Les catalyseurs utilisés dans les techniques PVD (Physical Vapor Deposition) et CVD (Chemical Vapor Deposition) sont le cobalt, le fer, le nickel et leurs alliages. Ces catalyseurs sont couramment utilisés dans la production de nanotubes de carbone par les méthodes de dépôt en phase vapeur (CVD) [10, 11]. En CVD, différentes voies d'activation peuvent être utilisées, telles que le CVD par torche à plasma, le dépôt chimique en phase vapeur par filament chaud (HFCVD) et le dépôt chimique en phase vapeur par plasma à micro-ondes (MPCVD) [10]. Ces méthodes peuvent être utilisées pour produire des films de diamant de différentes qualités sur divers substrats, en fonction de l'application souhaitée [10].
La technique de dépôt en phase vapeur (PVD) est différente de la technique de dépôt en phase vapeur (CVD) car elle consiste à bombarder des matériaux solides en atomes et à déposer ces atomes sur des substrats, plutôt que d'utiliser des molécules de gaz pour déposer des revêtements solides [29]. Par conséquent, la technique PVD n'utilise généralement pas de catalyseurs de la même manière que la technique CVD.
En résumé, les catalyseurs utilisés dans la technique CVD, y compris les méthodes PVD et CVD, sont le cobalt, le fer, le nickel et leurs alliages. Ces catalyseurs jouent un rôle crucial dans la croissance des nanotubes de carbone et le dépôt de films de diamant de haute qualité.
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