Matériel de laboratoire
Cible de pulvérisation d'hafnium (HF) de grande pureté/poudre/fil/bloc/granule
Numéro d'article : LM-HF
Le prix varie en fonction de specs and customizations
- Formule chimique
- Hf
- Pureté
- 2N5-3N5
- Forme
- disques / fil / bloc / poudre / plaques / cibles colonnes / cible pas à pas / sur mesure
Livraison:
Contactez-nous pour obtenir les détails d'expédition. Profitez-en On-time Dispatch Guarantee.
Demandez votre devis personnalisé 👋
Obtenez votre devis maintenant! Leave a Message Obtenir un devis rapidement Via WhatsappNous proposons des matériaux Hafnium (Hf) pour une utilisation en laboratoire à des prix compétitifs. Notre expertise réside dans la production et la personnalisation de matériaux Hafnium (Hf) pour répondre à vos besoins spécifiques, y compris diverses puretés, formes et tailles.
Nous fournissons une gamme variée de spécifications et de tailles pour les cibles de pulvérisation (circulaires, carrées, tubulaires, irrégulières), les matériaux de revêtement, les cylindres, les cônes, les particules, les feuilles, les poudres, les poudres d'impression 3D, les poudres nanométriques, les fils machine, les lingots, les blocs et plus.
Détails
À propos de Hafnium (Hf)
L'hafnium est un élément relativement rare avec des utilisations techniques limitées. Son application la plus courante est comme barre de contrôle nucléaire en raison de sa capacité à absorber les neutrons. Le hafnium est également utilisé dans la production de divers alliages, notamment le fer, le titane, le niobium et le tantale.
Les alliages à base d'hafnium remplacent le polysilicium comme principal matériau de grille dans les transistors à effet de champ métal-oxyde-semi-conducteur (MOSFET). Ce remplacement a permis le développement de portes MOSFET inférieures à 10 angströms. Des recherches récentes se sont concentrées sur le développement de matériaux à k élevé qui peuvent fonctionner comme une barrière ou une grille diélectrique avec une fuite moindre.
L'hafnium est disponible sous diverses formes, y compris le métal et les composés avec différents niveaux de pureté allant de la qualité ACS à la pureté ultra-élevée. Les formes élémentaires ou métalliques d'hafnium comprennent les pastilles, les tiges, les fils et les granulés à des fins de matière source d'évaporation. Les nanomatériaux d'hafnium offrent une surface ultra-élevée pour la recherche en nanotechnologie.
L'oxyde d'hafnium est disponible sous forme de poudre et de pastilles denses pour diverses utilisations telles que le revêtement optique et les applications de couches minces. L'hafnium est également disponible sous des formes solubles telles que le chlorure, le nitrate et l'acétate, et sous des formes insolubles telles que les fluorures. Ces composés peuvent être fabriqués sous forme de solutions à des stoechiométries spécifiées.
Contrôle de la qualité des ingrédients
- Analyse de la composition des matières premières
- Grâce à l'utilisation d'équipements tels que l'ICP et le GDMS, la teneur en impuretés métalliques est détectée et analysée pour s'assurer qu'elle répond à la norme de pureté ;
Les impuretés non métalliques sont détectées par des équipements tels que des analyseurs de carbone et de soufre, des analyseurs d'azote et d'oxygène. - Analyse de détection de défauts métallographiques
- Le matériau cible est inspecté à l'aide d'un équipement de détection des défauts pour s'assurer qu'il n'y a pas de défauts ou de trous de retrait à l'intérieur du produit ;
Grâce à des tests métallographiques, la structure granulaire interne du matériau cible est analysée pour s'assurer que les grains sont fins et denses. - Inspection de l'apparence et des dimensions
- Les dimensions du produit sont mesurées à l'aide de micromètres et d'étriers de précision pour assurer la conformité aux dessins ;
L'état de surface et la propreté du produit sont mesurés à l'aide d'un mesureur de propreté de surface.
Tailles des cibles de pulvérisation conventionnelles
- Processus de préparation
- pressage isostatique à chaud, fusion sous vide, etc.
- Forme de la cible de pulvérisation
- cible de pulvérisation plane, cible de pulvérisation à arcs multiples, cible de pulvérisation par étapes, cible de pulvérisation de forme spéciale
- Taille cible de pulvérisation ronde
- Diamètre : 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Épaisseur : 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
La taille peut être personnalisée. - Taille cible de pulvérisation carrée
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, la taille peut être personnalisée
Formas de metal disponibles
Detalles de formas de metal
Fabricamos casi todos los metales enumerados en la tabla periódica en una amplia gama de formas y purezas, así como en tamaños y dimensiones estándar. También podemos producir productos personalizados para cumplir con los requisitos específicos del cliente, como tamaño, forma, área de superficie, composición y más. La siguiente lista proporciona una muestra de los formularios que ofrecemos, pero no es exhaustiva. Si necesita consumibles de laboratorio, contáctenos directamente para solicitar una cotización.
- Formas planas/planares: cartón, película, lámina, microlámina, microlámina, papel, placa, cinta, hoja, tira, cinta, oblea
- Formas preformadas: ánodos, bolas, bandas, barras, botes, pernos, briquetas, cátodos, círculos, bobinas, crisoles, cristales, cubos, tazas, cilindros, discos, electrodos, fibras, filamentos, bridas, rejillas, lentes, mandriles, tuercas , Partes, Prismas, Discos, Anillos, Varillas, Formas, Escudos, Mangas, Resortes, Cuadrados, Objetivos de pulverización catódica, Palos, Tubos, Arandelas, Ventanas, Alambres
- Microtamaños: Perlas, Bits, Cápsulas, Chips, Monedas, Polvo, Copos, Granos, Gránulos, Micropolvo, Agujas, Partículas, Guijarros, Pellets, Alfileres, Píldoras, Polvo, Virutas, Perdigones, Babosas, Esferas, Tabletas
- Macrotamaños: palanquillas, trozos, esquejes, fragmentos, lingotes, terrones, pepitas, piezas, punzones, rocas, desechos, segmentos, virutas
- Porosos y semiporosos: tela, espuma, gasa, nido de abeja, malla, esponja, lana
- Nanoescala: nanopartículas, nanopolvos, nanoláminas, nanotubos, nanobarras, nanoprismas
- Otros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Residuo, Muestras, Especímenes
KinTek se especializa en la fabricación de materiales de pureza ultra alta y alta con un rango de pureza de 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) y, en algunos casos, hasta 99,99999 % (7N). ). Nuestros materiales están disponibles en grados específicos, incluidos los grados UP/UHP, semiconductores, electrónicos, de deposición, de fibra óptica y MBE. Nuestros metales, óxidos y compuestos de alta pureza están diseñados específicamente para cumplir con las rigurosas demandas de las aplicaciones de alta tecnología y son ideales para usar como dopantes y materiales precursores para la deposición de películas delgadas, el crecimiento de cristales de semiconductores y la síntesis de nanomateriales. Estos materiales encuentran uso en microelectrónica avanzada, celdas solares, celdas de combustible, materiales ópticos y otras aplicaciones de vanguardia.
embalaje
Utilizamos envasado al vacío para nuestros materiales de alta pureza, y cada material tiene un embalaje específico adaptado a sus características únicas. Por ejemplo, nuestro objetivo de pulverización catódica Hf está etiquetado y etiquetado externamente para facilitar la identificación y el control de calidad eficientes. Tenemos mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda ocurrir durante el almacenamiento o el transporte.
FAQ
Qu'est-ce que le dépôt physique en phase vapeur (PVD) ?
Qu'est-ce que la cible de pulvérisation?
Que sont les matériaux de haute pureté ?
Qu'est-ce que la pulvérisation magnétron ?
Que sont les métaux de haute pureté ?
Comment sont fabriquées les cibles de pulvérisation ?
Pourquoi la pulvérisation magnétron ?
À quoi servent les métaux de haute pureté ?
A quoi sert la cible de pulvérisation ?
Quels sont les matériaux utilisés dans le dépôt de couches minces ?
Le dépôt de couches minces utilise couramment des métaux, des oxydes et des composés comme matériaux, chacun avec ses avantages et ses inconvénients uniques. Les métaux sont préférés pour leur durabilité et leur facilité de dépôt mais sont relativement coûteux. Les oxydes sont très durables, peuvent résister à des températures élevées et peuvent se déposer à basse température, mais peuvent être cassants et difficiles à travailler. Les composés offrent résistance et durabilité, peuvent être déposés à basse température et adaptés pour présenter des propriétés spécifiques.
Le choix du matériau pour un revêtement en couche mince dépend des exigences de l'application. Les métaux sont idéaux pour la conduction thermique et électrique, tandis que les oxydes sont efficaces pour offrir une protection. Les composés peuvent être adaptés pour répondre à des besoins spécifiques. En fin de compte, le meilleur matériau pour un projet particulier dépendra des besoins spécifiques de l'application.
Que sont les cibles de pulvérisation pour l'électronique ?
Quelles sont les méthodes pour obtenir un dépôt optimal de couches minces ?
Pour obtenir des films minces aux propriétés souhaitables, des cibles de pulvérisation et des matériaux d'évaporation de haute qualité sont essentiels. La qualité de ces matériaux peut être influencée par divers facteurs, tels que la pureté, la granulométrie et l'état de surface.
La pureté des cibles de pulvérisation ou des matériaux d'évaporation joue un rôle crucial, car les impuretés peuvent provoquer des défauts dans le film mince résultant. La taille des grains affecte également la qualité du film mince, des grains plus gros entraînant de mauvaises propriétés du film. De plus, l'état de surface est crucial, car les surfaces rugueuses peuvent entraîner des défauts dans le film.
Pour atteindre des cibles de pulvérisation et des matériaux d'évaporation de la plus haute qualité, il est crucial de sélectionner des matériaux qui possèdent une grande pureté, une petite taille de grain et des surfaces lisses.
Utilisations du dépôt de couches minces
Films minces à base d'oxyde de zinc
Les couches minces de ZnO trouvent des applications dans plusieurs industries telles que la thermique, l'optique, le magnétique et l'électricité, mais leur utilisation principale est dans les revêtements et les dispositifs à semi-conducteurs.
Résistances à couches minces
Les résistances à couches minces sont cruciales pour la technologie moderne et sont utilisées dans les récepteurs radio, les circuits imprimés, les ordinateurs, les appareils à radiofréquence, les moniteurs, les routeurs sans fil, les modules Bluetooth et les récepteurs de téléphones portables.
Couches Minces Magnétiques
Les couches minces magnétiques sont utilisées dans l'électronique, le stockage de données, l'identification par radiofréquence, les dispositifs à micro-ondes, les écrans, les cartes de circuits imprimés et l'optoélectronique en tant que composants clés.
Couches minces optiques
Les revêtements optiques et l'optoélectronique sont des applications standard des couches minces optiques. L'épitaxie par faisceau moléculaire peut produire des dispositifs optoélectroniques à couches minces (semi-conducteurs), où les films épitaxiaux sont déposés un atome à la fois sur le substrat.
Films minces polymères
Les couches minces de polymère sont utilisées dans les puces de mémoire, les cellules solaires et les appareils électroniques. Les techniques de dépôt chimique (CVD) offrent un contrôle précis des revêtements de film polymère, y compris la conformité et l'épaisseur du revêtement.
Batteries à couches minces
Les batteries à couches minces alimentent les appareils électroniques tels que les dispositifs médicaux implantables, et la batterie lithium-ion a considérablement progressé grâce à l'utilisation de couches minces.
Revêtements à couche mince
Les revêtements en couches minces améliorent les caractéristiques chimiques et mécaniques des matériaux cibles dans diverses industries et domaines technologiques. Les revêtements antireflets, les revêtements anti-ultraviolets ou anti-infrarouges, les revêtements anti-rayures et la polarisation des lentilles en sont des exemples courants.
Cellules solaires à couche mince
Les cellules solaires à couches minces sont essentielles à l'industrie de l'énergie solaire, permettant la production d'électricité relativement bon marché et propre. Les systèmes photovoltaïques et l'énergie thermique sont les deux principales technologies applicables.
Quelle est la durée de vie d'une cible de pulvérisation ?
Facteurs et paramètres qui influencent le dépôt de couches minces
Taux de dépôt :
La vitesse à laquelle le film est produit, généralement mesurée en épaisseur divisée par le temps, est cruciale pour sélectionner une technologie adaptée à l'application. Des taux de dépôt modérés sont suffisants pour les films minces, tandis que des taux de dépôt rapides sont nécessaires pour les films épais. Il est important de trouver un équilibre entre la vitesse et le contrôle précis de l'épaisseur du film.
Uniformité:
La consistance du film à travers le substrat est connue sous le nom d'uniformité, qui fait généralement référence à l'épaisseur du film, mais peut également être liée à d'autres propriétés telles que l'indice de réfraction. Il est important d'avoir une bonne compréhension de l'application pour éviter de sous-spécifier ou de sur-spécifier l'uniformité.
Capacité de remplissage :
La capacité de remplissage ou la couverture des étapes fait référence à la façon dont le processus de dépôt couvre la topographie du substrat. La méthode de dépôt utilisée (par exemple, CVD, PVD, IBD ou ALD) a un impact significatif sur la couverture et le remplissage des étapes.
Caractéristiques du film :
Les caractéristiques du film dépendent des exigences de l'application, qui peuvent être classées comme photoniques, optiques, électroniques, mécaniques ou chimiques. La plupart des films doivent satisfaire aux exigences dans plus d'une catégorie.
Température de processus :
Les caractéristiques du film sont considérablement affectées par la température du procédé, qui peut être limitée par l'application.
Dommage:
Chaque technologie de dépôt a le potentiel d'endommager le matériau sur lequel elle est déposée, les éléments plus petits étant plus susceptibles d'être endommagés par le processus. La pollution, le rayonnement UV et le bombardement ionique font partie des sources potentielles de dommages. Il est crucial de comprendre les limites des matériaux et des outils.
4.9
out of
5
Absolutely satisfied with the quality of Hafnium Sputtering Target from KINTEK SOLUTION. The purity level is exceptional and meets our research requirements precisely.
4.7
out of
5
KINTEK's Hafnium Powder has been a game-changer for our lab's nanotechnology research. Its ultra-high surface area has opened up new possibilities for our experiments.
4.8
out of
5
The Hafnium Wire from KINTEK SOLUTION arrived promptly and exceeded our expectations. Its consistent quality has ensured reliable results in our thin-film deposition processes.
4.6
out of
5
KINTEK SOLUTION's Hafnium Block has proven to be an excellent choice for our sputtering applications. Its high density and purity have contributed to the success of our research.
4.8
out of
5
We have been thoroughly impressed with the Hafnium Granules from KINTEK SOLUTION. Their uniform size and purity have enabled us to achieve consistent and precise results in our experiments.
4.9
out of
5
KINTEK SOLUTION's Hafnium Sputtering Target has been an outstanding addition to our laboratory. Its durability has ensured long-lasting performance, saving us both time and resources.
4.7
out of
5
The Hafnium Powder from KINTEK SOLUTION has been instrumental in our groundbreaking research. Its exceptional purity and fine particle size have allowed us to explore new frontiers in materials science.
4.8
out of
5
We highly recommend the Hafnium Wire from KINTEK SOLUTION. Its consistent quality and ease of handling have made it an indispensable tool in our laboratory.
4.6
out of
5
KINTEK SOLUTION's Hafnium Block is an excellent choice for high-temperature applications. Its exceptional thermal conductivity has enabled us to achieve outstanding results in our research.
4.8
out of
5
The Hafnium Granules from KINTEK SOLUTION have been a valuable asset to our laboratory. Their uniform size and purity have contributed to the accuracy and reliability of our experiments.
PDF of LM-HF
TéléchargerCatalogue de Matériel De Laboratoire
TéléchargerCatalogue de Cibles De Pulvérisation
TéléchargerCatalogue de Matériaux De Haute Pureté
TéléchargerCatalogue de Matériaux De Dépôt De Couches Minces
TéléchargerCatalogue de Métaux Purs
TéléchargerRICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team di professionisti ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitate a contattarci!
Produits associés
Cible de pulvérisation de carbure d'hafnium (HfC) / Poudre / Fil / Bloc / Granule
Découvrez nos matériaux en carbure d'hafnium (HfC) de haute qualité adaptés aux besoins uniques de votre laboratoire. Nous proposons différentes tailles et spécifications de cibles de pulvérisation, de matériaux de revêtement, de poudres, etc. Obtenez des prix raisonnables et un excellent service. Commandez maintenant.
Cible de pulvérisation d'oxyde d'hafnium de grande pureté (HfO2)/poudre/fil/bloc/granule
Obtenez des matériaux d'oxyde d'hafnium (HfO2) de haute qualité pour vos besoins de laboratoire à des prix abordables. Nos produits personnalisés sont disponibles en différentes tailles et formes, y compris des cibles de pulvérisation, des revêtements, des poudres, etc.
Cible de pulvérisation de tungstène (W) de grande pureté/poudre/fil/bloc/granule
Trouvez des matériaux en tungstène (W) de haute qualité pour vos besoins de laboratoire à des prix abordables. Nous proposons des puretés, des formes et des tailles personnalisées de cibles de pulvérisation, de matériaux de revêtement, de poudres, etc.
Cible de pulvérisation d'holmium (Ho) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Vous recherchez des matériaux Holmium (Ho) abordables pour votre laboratoire ? Notre gamme fabriquée et personnalisée par des experts comprend des cibles de pulvérisation, des poudres, des feuilles, etc. - tous disponibles dans une variété de tailles et de formes pour répondre à vos besoins spécifiques.
Cible de pulvérisation de zirconium (Zr) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Vous recherchez des matériaux en zirconium de haute qualité pour les besoins de votre laboratoire ? Notre gamme de produits abordables comprend des cibles de pulvérisation, des revêtements, des poudres, etc., adaptés à vos besoins uniques. Contactez-nous aujourd'hui!
Cible de pulvérisation de lanthane (La) de grande pureté/poudre/fil/bloc/granule
Obtenez des matériaux de lanthane (La) de haute qualité à des prix abordables pour vos besoins de laboratoire. Choisissez parmi notre large gamme de puretés, de formes et de tailles sur mesure pour répondre à vos besoins spécifiques. Découvrez notre sélection de cibles de pulvérisation, de matériaux de revêtement, de poudres, de fils machine et bien plus encore.
Cible de pulvérisation de zinc (Zn) de grande pureté/poudre/fil/bloc/granule
Trouvez des matériaux en zinc (Zn) de haute qualité pour une utilisation en laboratoire à des prix abordables. Nos experts produisent et personnalisent des matériaux de différentes puretés, formes et tailles pour répondre à vos besoins. Parcourez notre gamme de cibles de pulvérisation, de matériaux de revêtement et plus encore.
Entretoise hexagonale en nitrure de bore (HBN) - Profil de came et divers types d'entretoises
Les joints hexagonaux en nitrure de bore (HBN) sont fabriqués à partir d'ébauches en nitrure de bore pressées à chaud. Propriétés mécaniques similaires au graphite, mais avec une excellente résistance électrique.
Cible de pulvérisation de niobium (Nb) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Vous recherchez des matériaux Niobium personnalisés pour une utilisation en laboratoire ? Nos experts proposent des solutions sur mesure avec différentes puretés, formes et tailles à des prix raisonnables. Découvrez notre large gamme de produits Niobium.
Cible de pulvérisation de tantale (Ta) de grande pureté/poudre/fil/bloc/granule
Découvrez nos matériaux en tantale (Ta) de haute qualité pour une utilisation en laboratoire à des prix abordables. Nous nous adaptons à vos besoins spécifiques avec différentes formes, tailles et puretés. Découvrez notre gamme de cibles de pulvérisation, de matériaux de revêtement, de poudres et bien plus encore.
Anneau hexagonal en céramique de nitrure de bore (HBN)
Les anneaux en céramique de nitrure de bore (BN) sont couramment utilisés dans les applications à haute température telles que les appareils de four, les échangeurs de chaleur et le traitement des semi-conducteurs.
Cible de pulvérisation de titane (Ti) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Achetez des matériaux en titane (Ti) de haute qualité à des prix raisonnables pour une utilisation en laboratoire. Trouvez une large gamme de produits sur mesure pour répondre à vos besoins uniques, notamment des cibles de pulvérisation, des revêtements, des poudres, etc.
Composite céramique-conducteur en nitrure de bore (BN)
En raison des caractéristiques du nitrure de bore lui-même, la constante diélectrique et la perte diélectrique sont très faibles, c'est donc un matériau isolant électrique idéal.
Pièces en céramique de nitrure de bore (BN)
Le nitrure de bore ((BN) est un composé avec un point de fusion élevé, une dureté élevée, une conductivité thermique élevée et une résistivité électrique élevée. Sa structure cristalline est similaire au graphène et plus dure que le diamant.
Cible de pulvérisation d'aluminium (Al) de grande pureté/poudre/fil/bloc/granule
Obtenez des matériaux en aluminium (Al) de haute qualité pour une utilisation en laboratoire à des prix abordables. Nous proposons des solutions personnalisées, notamment des cibles de pulvérisation, des poudres, des feuilles, des lingots et plus encore pour répondre à vos besoins uniques. Commandez maintenant!
Cible de pulvérisation de germanium (Ge) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Obtenez des matériaux en or de haute qualité pour vos besoins de laboratoire à des prix abordables. Nos matériaux en or sur mesure se présentent sous différentes formes, tailles et puretés pour répondre à vos besoins uniques. Découvrez notre gamme de cibles de pulvérisation, de matériaux de revêtement, de feuilles, de poudres et bien plus encore.
Tige en céramique de nitrure de bore (BN)
La tige de nitrure de bore (BN) est la forme cristalline de nitrure de bore la plus solide comme le graphite, qui possède une excellente isolation électrique, une stabilité chimique et des propriétés diélectriques.
Cible de pulvérisation de plomb (Pb) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Vous recherchez des matériaux en plomb (Pb) de haute qualité pour les besoins de votre laboratoire ? Ne cherchez pas plus loin que notre sélection spécialisée d'options personnalisables, y compris les cibles de pulvérisation, les matériaux de revêtement, et plus encore. Contactez-nous aujourd'hui pour des prix compétitifs!
Feuille de céramique en nitrure de silicium (SiC) Céramique d'usinage de précision
La plaque de nitrure de silicium est un matériau céramique couramment utilisé dans l'industrie métallurgique en raison de ses performances uniformes à haute température.
Cible de pulvérisation de nitrure d'aluminium (AlN) / Poudre / Fil / Bloc / Granule
Matériaux de haute qualité en nitrure d'aluminium (AlN) de différentes formes et tailles pour une utilisation en laboratoire à des prix abordables. Découvrez notre gamme de cibles de pulvérisation, de revêtements, de poudres et bien plus encore. Solutions personnalisées disponibles.
Cible de pulvérisation de rhodium (Rh) de haute pureté / poudre / fil / bloc / granule
Obtenez des matériaux Rhodium de haute qualité pour vos besoins de laboratoire à des prix avantageux. Notre équipe d'experts produit et personnalise du rhodium de différentes puretés, formes et tailles pour répondre à vos besoins uniques. Choisissez parmi une large gamme de produits, y compris des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres, etc.
Plaque en céramique de nitrure de bore (BN)
Les plaques en céramique de nitrure de bore (BN) n'utilisent pas d'eau d'aluminium pour mouiller et peuvent fournir une protection complète pour la surface des matériaux qui entrent directement en contact avec l'aluminium fondu, le magnésium, les alliages de zinc et leurs scories.
Tube en céramique de nitrure de bore (BN)
Le nitrure de bore (BN) est connu pour sa stabilité thermique élevée, ses excellentes propriétés d'isolation électrique et ses propriétés lubrifiantes.