La méthode chimique de dépôt de couches minces est appelée dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Dans la méthode CVD, un substrat est placé dans une chambre à vide et deux précurseurs chimiques sont chauffés, ce qui provoque leur vaporisation. Lorsque ces précurseurs vaporisés se rencontrent à la surface du substrat, une réaction chimique se produit, entraînant la formation d'un revêtement en couche mince. Le dépôt en phase vapeur est une technique largement utilisée pour créer des couches minces de haute performance présentant des propriétés matérielles spécifiques. Elle est couramment utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs et dans d'autres industries où un contrôle précis de la composition et de l'épaisseur du film est nécessaire.
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