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Cible de pulvérisation d'oxyde d'aluminium de grande pureté (Al2O3)/poudre/fil/bloc/granule

Matériel de laboratoire

Cible de pulvérisation d'oxyde d'aluminium de grande pureté (Al2O3)/poudre/fil/bloc/granule

Numéro d'article : LM-Al2O3

Le prix varie en fonction de specs and customizations


Formule chimique
Al2O3
Pureté
3n
Forme
disques / fil / bloc / poudre / plaques / cibles colonnes / cible pas à pas / sur mesure
ISO & CE icon

Livraison:

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Nous proposons des matériaux en oxyde d'aluminium (Al2O3) à des prix abordables pour une utilisation en laboratoire. Notre spécialité est la production et la personnalisation de matériaux en oxyde d'aluminium (Al2O3) de différentes puretés, formes et tailles pour répondre à vos besoins spécifiques.

Nous proposons une large sélection de spécifications et de tailles pour différents produits, y compris des cibles de pulvérisation (circulaires, carrées, tubulaires, irrégulières), des matériaux de revêtement, des cylindres, des cônes, des particules, des feuilles, des poudres, des poudres d'impression 3D, des poudres nanométriques, des fils machine, des lingots , et blocs, entre autres.

Détails

Cible de pulvérisation d
Cible de pulvérisation d'oxyde d'aluminium (Al2O3)
Cible de pulvérisation d
Cible de pulvérisation d'oxyde d'aluminium (Al2O3)
Cible de pulvérisation d
Cible de pulvérisation d'oxyde d'aluminium (Al2O3)
Particules d
Particules d'oxyde d'aluminium (Al2O3)
Particules d
Particules d'oxyde d'aluminium (Al2O3)
Particules d
Particules d'oxyde d'aluminium (Al2O3)

À propos de l'oxyde d'aluminium (Al2O3)

L'oxyde d'aluminium, également connu sous le nom d'alumine, est une source d'aluminium thermiquement stable et hautement insoluble. Ses propriétés uniques le rendent adapté à diverses applications dans le verre, l'optique et la céramique.

L'une des caractéristiques distinctives de l'oxyde d'aluminium est sa conductivité thermique élevée, bien qu'il soit un isolant électrique. La forme la plus courante d'alumine cristalline est appelée corindon.

L'oxyde d'aluminium est disponible en différentes qualités, telles que activée, super activée, acide, basique et neutre. Il est également proposé sous diverses formes pour des applications spécifiques, telles que la qualité flash, la CCM, le nettoyage de la biomasse, la décoloration, l'analyse des dioxines, l'élimination des PCB, l'élimination des pyrogènes et les pores larges pour la biotechnologie.

Alors que les composés d'oxyde ne sont pas conducteurs de l'électricité, certains oxydes structurés en pérovskite sont électroniquement conducteurs et sont utilisés dans la cathode des piles à combustible à oxyde solide et des systèmes de génération d'oxygène. Ce sont des composés qui contiennent au moins un anion oxygène et un cation métallique, et sont généralement insolubles dans les solutions aqueuses.

Les composés d'oxydes métalliques sont des anhydrides basiques qui peuvent réagir avec des acides et des agents réducteurs forts dans des réactions redox. L'oxyde d'aluminium activé de qualité chromatographique est utilisé dans l'éclairage, la chromatographie photographique et diverses techniques de séparation de la chromatographie.

L'oxyde d'aluminium est facilement disponible dans la plupart des volumes, avec des formes de haute pureté, submicroniques et nanopoudres disponibles pour examen. Il est également proposé sous forme de granulés, de morceaux, de poudre, de cibles de pulvérisation, de comprimés et de nanopoudre. Sa stabilité et ses propriétés uniques le rendent utile dans une variété d'industries, de la production de bols en argile à l'électronique de pointe et aux composants structurels légers dans les applications aérospatiales et électrochimiques, telles que les piles à combustible, dans lesquelles il présente une conductivité ionique.

Contrôle de la qualité des ingrédients

Analyse de la composition des matières premières
Grâce à l'utilisation d'équipements tels que l'ICP et le GDMS, la teneur en impuretés métalliques est détectée et analysée pour s'assurer qu'elle répond à la norme de pureté ;

Les impuretés non métalliques sont détectées par des équipements tels que des analyseurs de carbone et de soufre, des analyseurs d'azote et d'oxygène.
Analyse de détection de défauts métallographiques
Le matériau cible est inspecté à l'aide d'un équipement de détection des défauts pour s'assurer qu'il n'y a pas de défauts ou de trous de retrait à l'intérieur du produit ;

Grâce à des tests métallographiques, la structure granulaire interne du matériau cible est analysée pour s'assurer que les grains sont fins et denses.
Inspection de l'apparence et des dimensions
Les dimensions du produit sont mesurées à l'aide de micromètres et d'étriers de précision pour assurer la conformité aux dessins ;

L'état de surface et la propreté du produit sont mesurés à l'aide d'un mesureur de propreté de surface.

Tailles des cibles de pulvérisation conventionnelles

Processus de préparation
pressage isostatique à chaud, fusion sous vide, etc.
Forme de la cible de pulvérisation
cible de pulvérisation plane, cible de pulvérisation à arcs multiples, cible de pulvérisation par étapes, cible de pulvérisation de forme spéciale
Taille cible de pulvérisation ronde
Diamètre : 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Épaisseur : 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
La taille peut être personnalisée.
Taille cible de pulvérisation carrée
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, la taille peut être personnalisée

Formas de metal disponibles

Detalles de formas de metal

Fabricamos casi todos los metales enumerados en la tabla periódica en una amplia gama de formas y purezas, así como en tamaños y dimensiones estándar. También podemos producir productos personalizados para cumplir con los requisitos específicos del cliente, como tamaño, forma, área de superficie, composición y más. La siguiente lista proporciona una muestra de los formularios que ofrecemos, pero no es exhaustiva. Si necesita consumibles de laboratorio, contáctenos directamente para solicitar una cotización.

  • Formas planas/planares: cartón, película, lámina, microlámina, microlámina, papel, placa, cinta, hoja, tira, cinta, oblea
  • Formas preformadas: ánodos, bolas, bandas, barras, botes, pernos, briquetas, cátodos, círculos, bobinas, crisoles, cristales, cubos, tazas, cilindros, discos, electrodos, fibras, filamentos, bridas, rejillas, lentes, mandriles, tuercas , Partes, Prismas, Discos, Anillos, Varillas, Formas, Escudos, Mangas, Resortes, Cuadrados, Objetivos de pulverización catódica, Palos, Tubos, Arandelas, Ventanas, Alambres
  • Microtamaños: Perlas, Bits, Cápsulas, Chips, Monedas, Polvo, Copos, Granos, Gránulos, Micropolvo, Agujas, Partículas, Guijarros, Pellets, Alfileres, Píldoras, Polvo, Virutas, Perdigones, Babosas, Esferas, Tabletas
  • Macrotamaños: palanquillas, trozos, esquejes, fragmentos, lingotes, terrones, pepitas, piezas, punzones, rocas, desechos, segmentos, virutas
  • Porosos y semiporosos: tela, espuma, gasa, nido de abeja, malla, esponja, lana
  • Nanoescala: nanopartículas, nanopolvos, nanoláminas, nanotubos, nanobarras, nanoprismas
  • Otros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Residuo, Muestras, Especímenes

KinTek se especializa en la fabricación de materiales de pureza ultra alta y alta con un rango de pureza de 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) y, en algunos casos, hasta 99,99999 % (7N). ). Nuestros materiales están disponibles en grados específicos, incluidos los grados UP/UHP, semiconductores, electrónicos, de deposición, de fibra óptica y MBE. Nuestros metales, óxidos y compuestos de alta pureza están diseñados específicamente para cumplir con las rigurosas demandas de las aplicaciones de alta tecnología y son ideales para usar como dopantes y materiales precursores para la deposición de películas delgadas, el crecimiento de cristales de semiconductores y la síntesis de nanomateriales. Estos materiales encuentran uso en microelectrónica avanzada, celdas solares, celdas de combustible, materiales ópticos y otras aplicaciones de vanguardia.

embalaje

Utilizamos envasado al vacío para nuestros materiales de alta pureza, y cada material tiene un embalaje específico adaptado a sus características únicas. Por ejemplo, nuestro objetivo de pulverización catódica Hf está etiquetado y etiquetado externamente para facilitar la identificación y el control de calidad eficientes. Tenemos mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda ocurrir durante el almacenamiento o el transporte.

FAQ

Qu'est-ce que le dépôt physique en phase vapeur (PVD) ?

Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) est une technique de dépôt de couches minces en vaporisant un matériau solide sous vide puis en le déposant sur un substrat. Les revêtements PVD sont très durables, résistants aux rayures et à la corrosion, ce qui les rend idéaux pour une variété d'applications, des cellules solaires aux semi-conducteurs. Le PVD crée également des films minces qui peuvent résister à des températures élevées. Cependant, le PVD peut être coûteux et le coût varie en fonction de la méthode utilisée. Par exemple, l'évaporation est une méthode PVD peu coûteuse, tandis que la pulvérisation par faisceau d'ions est plutôt coûteuse. La pulvérisation magnétron, en revanche, est plus coûteuse mais plus évolutive.

Qu'est-ce que la cible de pulvérisation?

Une cible de pulvérisation est un matériau utilisé dans le processus de dépôt par pulvérisation, qui consiste à briser le matériau cible en minuscules particules qui forment un spray et recouvrent un substrat, tel qu'une plaquette de silicium. Les cibles de pulvérisation sont généralement des éléments métalliques ou des alliages, bien que certaines cibles en céramique soient disponibles. Ils sont disponibles dans une variété de tailles et de formes, certains fabricants créant des cibles segmentées pour les équipements de pulvérisation plus grands. Les cibles de pulvérisation ont une large gamme d'applications dans des domaines tels que la microélectronique, les cellules solaires à couches minces, l'optoélectronique et les revêtements décoratifs en raison de leur capacité à déposer des couches minces avec une grande précision et uniformité.

Que sont les matériaux de haute pureté ?

Les matériaux de haute pureté font référence à des substances exemptes d'impuretés et possédant un haut niveau d'homogénéité chimique. Ces matériaux sont essentiels dans diverses industries, notamment dans le domaine de l'électronique de pointe, où les impuretés peuvent affecter considérablement les performances des appareils. Les matériaux de haute pureté sont obtenus par diverses méthodes, y compris la purification chimique, le dépôt en phase vapeur et le raffinage de zone. Dans la préparation du diamant monocristallin de qualité électronique, par exemple, un gaz de matière première de haute pureté et un système de vide efficace sont nécessaires pour atteindre le niveau de pureté et d'homogénéité souhaité.

Qu'est-ce que la pulvérisation magnétron ?

La pulvérisation magnétron est une technique de revêtement à base de plasma utilisée pour produire des films très denses avec une excellente adhérence, ce qui en fait une méthode polyvalente pour créer des revêtements sur des matériaux qui ont des points de fusion élevés et ne peuvent pas être évaporés. Cette méthode génère un plasma magnétiquement confiné près de la surface d'une cible, où des ions énergétiques chargés positivement entrent en collision avec le matériau cible chargé négativement, provoquant l'éjection ou la "pulvérisation" des atomes. Ces atomes éjectés sont ensuite déposés sur un substrat ou une plaquette pour créer le revêtement souhaité.

Comment sont fabriquées les cibles de pulvérisation ?

Les cibles de pulvérisation sont fabriquées à l'aide de divers procédés de fabrication en fonction des propriétés du matériau cible et de son application. Celles-ci incluent la fusion et le laminage sous vide, le pressage à chaud, le procédé spécial de pressage fritté, le pressage à chaud sous vide et les méthodes de forgeage. La plupart des matériaux cibles de pulvérisation peuvent être fabriqués dans une large gamme de formes et de tailles, les formes circulaires ou rectangulaires étant les plus courantes. Les cibles sont généralement constituées d'éléments métalliques ou d'alliages, mais des cibles en céramique peuvent également être utilisées. Des cibles de pulvérisation composées sont également disponibles, fabriquées à partir d'une variété de composés, notamment des oxydes, des nitrures, des borures, des sulfures, des séléniures, des tellurures, des carbures, des mélanges cristallins et composites.

Pourquoi la pulvérisation magnétron ?

La pulvérisation magnétron est préférée en raison de sa capacité à obtenir une grande précision dans l'épaisseur du film et la densité des revêtements, surpassant les méthodes d'évaporation. Cette technique est particulièrement adaptée à la création de revêtements métalliques ou isolants aux propriétés optiques ou électriques particulières. De plus, les systèmes de pulvérisation magnétron peuvent être configurés avec plusieurs sources de magnétron.

A quoi sert la cible de pulvérisation ?

Les cibles de pulvérisation sont utilisées dans un processus appelé pulvérisation pour déposer des films minces d'un matériau sur un substrat en utilisant des ions pour bombarder la cible. Ces cibles ont une large gamme d'applications dans divers domaines, notamment la microélectronique, les cellules solaires à couches minces, l'optoélectronique et les revêtements décoratifs. Ils permettent le dépôt de couches minces de matériaux sur une variété de substrats avec une grande précision et uniformité, ce qui en fait un outil idéal pour produire des produits de précision. Les cibles de pulvérisation se présentent sous différentes formes et tailles et peuvent être spécialisées pour répondre aux exigences spécifiques de l'application.

Quels sont les matériaux utilisés dans le dépôt de couches minces ?

Le dépôt de couches minces utilise couramment des métaux, des oxydes et des composés comme matériaux, chacun avec ses avantages et ses inconvénients uniques. Les métaux sont préférés pour leur durabilité et leur facilité de dépôt mais sont relativement coûteux. Les oxydes sont très durables, peuvent résister à des températures élevées et peuvent se déposer à basse température, mais peuvent être cassants et difficiles à travailler. Les composés offrent résistance et durabilité, peuvent être déposés à basse température et adaptés pour présenter des propriétés spécifiques.

Le choix du matériau pour un revêtement en couche mince dépend des exigences de l'application. Les métaux sont idéaux pour la conduction thermique et électrique, tandis que les oxydes sont efficaces pour offrir une protection. Les composés peuvent être adaptés pour répondre à des besoins spécifiques. En fin de compte, le meilleur matériau pour un projet particulier dépendra des besoins spécifiques de l'application.

Que sont les cibles de pulvérisation pour l'électronique ?

Les cibles de pulvérisation pour l'électronique sont des disques minces ou des feuilles de matériaux tels que l'aluminium, le cuivre et le titane qui sont utilisés pour déposer des films minces sur des tranches de silicium afin de créer des dispositifs électroniques tels que des transistors, des diodes et des circuits intégrés. Ces cibles sont utilisées dans un processus appelé pulvérisation, dans lequel les atomes du matériau cible sont physiquement éjectés de la surface et déposés sur un substrat en bombardant la cible avec des ions. Les cibles de pulvérisation pour l'électronique sont essentielles dans la production de microélectronique et nécessitent généralement une précision et une uniformité élevées pour garantir des dispositifs de qualité.

Quelles sont les méthodes pour obtenir un dépôt optimal de couches minces ?

Pour obtenir des films minces aux propriétés souhaitables, des cibles de pulvérisation et des matériaux d'évaporation de haute qualité sont essentiels. La qualité de ces matériaux peut être influencée par divers facteurs, tels que la pureté, la granulométrie et l'état de surface.

La pureté des cibles de pulvérisation ou des matériaux d'évaporation joue un rôle crucial, car les impuretés peuvent provoquer des défauts dans le film mince résultant. La taille des grains affecte également la qualité du film mince, des grains plus gros entraînant de mauvaises propriétés du film. De plus, l'état de surface est crucial, car les surfaces rugueuses peuvent entraîner des défauts dans le film.

Pour atteindre des cibles de pulvérisation et des matériaux d'évaporation de la plus haute qualité, il est crucial de sélectionner des matériaux qui possèdent une grande pureté, une petite taille de grain et des surfaces lisses.

Utilisations du dépôt de couches minces

Films minces à base d'oxyde de zinc

Les couches minces de ZnO trouvent des applications dans plusieurs industries telles que la thermique, l'optique, le magnétique et l'électricité, mais leur utilisation principale est dans les revêtements et les dispositifs à semi-conducteurs.

Résistances à couches minces

Les résistances à couches minces sont cruciales pour la technologie moderne et sont utilisées dans les récepteurs radio, les circuits imprimés, les ordinateurs, les appareils à radiofréquence, les moniteurs, les routeurs sans fil, les modules Bluetooth et les récepteurs de téléphones portables.

Couches Minces Magnétiques

Les couches minces magnétiques sont utilisées dans l'électronique, le stockage de données, l'identification par radiofréquence, les dispositifs à micro-ondes, les écrans, les cartes de circuits imprimés et l'optoélectronique en tant que composants clés.

Couches minces optiques

Les revêtements optiques et l'optoélectronique sont des applications standard des couches minces optiques. L'épitaxie par faisceau moléculaire peut produire des dispositifs optoélectroniques à couches minces (semi-conducteurs), où les films épitaxiaux sont déposés un atome à la fois sur le substrat.

Films minces polymères

Les couches minces de polymère sont utilisées dans les puces de mémoire, les cellules solaires et les appareils électroniques. Les techniques de dépôt chimique (CVD) offrent un contrôle précis des revêtements de film polymère, y compris la conformité et l'épaisseur du revêtement.

Batteries à couches minces

Les batteries à couches minces alimentent les appareils électroniques tels que les dispositifs médicaux implantables, et la batterie lithium-ion a considérablement progressé grâce à l'utilisation de couches minces.

Revêtements à couche mince

Les revêtements en couches minces améliorent les caractéristiques chimiques et mécaniques des matériaux cibles dans diverses industries et domaines technologiques. Les revêtements antireflets, les revêtements anti-ultraviolets ou anti-infrarouges, les revêtements anti-rayures et la polarisation des lentilles en sont des exemples courants.

Cellules solaires à couche mince

Les cellules solaires à couches minces sont essentielles à l'industrie de l'énergie solaire, permettant la production d'électricité relativement bon marché et propre. Les systèmes photovoltaïques et l'énergie thermique sont les deux principales technologies applicables.

Quelle est la durée de vie d'une cible de pulvérisation ?

La durée de vie d'une cible de pulvérisation dépend de facteurs tels que la composition du matériau, sa pureté et l'application spécifique pour laquelle elle est utilisée. Généralement, les cibles peuvent durer plusieurs centaines à quelques milliers d'heures de pulvérisation, mais cela peut varier considérablement en fonction des conditions spécifiques de chaque cycle. Une manipulation et un entretien appropriés peuvent également prolonger la durée de vie d'une cible. De plus, l'utilisation de cibles de pulvérisation rotative peut augmenter les durées d'exécution et réduire l'apparition de défauts, ce qui en fait une option plus rentable pour les processus à volume élevé.

Facteurs et paramètres qui influencent le dépôt de couches minces

Taux de dépôt :

La vitesse à laquelle le film est produit, généralement mesurée en épaisseur divisée par le temps, est cruciale pour sélectionner une technologie adaptée à l'application. Des taux de dépôt modérés sont suffisants pour les films minces, tandis que des taux de dépôt rapides sont nécessaires pour les films épais. Il est important de trouver un équilibre entre la vitesse et le contrôle précis de l'épaisseur du film.

Uniformité:

La consistance du film à travers le substrat est connue sous le nom d'uniformité, qui fait généralement référence à l'épaisseur du film, mais peut également être liée à d'autres propriétés telles que l'indice de réfraction. Il est important d'avoir une bonne compréhension de l'application pour éviter de sous-spécifier ou de sur-spécifier l'uniformité.

Capacité de remplissage :

La capacité de remplissage ou la couverture des étapes fait référence à la façon dont le processus de dépôt couvre la topographie du substrat. La méthode de dépôt utilisée (par exemple, CVD, PVD, IBD ou ALD) a un impact significatif sur la couverture et le remplissage des étapes.

Caractéristiques du film :

Les caractéristiques du film dépendent des exigences de l'application, qui peuvent être classées comme photoniques, optiques, électroniques, mécaniques ou chimiques. La plupart des films doivent satisfaire aux exigences dans plus d'une catégorie.

Température de processus :

Les caractéristiques du film sont considérablement affectées par la température du procédé, qui peut être limitée par l'application.

Dommage:

Chaque technologie de dépôt a le potentiel d'endommager le matériau sur lequel elle est déposée, les éléments plus petits étant plus susceptibles d'être endommagés par le processus. La pollution, le rayonnement UV et le bombardement ionique font partie des sources potentielles de dommages. Il est crucial de comprendre les limites des matériaux et des outils.

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Tube de protection en oxyde d'aluminium (Al2O3) - Haute température

Le tube de protection en oxyde d'alumine, également connu sous le nom de tube de corindon résistant aux hautes températures ou tube de protection de thermocouple, est un tube en céramique principalement composé d'alumine (oxyde d'aluminium).

Cible de pulvérisation d'alliage d'yttrium de silicium d'aluminium (AlSiY)/poudre/fil/bloc/granule

Cible de pulvérisation d'alliage d'yttrium de silicium d'aluminium (AlSiY)/poudre/fil/bloc/granule

Trouvez des matériaux AlSiY de haute qualité adaptés aux besoins uniques de votre laboratoire. Notre gamme abordable comprend des cibles de pulvérisation, des poudres, des fils machine, etc. de différentes tailles et formes. Commandez maintenant!

Rondelle en céramique d'oxyde d'aluminium (Al2O3) - Résistante à l'usure

Rondelle en céramique d'oxyde d'aluminium (Al2O3) - Résistante à l'usure

La rondelle en céramique résistante à l'usure en alumine est utilisée pour la dissipation de la chaleur, qui peut remplacer les dissipateurs thermiques en aluminium, avec une résistance à haute température et une conductivité thermique élevée.

Cible de pulvérisation d'oxyde de tungstène de grande pureté (WO3)/poudre/fil/bloc/granule

Cible de pulvérisation d'oxyde de tungstène de grande pureté (WO3)/poudre/fil/bloc/granule

Vous recherchez des matériaux d'oxyde de tungstène (WO3) de haute qualité ? Nos produits de qualité laboratoire sont adaptés à vos besoins spécifiques, avec une gamme de puretés, de formes et de tailles disponibles. Achetez des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement et plus encore.

Cible de pulvérisation de nitrure d'aluminium (AlN) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Cible de pulvérisation de nitrure d'aluminium (AlN) / Poudre / Fil / Bloc / Granule

Matériaux de haute qualité en nitrure d'aluminium (AlN) de différentes formes et tailles pour une utilisation en laboratoire à des prix abordables. Découvrez notre gamme de cibles de pulvérisation, de revêtements, de poudres et bien plus encore. Solutions personnalisées disponibles.

Tube de four en alumine (Al2O3) - Haute température

Tube de four en alumine (Al2O3) - Haute température

Le tube de four en alumine à haute température combine les avantages d'une dureté élevée de l'alumine, d'une bonne inertie chimique et de l'acier, et présente une excellente résistance à l'usure, une résistance aux chocs thermiques et une résistance aux chocs mécaniques.

Cible de pulvérisation d'oxyde de fer de grande pureté (Fe3O4)/poudre/fil/bloc/granule

Cible de pulvérisation d'oxyde de fer de grande pureté (Fe3O4)/poudre/fil/bloc/granule

Obtenez des matériaux d'oxyde de fer (Fe3O4) de différentes puretés, formes et tailles pour une utilisation en laboratoire. Notre gamme comprend des cibles de pulvérisation, des matériaux de revêtement, des poudres, des fils machine, etc. Contactez-nous maintenant.

Cible/poudre/fil/bloc/granule de pulvérisation d'alliage d'aluminium de nickel (NiAl)

Cible/poudre/fil/bloc/granule de pulvérisation d'alliage d'aluminium de nickel (NiAl)

Vous recherchez des matériaux en alliage d'aluminium nickel de haute qualité pour votre laboratoire ? Nos experts produisent et personnalisent les matériaux NiAl pour répondre à vos besoins spécifiques. Trouvez une large gamme de tailles et de spécifications pour les cibles de pulvérisation, les matériaux de revêtement et bien plus encore à des prix abordables.

Pièces de forme spéciale en alumine et zircone Traitement de plaques en céramique sur mesure

Pièces de forme spéciale en alumine et zircone Traitement de plaques en céramique sur mesure

Les céramiques d'alumine ont une bonne conductivité électrique, une bonne résistance mécanique et une bonne résistance aux températures élevées, tandis que les céramiques de zircone sont connues pour leur haute résistance et leur haute ténacité et sont largement utilisées.

Verre sans alcali / boro-aluminosilicate

Verre sans alcali / boro-aluminosilicate

Le verre boroaluminosilicate est très résistant à la dilatation thermique, ce qui le rend adapté aux applications nécessitant une résistance aux changements de température, telles que la verrerie de laboratoire et les ustensiles de cuisine.

Creusets en Alumine (Al2O3) Couverts Analyse Thermique / TGA / DTA

Creusets en Alumine (Al2O3) Couverts Analyse Thermique / TGA / DTA

Les cuves d'analyse thermique TGA/DTA sont en oxyde d'aluminium (corindon ou oxyde d'aluminium). Il peut résister à des températures élevées et convient à l'analyse de matériaux nécessitant des tests à haute température.

Feuille de céramique en nitrure d'aluminium (AlN)

Feuille de céramique en nitrure d'aluminium (AlN)

Le nitrure d'aluminium (AlN) présente les caractéristiques d'une bonne compatibilité avec le silicium. Il n'est pas seulement utilisé comme auxiliaire de frittage ou phase de renforcement pour les céramiques structurelles, mais ses performances dépassent de loin celles de l'alumine.

Vis en céramique d'alumine - Isolation de haute qualité et résistance aux hautes températures

Vis en céramique d'alumine - Isolation de haute qualité et résistance aux hautes températures

Les vis en céramique d'alumine sont des éléments de fixation composés à 99,5% d'alumine, idéales pour les applications extrêmes nécessitant une excellente résistance thermique, une isolation électrique et une résistance chimique.