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Cible de pulvérisation d'oxyde de zirconium de grande pureté (ZrO2)/poudre/fil/bloc/granule

Matériel de laboratoire

Cible de pulvérisation d'oxyde de zirconium de grande pureté (ZrO2)/poudre/fil/bloc/granule

Numéro d'article : LM-ZrO2

Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations


Formule chimique
ZrO2
Pureté
4N
Forme
disques / fil / bloc / poudre / plaques / cibles colonnes / cible pas à pas / sur mesure
ISO & CE icon

Livraison:

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À des prix raisonnables, nous proposons des matériaux en oxyde de zirconium (ZrO2) pour une utilisation en laboratoire. Notre expertise réside dans la production et la personnalisation de matériaux d'oxyde de zirconium (ZrO2) de différentes puretés, formes et tailles pour répondre à vos besoins uniques.

Nous fournissons une gamme variée de spécifications et de tailles pour diverses formes de matériaux d'oxyde de zirconium (ZrO2), tels que des cibles de pulvérisation (circulaires, carrées, tubulaires, irrégulières), des matériaux de revêtement, des cylindres, des cônes, des particules, des feuilles, des poudres, des poudres d'impression 3D , poudres nanométriques, fils machine, lingots et blocs, entre autres.

Détails

Cible de pulvérisation d
Cible de pulvérisation d'oxyde de zirconium (ZrO2)
Cible de pulvérisation d
Cible de pulvérisation d'oxyde de zirconium (ZrO2)
Bloc rond en oxyde de zirconium (ZrO2)
Bloc rond en oxyde de zirconium (ZrO2)
Bloc rond en oxyde de zirconium (ZrO2)
Bloc rond en oxyde de zirconium (ZrO2)
Particules d
Particules d'oxyde de zirconium (ZrO2)
Poudre d
Poudre d'oxyde de zirconium (ZrO2)

À propos de l'oxyde de zirconium (ZrO2)

L'oxyde de zirconium, également connu sous le nom de zircone, est un composé chimique dont la formule chimique est ZrO2. Ce solide cristallin blanc a un point de fusion élevé d'environ 2 700 °C, une densité de 5,89 g/cc et une pression de vapeur de 10-4 Torr à environ 2 200 °C. En raison de ses propriétés mécaniques exceptionnelles, l'oxyde de zirconium est largement utilisé dans la production de céramiques.

La zircone cubique, une pierre précieuse populaire qui ressemble à un diamant, est en fait de l'oxyde de zirconium sous forme cristalline cubique. Il est vendu comme une alternative peu coûteuse aux diamants par les bijoutiers du monde entier.

En plus de son utilisation dans la céramique et les pierres précieuses, l'oxyde de zirconium a des applications importantes dans divers domaines. Il est évaporé sous vide pour les revêtements optiques, les semi-conducteurs et les piles à combustible, entre autres. En conséquence, ce matériau est fréquemment utilisé dans les industries de haute technologie, ce qui en fait un matériau très apprécié des chercheurs et des ingénieurs.

Formas de metal disponibles

Detalles de formas de metal

Fabricamos casi todos los metales enumerados en la tabla periódica en una amplia gama de formas y purezas, así como en tamaños y dimensiones estándar. También podemos producir productos personalizados para cumplir con los requisitos específicos del cliente, como tamaño, forma, área de superficie, composición y más. La siguiente lista proporciona una muestra de los formularios que ofrecemos, pero no es exhaustiva. Si necesita consumibles de laboratorio, contáctenos directamente para solicitar una cotización.

  • Formas planas/planares: cartón, película, lámina, microlámina, microlámina, papel, placa, cinta, hoja, tira, cinta, oblea
  • Formas preformadas: ánodos, bolas, bandas, barras, botes, pernos, briquetas, cátodos, círculos, bobinas, crisoles, cristales, cubos, tazas, cilindros, discos, electrodos, fibras, filamentos, bridas, rejillas, lentes, mandriles, tuercas , Partes, Prismas, Discos, Anillos, Varillas, Formas, Escudos, Mangas, Resortes, Cuadrados, Objetivos de pulverización catódica, Palos, Tubos, Arandelas, Ventanas, Alambres
  • Microtamaños: Perlas, Bits, Cápsulas, Chips, Monedas, Polvo, Copos, Granos, Gránulos, Micropolvo, Agujas, Partículas, Guijarros, Pellets, Alfileres, Píldoras, Polvo, Virutas, Perdigones, Babosas, Esferas, Tabletas
  • Macrotamaños: palanquillas, trozos, esquejes, fragmentos, lingotes, terrones, pepitas, piezas, punzones, rocas, desechos, segmentos, virutas
  • Porosos y semiporosos: tela, espuma, gasa, nido de abeja, malla, esponja, lana
  • Nanoescala: nanopartículas, nanopolvos, nanoláminas, nanotubos, nanobarras, nanoprismas
  • Otros: Concentrado, Tinta, Pasta, Precipitado, Residuo, Muestras, Especímenes

KinTek se especializa en la fabricación de materiales de pureza ultra alta y alta con un rango de pureza de 99,999 % (5N), 99,9999 % (6N), 99,99995 % (6N5) y, en algunos casos, hasta 99,99999 % (7N). ). Nuestros materiales están disponibles en grados específicos, incluidos los grados UP/UHP, semiconductores, electrónicos, de deposición, de fibra óptica y MBE. Nuestros metales, óxidos y compuestos de alta pureza están diseñados específicamente para cumplir con las rigurosas demandas de las aplicaciones de alta tecnología y son ideales para usar como dopantes y materiales precursores para la deposición de películas delgadas, el crecimiento de cristales de semiconductores y la síntesis de nanomateriales. Estos materiales encuentran uso en microelectrónica avanzada, celdas solares, celdas de combustible, materiales ópticos y otras aplicaciones de vanguardia.

embalaje

Utilizamos envasado al vacío para nuestros materiales de alta pureza, y cada material tiene un embalaje específico adaptado a sus características únicas. Por ejemplo, nuestro objetivo de pulverización catódica Hf está etiquetado y etiquetado externamente para facilitar la identificación y el control de calidad eficientes. Tenemos mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda ocurrir durante el almacenamiento o el transporte.

Contrôle de la qualité des ingrédients

Analyse de la composition des matières premières
Grâce à l'utilisation d'équipements tels que l'ICP et le GDMS, la teneur en impuretés métalliques est détectée et analysée pour s'assurer qu'elle répond à la norme de pureté ;

Les impuretés non métalliques sont détectées par des équipements tels que des analyseurs de carbone et de soufre, des analyseurs d'azote et d'oxygène.
Analyse de détection de défauts métallographiques
Le matériau cible est inspecté à l'aide d'un équipement de détection des défauts pour s'assurer qu'il n'y a pas de défauts ou de trous de retrait à l'intérieur du produit ;

Grâce à des tests métallographiques, la structure granulaire interne du matériau cible est analysée pour s'assurer que les grains sont fins et denses.
Inspection de l'apparence et des dimensions
Les dimensions du produit sont mesurées à l'aide de micromètres et d'étriers de précision pour assurer la conformité aux dessins ;

L'état de surface et la propreté du produit sont mesurés à l'aide d'un mesureur de propreté de surface.

Tailles des cibles de pulvérisation conventionnelles

Processus de préparation
pressage isostatique à chaud, fusion sous vide, etc.
Forme de la cible de pulvérisation
cible de pulvérisation plane, cible de pulvérisation à arcs multiples, cible de pulvérisation par étapes, cible de pulvérisation de forme spéciale
Taille cible de pulvérisation ronde
Diamètre : 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Épaisseur : 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
La taille peut être personnalisée.
Taille cible de pulvérisation carrée
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, la taille peut être personnalisée

FAQ

Que sont les métaux de haute pureté ?

Les métaux de haute pureté sont des matériaux à un seul élément avec un minimum d'impuretés, ce qui les rend idéaux pour une utilisation dans la recherche, le développement et la production de technologies de pointe. Ces métaux sont utilisés dans la création de céramiques avancées, de capteurs électroniques, de lentilles et d'optiques de haute précision, de LED, de lasers, de revêtements de barrière thermique, d'écrans plasma, etc. KINTEK propose une gamme variée de métaux de haute pureté et de composés métalliques binaires et ternaires sous diverses formes, compositions, dispersions, tailles de particules et poids pour la recherche et les applications commerciales. Les métaux spéciaux stratégiques sont utilisés dans des applications de haute technologie et peuvent être coûteux en raison de leur traitement élaboré.

Qu'est-ce que la cible de pulvérisation?

Une cible de pulvérisation est un matériau utilisé dans le processus de dépôt par pulvérisation, qui consiste à briser le matériau cible en minuscules particules qui forment un spray et recouvrent un substrat, tel qu'une plaquette de silicium. Les cibles de pulvérisation sont généralement des éléments métalliques ou des alliages, bien que certaines cibles en céramique soient disponibles. Ils sont disponibles dans une variété de tailles et de formes, certains fabricants créant des cibles segmentées pour les équipements de pulvérisation plus grands. Les cibles de pulvérisation ont une large gamme d'applications dans des domaines tels que la microélectronique, les cellules solaires à couches minces, l'optoélectronique et les revêtements décoratifs en raison de leur capacité à déposer des couches minces avec une grande précision et uniformité.

À quoi servent les métaux de haute pureté ?

Les métaux de haute pureté sont utilisés dans diverses technologies de pointe qui nécessitent des propriétés, des performances et une qualité spécifiques. Ils sont utilisés pour créer des éclairages fluorescents, des écrans plasma, des LED, des lentilles et des optiques de haute précision, des capteurs électroniques, des céramiques avancées, des revêtements de barrière thermique, des lasers, etc. Ces métaux sont également utilisés dans la production de matériaux magnétiques, thermoélectriques, luminophores et semi-conducteurs de haute qualité. KINTEK propose un portefeuille diversifié de métaux de haute pureté, de composés métalliques binaires et ternaires, d'alliages magnétiques, d'oxydes métalliques, de nanomatériaux et de précurseurs organométalliques sous diverses formes, compositions, dispersions, tailles et poids de particules pour toutes les applications de recherche et commerciales.

Comment sont fabriquées les cibles de pulvérisation ?

Les cibles de pulvérisation sont fabriquées à l'aide de divers procédés de fabrication en fonction des propriétés du matériau cible et de son application. Celles-ci incluent la fusion et le laminage sous vide, le pressage à chaud, le procédé spécial de pressage fritté, le pressage à chaud sous vide et les méthodes de forgeage. La plupart des matériaux cibles de pulvérisation peuvent être fabriqués dans une large gamme de formes et de tailles, les formes circulaires ou rectangulaires étant les plus courantes. Les cibles sont généralement constituées d'éléments métalliques ou d'alliages, mais des cibles en céramique peuvent également être utilisées. Des cibles de pulvérisation composées sont également disponibles, fabriquées à partir d'une variété de composés, notamment des oxydes, des nitrures, des borures, des sulfures, des séléniures, des tellurures, des carbures, des mélanges cristallins et composites.

A quoi sert la cible de pulvérisation ?

Les cibles de pulvérisation sont utilisées dans un processus appelé pulvérisation pour déposer des films minces d'un matériau sur un substrat en utilisant des ions pour bombarder la cible. Ces cibles ont une large gamme d'applications dans divers domaines, notamment la microélectronique, les cellules solaires à couches minces, l'optoélectronique et les revêtements décoratifs. Ils permettent le dépôt de couches minces de matériaux sur une variété de substrats avec une grande précision et uniformité, ce qui en fait un outil idéal pour produire des produits de précision. Les cibles de pulvérisation se présentent sous différentes formes et tailles et peuvent être spécialisées pour répondre aux exigences spécifiques de l'application.

Que sont les cibles de pulvérisation pour l'électronique ?

Les cibles de pulvérisation pour l'électronique sont des disques minces ou des feuilles de matériaux tels que l'aluminium, le cuivre et le titane qui sont utilisés pour déposer des films minces sur des tranches de silicium afin de créer des dispositifs électroniques tels que des transistors, des diodes et des circuits intégrés. Ces cibles sont utilisées dans un processus appelé pulvérisation, dans lequel les atomes du matériau cible sont physiquement éjectés de la surface et déposés sur un substrat en bombardant la cible avec des ions. Les cibles de pulvérisation pour l'électronique sont essentielles dans la production de microélectronique et nécessitent généralement une précision et une uniformité élevées pour garantir des dispositifs de qualité.

Quelle est la durée de vie d'une cible de pulvérisation ?

La durée de vie d'une cible de pulvérisation dépend de facteurs tels que la composition du matériau, sa pureté et l'application spécifique pour laquelle elle est utilisée. Généralement, les cibles peuvent durer plusieurs centaines à quelques milliers d'heures de pulvérisation, mais cela peut varier considérablement en fonction des conditions spécifiques de chaque cycle. Une manipulation et un entretien appropriés peuvent également prolonger la durée de vie d'une cible. De plus, l'utilisation de cibles de pulvérisation rotative peut augmenter les durées d'exécution et réduire l'apparition de défauts, ce qui en fait une option plus rentable pour les processus à volume élevé.
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4.9

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5

The KINTEK ZrO2 sputtering targets arrived promptly and in excellent condition. The quality is outstanding, and they have significantly enhanced our thin-film deposition process.

Dr. Ezequiel Johnston

4.8

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KINTEK's ZrO2 products are truly impressive. Their purity and consistency have enabled us to achieve exceptional results in our research. Highly recommended!

Dr. Saeeda Khan

4.7

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The ZrO2 sputtering targets from KINTEK are a game-changer for our lab. The deposition rates are remarkable, and the films exhibit superior properties. We're very pleased with this purchase.

Dr. Nicola Dubois

4.9

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5

KINTEK's ZrO2 powders are of exceptional quality. The particle size distribution is narrow, and the purity is outstanding. They have become our go-to source for ZrO2 materials.

Dr. Yash Patel

4.8

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5

We're thrilled with the KINTEK ZrO2 wires. They're incredibly durable and have significantly extended the lifespan of our sputtering system. Highly recommend!

Dr. Maria Garcia

4.7

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5

The ZrO2 blocks from KINTEK are top-notch. They're precisely machined and exhibit exceptional uniformity. Our team is very impressed with the quality.

Dr. Liam Murphy

4.9

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KINTEK's ZrO2 granules are a lifesaver. They're perfect for our fluidized bed reactor, and the results have been phenomenal. Thank you, KINTEK!

Dr. Haruka Yoshida

4.8

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The purity of KINTEK's ZrO2 materials is unmatched. They've enabled us to achieve groundbreaking results in our research on transparent conducting oxides.

Dr. Lucas Silva

4.7

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5

KINTEK's ZrO2 sputtering targets are a testament to their technological prowess. The films we've deposited using these targets exhibit exceptional properties.

Dr. Amina Hussein

4.9

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We're very satisfied with the KINTEK ZrO2 powders. They're highly consistent, and the particle size distribution is perfect for our application. Highly recommended!

Dr. David Cohen

4.8

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The ZrO2 wires from KINTEK are a game-changer for our arc spray system. They've significantly improved the coating quality and adhesion.

Dr. Isabella Rossi

4.7

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The ZrO2 blocks from KINTEK are a great value for money. They're durable, easy to machine, and provide excellent results in our sputtering process.

Dr. Samuel Kim

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