Le revêtement PVD, ou revêtement par dépôt physique en phase vapeur, est un procédé qui consiste à déposer une fine couche de matériau sur la surface d'un substrat.
Le matériau est vaporisé puis déposé sur le substrat dans une chambre à vide.
Cela permet d'obtenir une couche fine et uniforme.
Les 5 étapes clés expliquées
1. Nettoyage du substrat
Le substrat est soumis à un processus de nettoyage afin d'éliminer toute saleté, tout débris ou tout contaminant.
Diverses méthodes de nettoyage, telles que le nettoyage mécanique ou chimique, peuvent être employées.
2. Prétraitement
Le substrat subit un prétraitement pour améliorer l'adhérence du revêtement.
Des techniques telles que l'anodisation ou la gravure au plasma peuvent être utilisées pour créer une surface rugueuse sur le substrat.
3. Dépôt sous vide
Le substrat est prêt pour le revêtement PVD dans une chambre de dépôt sous vide.
Le matériau cible, qui formera le revêtement, est chauffé jusqu'à ce qu'il se vaporise.
Le matériau vaporisé est ensuite déposé sur la surface du substrat.
4. Formation du revêtement
Le processus forme un film mince de quelques nanomètres à quelques micromètres d'épaisseur.
Le processus de dépôt sous vide garantit que le revêtement PVD est exempt d'impuretés.
5. Avantages du revêtement PVD
Le revêtement PVD offre des améliorations significatives en termes de dureté, de résistance à la corrosion, de réduction de l'usure et d'aspect esthétique.
Le processus comprend des étapes de nettoyage et de prétraitement avant que le revêtement PVD proprement dit n'ait lieu dans une chambre de dépôt sous vide.
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