, y compris leurs processus, leurs applications et leurs comparaisons.

Explore le rôle de la CVD dans l'amélioration des performances et de l'évolutivité des cellules solaires à base de chalcogénures, en mettant l'accent sur ses avantages et ses applications.

Instructions détaillées pour la préparation d'échantillons pour la RMN, la MS, la chromatographie, l'IR, l'UV, l'ICP, la thermogravimétrie, la XRD, la TEM, la SEM et d'autres instruments.

Cet article traite de la méthode de compression des poudres dans l'analyse spectrale XRF, en mettant l'accent sur les techniques de préparation des échantillons et sur l'équipement.

Étapes et conditions détaillées de la préparation des échantillons pour les expériences de diffraction des rayons X.

Guide détaillé sur la préparation et la manipulation d'échantillons solides, liquides et gazeux pour la spectroscopie infrarouge.

Guide détaillé sur la préparation des échantillons TEM, couvrant le nettoyage, le broyage, le polissage, la fixation et les techniques de couverture.

Vue d'ensemble des différentes méthodes de préparation des échantillons pour l'analyse spectrale infrarouge.

Une vue d'ensemble des principes, des exigences en matière d'échantillons et des méthodes de préparation pour la spectroscopie infrarouge in situ.

Cet article explore les méthodes de préparation et les mécanismes de croissance des couches minces de diamant par dépôt chimique en phase vapeur (CVD), en soulignant les défis et les applications potentielles.

Il traite de l'utilisation des diamants cultivés dans les semi-conducteurs, la dissipation de la chaleur et la fabrication de pointe.

Explore les propriétés uniques des diamants CVD, leurs méthodes de préparation et leurs diverses applications dans différents domaines.

Cet article traite des applications du diamant monocristallin MPCVD dans les domaines des semi-conducteurs et de l'affichage optique, en soulignant ses propriétés supérieures et son impact potentiel sur diverses industries.

Cet article traite des progrès et des défis liés à la préparation de diamants monocristallins de grande taille à l'aide de techniques de dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes (MPCVD).

Un examen approfondi des méthodes et des avantages du revêtement sous vide sur le verre architectural, en mettant l'accent sur l'efficacité énergétique, l'esthétique et la durabilité.

Une analyse approfondie des facteurs clés influençant l'adhésion des films préparés par la technologie de pulvérisation cathodique magnétron.

Explore les propriétés et les diverses applications des revêtements en carbone diamanté (DLC).

Examine le phénomène d'empoisonnement des cibles dans la pulvérisation cathodique magnétron, ses causes, ses effets et les mesures préventives.

Cet article traite de la manière dont les différentes alimentations électriques affectent la morphologie des couches de film pulvérisé, en se concentrant sur les alimentations DC, PDC et RF.

Cet article examine les causes et les solutions de l'ablation sévère dans la région centrale des cibles céramiques lors de la pulvérisation magnétron.

Un guide approfondi sur la définition, les méthodes de mesure, les facteurs d'influence et l'équipement utilisé pour évaluer la résistance au pelage des couches de film pulvérisé.

Ce document traite des méthodes permettant de garantir la tolérance de l'épaisseur du film lors du revêtement par pulvérisation cathodique magnétron, afin d'obtenir des performances optimales du matériau.

Un examen approfondi des avantages et des inconvénients du revêtement par évaporation par faisceau d'électrons et de ses diverses applications dans l'industrie.

Examine les difficultés liées à la croissance d'un film de TiN sous courant alternatif et propose des solutions telles que la pulvérisation cathodique et le courant continu pulsé.

Un examen approfondi des principes, des types, des applications gazeuses et des utilisations pratiques des procédés de revêtement PVD.

Exploration approfondie des principes de conception des systèmes à couches minces, des considérations technologiques et des applications pratiques dans divers domaines.

Analyse des facteurs causant l'absence de dépôt de film en dépit de l'incandescence lors de la pulvérisation magnétron.