L'épaisseur de la couche de nitruration au plasma peut varier en fonction de divers facteurs tels que le type de matériau traité, la température de nitruration et la durée du traitement.
Dans les références fournies, il est mentionné que l'épaisseur de la couche de diffusion formée par nitruration au plasma est d'environ 80 µm. Cette épaisseur a été observée sur les micrographies de la figure 1.
En outre, il est indiqué que la profondeur de la couche de diffusion dépend également de la température de nitruration, de l'uniformité de la pièce et du temps. Pour une température donnée, la profondeur de la couche augmente approximativement comme la racine carrée du temps. Ceci indique que plus le temps de traitement est long, plus la couche de nitruration peut pénétrer profondément.
En outre, la puissance du plasma ou la densité du courant est mentionnée comme une autre variable du processus qui peut influencer l'épaisseur de la couche composée. La puissance du plasma est fonction de la surface et peut affecter la formation et l'épaisseur de la couche composée.
En outre, il est mentionné que la nitrocarburation au plasma est une alternative à la nitruration au plasma pour obtenir des couches composées particulièrement épaisses. La profondeur de la couche de nitrocarburation peut varier en fonction du matériau utilisé, de la température et de la durée du traitement.
En résumé, l'épaisseur de la couche de nitruration au plasma peut varier en fonction de facteurs tels que le type de matériau, la température de nitruration, la durée du traitement et la puissance du plasma. Toutefois, d'après les références fournies, l'épaisseur de la couche de diffusion formée par la nitruration au plasma est d'environ 80 µm.
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