Les inconvénients de la pulvérisation par faisceau d'ions (IBS) sont principalement liés à ses limites en matière de dépôt uniforme sur de grandes surfaces, à la complexité élevée de l'équipement et aux coûts d'exploitation, ainsi qu'aux difficultés d'intégration du processus pour une structuration précise du film.
1. Zone cible limitée et faible vitesse de dépôt :
La pulvérisation par faisceau d'ions se caractérise par une zone cible relativement petite pour le bombardement. Cette limitation affecte directement la vitesse de dépôt, qui est généralement inférieure à celle des autres techniques de dépôt. La petite zone cible signifie que pour les grandes surfaces, il est difficile d'obtenir une épaisseur de film uniforme. Même avec des progrès tels que la pulvérisation à double faisceau d'ions, le problème de la zone cible insuffisante persiste, entraînant une non-uniformité et une faible productivité.2. Complexité et coûts d'exploitation élevés :
L'équipement utilisé pour la pulvérisation par faisceau d'ions est particulièrement complexe. Cette complexité augmente non seulement l'investissement initial nécessaire à la mise en place du système, mais aussi les coûts d'exploitation. Les exigences complexes en matière d'installation et de maintenance peuvent faire de l'IBS une option économiquement moins viable pour de nombreuses applications, en particulier par rapport à des méthodes de dépôt plus simples et plus rentables.
3. Difficulté d'intégration du processus pour une structuration précise du film :
L'IBS se heurte à des difficultés lorsqu'il s'agit d'intégrer des procédés tels que le lift-off pour structurer le film. La nature diffuse du processus de pulvérisation rend difficile l'obtention d'une ombre complète, ce qui est essentiel pour limiter le dépôt d'atomes à des zones spécifiques. Cette incapacité à contrôler totalement l'endroit où les atomes se déposent peut entraîner des problèmes de contamination et des difficultés à obtenir des films précis et structurés. En outre, le contrôle actif de la croissance couche par couche est plus difficile dans l'IBS que dans des techniques telles que le dépôt par laser pulsé, où le rôle des ions pulvérisés et respultés est plus facile à gérer.
4. Inclusion d'impuretés :
