Pour nettoyer une cible de pulvérisation, vous pouvez suivre les étapes ci-dessous :
1. Nettoyez la cible avec un chiffon doux et non pelucheux imbibé d'acétone. Cela permet d'éliminer la poussière ou la saleté éventuellement présente sur la surface de la cible.
2. Nettoyer avec de l'alcool. Utilisez un chiffon propre imbibé d'alcool pour nettoyer davantage la cible et éliminer les contaminants restants.
3. Nettoyer avec de l'eau déminéralisée. Rincer la cible avec de l'eau désionisée pour s'assurer que toutes les traces d'acétone et d'alcool ont été éliminées.
4. Sécher la cible. Après le nettoyage à l'eau déminéralisée, placez la cible dans un four et séchez-la à une température de 100 ℃ pendant 30 minutes. Cela permettra de s'assurer que la cible est complètement sèche avant toute autre utilisation.
Outre le processus de nettoyage, certaines précautions doivent être prises lors de l'utilisation de cibles de pulvérisation cathodique :
1. Préparation de la pulvérisation : Il est important de maintenir la chambre à vide et le système de pulvérisation propres. Tout résidu ou contaminant peut augmenter le risque de défaillance du film. Nettoyez les chambres de pulvérisation, les pistolets de pulvérisation et les cibles de pulvérisation afin d'éviter les courts-circuits du système, les arcs électriques de la cible et la formation de surfaces rugueuses.
2. Installation de la cible : Lors de l'installation de la cible, assurez une bonne connexion thermique entre la cible et la paroi stabilisatrice du pistolet de pulvérisation. Si la douelle de refroidissement ou la plaque d'appui est déformée, la cible peut se fissurer ou se plier, ce qui affecte la conductivité thermique et endommage la cible.
3. Optimisation de l'utilisation de la cible : Dans les systèmes de pulvérisation, la cible est un morceau solide de matériau qui sera pulvérisé pour le revêtement de couches minces. Veillez à ce que la cible soit suffisamment grande pour éviter la pulvérisation involontaire d'autres composants. Faites attention aux zones de la surface de la cible où l'effet de pulvérisation a été prédominant, connues sous le nom de pistes de course, car il peut être nécessaire de les traiter ou de les remplacer.
4. Cible de pulvérisation du silicium : Si vous travaillez avec une cible de pulvérisation du silicium, il est important de choisir une cible fabriquée à l'aide de procédés et de méthodes appropriés. Il peut s'agir d'un dépôt électrolytique, d'une pulvérisation cathodique ou d'un dépôt en phase vapeur. En outre, des processus de nettoyage et de gravure peuvent être nécessaires pour obtenir les conditions de surface souhaitées.
En suivant ces étapes et en prenant des précautions, vous pouvez nettoyer et utiliser efficacement les cibles de pulvérisation dans votre processus de pulvérisation.
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