La pression maximale d'une pompe à diffusion est généralement comprise entre 10-2 et 10-10 Torr. Cette plage est déterminée par la capacité de la pompe à produire des niveaux de vide élevés, ce qui est crucial pour diverses applications industrielles telles que la microscopie à faisceau d'électrons, le dépôt sous vide, les revêtements et les fours sous vide.
La pompe à diffusion fonctionne selon un principe simple, sans pièces mobiles, ce qui la rend durable et fiable. Elle est conçue pour fonctionner en conjonction avec une pompe de maintien qui maintient la pression intérieure pendant les modes de fonctionnement à vide. Lorsque la pompe à diffusion est opérationnelle, la vanne de la pompe de maintien est isolée, et une pompe mécanique et un ventilateur font office de pompe d'appoint.
Pour les clients qui n'ont pas besoin de pressions extrêmement basses dans le système, un système à deux étages peut être utilisé à la place d'un système à trois étages comprenant une pompe de diffusion. Dans un système à deux étages, le niveau de pression peut être porté de la pression atmosphérique à 4,5 x 10-2 Torr, par opposition aux 8,0 x 10-6 Torr obtenus avec un four à pompe à diffusion. Cette flexibilité dans la gestion de la pression permet d'adapter les pompes à diffusion aux besoins industriels spécifiques, en garantissant des performances et une efficacité optimales.
Découvrez la précision et la fiabilité que les pompes à diffusion de KINTEK SOLUTION apportent à votre laboratoire et à vos processus industriels. Grâce à nos pompes avancées conçues pour des niveaux de vide élevés, bénéficiez de performances supérieures en microscopie à faisceau d'électrons, en dépôt sous vide, etc. Adaptez votre système grâce à nos options de pompes polyvalentes à deux ou trois étages pour répondre à vos besoins précis en matière de gestion de la pression. Contactez-nous dès aujourd'hui pour élever votre technologie du vide à de nouveaux sommets !
