MPCVD
Système de réacteur de dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes MPCVD pour laboratoire et croissance de diamants
Numéro d'article : KTMP315
Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations
- Microwave Power
- Fréquence micro-ondes 2450±15MHZ
- Output power
- 1~10 KW réglable en continu
- Microwave leakage
- ≤2MW/cm2
- Output wave guide interface
- WR340, 430 avec bride standard FD-340, 430
- Sample holder
- Diamètre de la table d'échantillons≥70mm, surface utile effective≥64 mm
Livraison:
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MPCVD signifie dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes. Il permet de cultiver des films de diamant de qualité en laboratoire en utilisant du gaz carboné et du plasma micro-ondes.
Système MPCVD
La MPCVD est un système de dépôt de couches minces sur un substrat utilisant une chambre à vide, un générateur de micro-ondes et un système d'alimentation en gaz. Un plasma est généré à l'intérieur de la chambre par un magnétron ou un klystron générant des micro-ondes à 2,45 GHz. Le système d'alimentation en gaz est équipé de MFC calibrés en sccm pour contrôler le débit de gaz. La température du substrat est contrôlée par le plasma et mesurée par un thermocouple. Le plasma chauffe le substrat et la température est surveillée pendant le dépôt.
Applications
La MPCVD promet de produire des diamants de grande taille et de haute qualité à faible coût.
Les propriétés uniques du diamant, telles que sa dureté, sa rigidité, sa conductivité thermique élevée, sa faible dilatation thermique, sa résistance aux radiations et son inertie chimique, en font un matériau précieux. Cependant, le coût élevé, la taille limitée et la difficulté à contrôler les impuretés des diamants naturels et synthétiques haute pression, haute température ont limité leurs applications.
La MPCVD est l'équipement principal pour la croissance de pierres précieuses et de films de diamant, qui peuvent être monocristallins ou polycristallins. L'industrie des semi-conducteurs utilise largement la croissance de films de diamant pour les substrats de diamant de grande taille, ainsi que l'industrie des outils de coupe ou de perçage de diamant.
Comparée à la méthode HPHT pour les diamants cultivés en laboratoire, la méthode CVD par micro-ondes offre des avantages pour la croissance de diamants de grande taille à moindre coût, ce qui en fait une solution idéale pour les diamants semi-conducteurs, la croissance de diamants optiques et le marché des diamants de joaillerie de grande taille.
Avantages de la MPCVD
La MPCVD est une méthode de synthèse de diamants présentant des avantages par rapport à la HFCVD et à la DC-PJ CVD. Elle évite la contamination et permet l'utilisation de plusieurs gaz. Elle offre un réglage de puissance micro-ondes doux et un contrôle stable de la température, évitant la perte de cristaux germes. La MPCVD est prometteuse pour les applications industrielles grâce à une zone de plasma large et stable.
La MPCVD produit des diamants plus purs en utilisant moins d'énergie que la HPHT. Elle permet également la production de diamants plus grands.
Avantages de notre système MPCVD
Nous sommes profondément impliqués dans l'industrie depuis de nombreuses années, et par conséquent, nous avons une vaste clientèle qui fait confiance à nos équipements et les utilise. Notre équipement MPCVD fonctionne de manière stable depuis plus de 40 000 heures, démontrant une stabilité, une fiabilité, une répétabilité et une rentabilité exceptionnelles. Les avantages supplémentaires de notre système MPCVD comprennent :
- Zone de croissance de substrat de 3 pouces, charge par lot jusqu'à 45 diamants
- Puissance de sortie micro-ondes réglable de 1 à 10 kW pour une consommation d'électricité réduite
- Équipe de recherche riche en expérience avec support de recettes de croissance de diamants de pointe
- Programme de support technique exclusif pour les équipes sans expérience en croissance de diamants
En tirant parti de notre technologie avancée accumulée, nous avons mis en œuvre plusieurs cycles de mises à niveau et d'améliorations de notre système MPCVD, ce qui a entraîné une efficacité considérablement améliorée et des coûts d'équipement réduits. Par conséquent, notre équipement MPCVD est à la pointe des avancées technologiques et proposé à un prix compétitif. Bienvenue à nous consulter.
Processus de fonctionnement
La machine MPCVD contrôle le débit de chaque voie de gaz et la pression de la cavité tout en introduisant les gaz réactifs (tels que CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) dans la cavité sous une pression spécifique. Après stabilisation du flux d'air, le générateur de micro-ondes à état solide de 6 kW génère des micro-ondes qui sont ensuite introduites dans la cavité via le guide d'ondes.
Le gaz de réaction se transforme en état de plasma sous le champ micro-ondes, formant une boule de plasma qui flotte au-dessus du substrat de diamant. La température élevée du plasma chauffe le substrat à une température spécifique. L'excès de chaleur produit dans la cavité est dissipé par l'unité de refroidissement par eau.
Pour garantir des conditions de croissance optimales pendant le processus de croissance de diamant monocristallin par MPCVD, nous ajustons des facteurs tels que la puissance, la composition de la source de gaz et la pression de la cavité. De plus, comme la boule de plasma n'entre pas en contact avec la paroi de la cavité, le processus de croissance du diamant est exempt d'impuretés, améliorant ainsi la qualité du diamant.
Détails et pièces

Système micro-ondes

Chambre de réaction

Système de débit de gaz

Système de vide et de capteurs
Spécifications techniques
| Système micro-ondes |
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| Chambre de réaction |
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| Porte-échantillon |
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| Système de débit de gaz |
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| Système de refroidissement |
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| Capteur de température |
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| Système de contrôle |
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| Fonction optionnelle |
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Avertissements
La sécurité des opérateurs est la question la plus importante ! Veuillez faire fonctionner l'équipement avec des précautions. Travailler avec des gaz inflammables, explosifs ou toxiques est très dangereux, les opérateurs doivent prendre toutes les précautions nécessaires avant de démarrer le équipement. Travailler en pression positive à l’intérieur des réacteurs ou des chambres est dangereux, l'opérateur doit suivre strictement les procédures de sécurité. Supplémentaire des précautions doivent également être prises lors de l'utilisation de matériaux réactifs à l'air, surtout sous vide. Une fuite peut aspirer de l'air dans l'appareil et provoquer un une réaction violente se produit.
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FAQ
Qu'est-ce Qu'une Machine à Diamant CVD?
Quels Types De Machines De Croissance De Diamants Sont Disponibles ?
Quels Sont Les Avantages Des Diamants Cultivés En Laboratoire ?
Quel Est Le Principe De Base Du CVD ?
Quel Est Le Prix De La Machine De Culture CVD ?
Quels Sont Les Différents Types De Méthode CVD ?
Fiche Technique du Produit
Système de réacteur de dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes MPCVD pour laboratoire et croissance de diamants
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