Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est un processus complexe utilisé pour créer des couches minces sur différents substrats.
5 étapes clés de la réaction CVD
1) Introduction des produits chimiques précurseurs
Les produits chimiques précurseurs sont introduits dans le réacteur CVD.
Ces produits chimiques sont les matériaux de départ qui réagiront pour former la couche mince souhaitée.
2) Transport des molécules précurseurs
Une fois dans le réacteur, les molécules de précurseur doivent être transportées jusqu'à la surface du substrat.
Cette opération est généralement réalisée par une combinaison de transport de fluides et de diffusion.
3) Adsorption à la surface du substrat
Les molécules de précurseur qui atteignent la surface du substrat doivent ensuite subir une adsorption.
L'adsorption désigne la fixation de ces molécules à la surface du substrat.
Cette étape est cruciale pour que les réactions ultérieures puissent avoir lieu.
4) Réactions chimiques
Une fois adsorbées, les molécules précurseurs réagissent avec la surface du substrat pour former le film mince souhaité.
Ces réactions peuvent être des réactions homogènes en phase gazeuse ou des réactions hétérogènes qui se produisent sur/à proximité de la surface chauffée du substrat.
5) Désorption des sous-produits
Au cours des réactions chimiques, des molécules de sous-produits sont formées.
Ces sous-produits doivent être désorbés de la surface du substrat pour faire de la place à d'autres molécules précurseurs.
La désorption fait référence à la libération de ces molécules dans la phase gazeuse.
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