La tension utilisée dans la pulvérisation à courant continu est généralement comprise entre 2 000 et 5 000 volts. Cette tension est appliquée entre le matériau cible et le substrat, la cible jouant le rôle de cathode et le substrat celui d'anode. La haute tension ionise le gaz inerte, généralement de l'argon, créant un plasma qui bombarde le matériau cible, provoquant l'éjection des atomes et leur dépôt sur le substrat.
Explication détaillée :
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Application de la tension :
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Dans la pulvérisation cathodique, une tension continue est appliquée entre la cible (cathode) et le substrat (anode). Cette tension est essentielle car elle détermine l'énergie des ions argon, ce qui affecte la vitesse et la qualité du dépôt. La tension est généralement comprise entre 2 000 et 5 000 volts, ce qui garantit une énergie suffisante pour un bombardement ionique efficace.Ionisation et formation du plasma :
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La tension appliquée ionise le gaz argon introduit dans la chambre à vide. L'ionisation consiste à arracher des électrons aux atomes d'argon, créant ainsi des ions d'argon chargés positivement. Ce processus forme un plasma, un état de la matière dans lequel les électrons sont séparés de leurs atomes parents. Le plasma est essentiel pour le processus de pulvérisation car il contient les ions énergétiques qui bombarderont la cible.
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Bombardement et dépôt :
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Les ions argon ionisés, accélérés par le champ électrique, entrent en collision avec le matériau cible. Ces collisions délogent les atomes de la surface de la cible, un processus connu sous le nom de pulvérisation cathodique. Les atomes éjectés traversent ensuite la chambre et se déposent sur le substrat, formant un film mince. La tension appliquée doit être suffisamment élevée pour fournir aux ions l'énergie nécessaire pour vaincre les forces de liaison du matériau cible, assurant ainsi une pulvérisation efficace.Adéquation et limites des matériaux :
La pulvérisation cathodique est principalement utilisée pour déposer des matériaux conducteurs. La tension appliquée repose sur le flux d'électrons, ce qui n'est possible qu'avec des cibles conductrices. Les matériaux non conducteurs ne peuvent pas être pulvérisés efficacement en utilisant des méthodes à courant continu en raison de l'impossibilité de maintenir un flux continu d'électrons.
