Le revêtement PVD est constitué de divers matériaux, dont le titane, le zirconium, l'aluminium, l'acier inoxydable, le cuivre et l'or, entre autres. Ces matériaux sont utilisés pour créer des revêtements en couches minces, dont l'épaisseur varie généralement entre 0,5 et 5 microns. Le procédé PVD (Physical Vapor Deposition) implique le dépôt physique de ces matériaux à l'état de vapeur sur un substrat, qui peut être en nylon, en plastique, en verre, en céramique ou en métaux tels que l'acier inoxydable et l'aluminium.
Le procédé PVD améliore les propriétés des matériaux, les rendant plus durs, plus résistants à l'usure et à la corrosion. Il améliore également leur stabilité thermique et chimique tout en réduisant leur coefficient de frottement et leur tendance à se bloquer, à se colmater, à coller, à se corroder et à s'oxyder. Ce résultat est obtenu grâce à diverses techniques PVD telles que l'évaporation thermique, le dépôt par pulvérisation cathodique et le placage ionique, où le matériau de revêtement est soit chauffé jusqu'à ce qu'il se vaporise, soit pulvérisé à partir d'une cible, soit plaqué à l'aide de particules ionisées, selon le cas.
Les applications des revêtements PVD sont diverses, allant de la protection contre l'usure (par exemple, les revêtements TiN) à l'amélioration de l'apparence des produits et de leur fonctionnalité dans diverses industries. Les utilisations les plus courantes sont les circuits électroniques, l'optique, les pales de turbines à gaz et les machines-outils. La polyvalence des revêtements PVD réside dans leur capacité à être combinés avec des couches réduisant le frottement, leurs structures de couches variables (nanostructures, multicouches, monocouches) et leur excellente adhérence aux substrats, garantissant une très bonne précision des dimensions et des contours sans affecter la microstructure du matériau du substrat.
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