Les couches minces sont déposées à l'aide de différentes techniques, notamment le dépôt physique en phase vapeur (PVD), le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt par couche atomique (ALD). Ces méthodes permettent un contrôle précis de l'épaisseur et de la composition des films, qui sont essentiels pour leurs applications spécifiques.
Dépôt physique en phase vapeur (PVD) :
Le dépôt physique en phase vapeur implique l'évaporation ou la pulvérisation du matériau source, qui se condense ensuite sur le substrat pour former un film mince. Ce procédé comprend des techniques telles que l'évaporation, l'évaporation par faisceau d'électrons et la pulvérisation. Dans le cas de l'évaporation, le matériau est chauffé jusqu'à ce qu'il se transforme en vapeur et se dépose ensuite sur le substrat. L'évaporation par faisceau d'électrons utilise un faisceau d'électrons pour chauffer le matériau, tandis que la pulvérisation cathodique consiste à bombarder un matériau cible avec des ions pour éjecter des atomes qui se déposent ensuite sur le substrat.Dépôt chimique en phase vapeur (CVD) :
Le dépôt chimique en phase vapeur utilise des réactions chimiques pour déposer une fine couche sur un substrat. Le substrat est exposé à des gaz précurseurs qui réagissent et déposent la substance souhaitée. Les méthodes courantes de dépôt en phase vapeur comprennent le dépôt en phase vapeur à basse pression (LPCVD) et le dépôt en phase vapeur assisté par plasma (PECVD). Ces techniques permettent de déposer des matériaux complexes et de contrôler avec précision les propriétés des films.
Dépôt par couche atomique (ALD) :
L'ALD est une méthode très précise qui permet de déposer des films une couche atomique à la fois. Le substrat est exposé alternativement à certains gaz précurseurs dans un processus cyclique. Cette méthode est particulièrement utile pour créer des films uniformes et conformes, même sur des géométries complexes.Applications des films minces :
Les films minces ont un large éventail d'applications, allant de l'amélioration de la durabilité et de la résistance aux rayures des surfaces à la modification de la conductivité électrique ou de la transmission des signaux. Par exemple, le revêtement réfléchissant d'un miroir est un film mince, généralement déposé à l'aide de techniques de pulvérisation cathodique.
