En nanotechnologie, le dépôt désigne le processus de création de couches minces ou épaisses d'une substance sur une surface solide, atome par atome ou molécule par molécule. Ce processus aboutit à un revêtement qui modifie les propriétés de la surface du substrat, en fonction de l'application envisagée. L'épaisseur de ces couches peut varier d'un seul atome (nanomètre) à plusieurs millimètres, en fonction de la méthode de dépôt et du matériau utilisé.
Méthodes de dépôt :
Les techniques de dépôt sont très variées et comprennent des méthodes telles que la pulvérisation, le revêtement par centrifugation, le placage et le dépôt sous vide. Le dépôt sous vide, en particulier, a des applications importantes en nanotechnologie en raison de sa capacité à produire des couches minces uniformes à l'échelle atomique. Cette méthode comprend le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), qui diffèrent en fonction de la source de la vapeur (physique pour le PVD et chimique pour le CVD).Dépôt sous vide en nanotechnologie :
Le dépôt sous vide, en particulier le dépôt en phase vapeur, a joué un rôle déterminant dans la croissance des nanofils et des nanobelts. Le processus consiste généralement à sublimer les matériaux sources sous forme de poudre à des températures élevées. Des poudres d'oxyde de haute pureté sont couramment utilisées, et des gradients de température sont obtenus en faisant couler de l'eau de refroidissement sur l'enceinte par étapes. Cette méthode permet un contrôle précis de l'épaisseur et de l'uniformité des couches, ce qui est crucial pour les applications à l'échelle nanométrique.
Technologies de dépôt de couches minces :
Le dépôt de couches minces est une technologie essentielle pour la fabrication de circuits intégrés et joue un rôle de plus en plus important dans les nanotechnologies. Ce processus consiste à appliquer une fine couche sur une surface en convertissant le matériau de revêtement à partir d'une vapeur ou d'un état dissous à l'aide de diverses techniques telles que l'électricité, la chaleur élevée, les réactions chimiques ou l'évaporation. L'un des types les plus anciens et les plus courants de dépôt en couche mince est la galvanoplastie, où un objet cible est immergé dans un bain chimique contenant des atomes de métal dissous, et où un courant électrique provoque le dépôt de ces atomes sur la cible.
