Four de presse à chaud sous vide
Four de presse à chaud sous vide
Numéro d'article : KT-VHP
Le prix varie en fonction de Spécifications et personnalisations
- Température de travail
- 1500℃ / 2200℃
- Pression de travail
- 10-400T
- Distance de la presse
- 100 à 200 mm
- Pression du vide
- 6x10-3Pa
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Le four de pressage à chaud sous vide est un ensemble complet d'équipements permettant de chauffer et de pressuriser des matériaux sous vide ou sous atmosphère. En fonction des différents matériaux et températures de chauffage, les éléments chauffants peuvent être en graphite, en molybdène, par induction, etc. et la pressurisation à sens unique ou à double sens peut être utilisée pour la pressurisation hydraulique.
Sous haute température et haute pression et sous vide ou atmosphère, les particules solides des matières premières sont liées les unes aux autres, les grains grossissent et les vides (pores) et les joints de grains diminuent progressivement ; par le transfert de matériaux, leur volume total diminue et leur densité augmente, devenant un corps fritté polycristallin compact avec une microstructure spécifique, de sorte que les matériaux peuvent être pressés et formés.
La densité, la dureté et les autres propriétés mécaniques, électroniques et thermiques des matériaux finis peuvent être considérablement améliorées à haute température et sous pression, ainsi que sous vide ou sous atmosphère.
Applications
Le four de pressage à chaud à tubes sous vide est un outil polyvalent et puissant utilisé dans diverses industries pour les processus à haute température. Ce four, capable de fonctionner sous vide ou sous atmosphère contrôlée, est particulièrement adapté aux applications nécessitant un contrôle précis de la température et un environnement propre. Les principaux domaines d'application sont les suivants
- Croissance des cristaux : Idéal pour la synthèse et la croissance de divers types de cristaux, qui sont essentiels dans les industries de l'électronique et des semi-conducteurs.
- Traitement thermique : Utilisé pour le traitement thermique des métaux et des alliages afin d'améliorer leurs propriétés mécaniques, telles que la dureté, la ductilité et la résistance.
- Dépôt de couches minces : Essentiel pour le dépôt de couches minces dans la fabrication d'appareils électroniques, de cellules solaires et de revêtements optiques.
- Recherche en science des matériaux : Largement utilisé dans les laboratoires pour la recherche sur les nouveaux matériaux, y compris les céramiques, les composites et les alliages avancés.
- Métallurgie : Aide à la purification et à l'alliage des métaux, ainsi qu'à la production de matériaux réfractaires.
- Fabrication électronique : Essentiel pour les processus tels que le recuit, le frittage et la production de composants électroniques.
- Industrie chimique : Utilisée pour les réactions chimiques à haute température et la synthèse de produits chimiques dans des atmosphères contrôlées.
- Fabrication du verre : Utile pour la production de verres spéciaux et la modification des propriétés du verre par traitement thermique.
- Production de matériaux spéciaux : Impliquée dans la création de matériaux aux propriétés uniques, tels que ceux utilisés dans l'aérospatiale et la défense.
- Institutions universitaires et de recherche : Un élément essentiel des laboratoires universitaires et des centres de recherche pour la recherche et le développement de matériaux avancés.
Détails et pièces
- Structure à double coque avec enveloppe refroidie à l'eau, la coque intérieure est en acier inoxydable et a été finement polie. Les boîtiers sont en acier au carbone de haute qualité avec traitement antirouille ou en acier inoxydable avec sablage.
- L'élément chauffant adopte un fil de graphite ou de molybdène. Le chauffage peut être monophasé ou triphasé. La conception rationnelle de l'élément chauffant permet d'améliorer l'uniformité de la température dans la cavité.
- Le four peut être facilement utilisé grâce au système de commande électrique. La température et la pression sont contrôlées par un PLC analogique, ou le processus de frittage est automatiquement complété par l'utilisation d'un contrôleur programmable de température et de pression. Le système de contrôle dispose de fonctions d'alarme et de protection telles que la coupure d'eau, la surchauffe et la surintensité.
Principe
Le four de pressage à chaud à tube sous vide fonctionne en chauffant et en pressurisant des matériaux sous vide ou sous atmosphère. Il utilise des éléments chauffants tels que le graphite ou le molybdène et peut appliquer une pressurisation unidirectionnelle ou bidirectionnelle. Ce processus permet de lier les particules de matière première, de réduire les vides et d'augmenter la densité, formant ainsi un corps fritté compact. Le four est conçu pour diverses industries, assurant un traitement thermique et un frittage précis des matériaux.
Avantages du four
Le four de pressage à chaud à tubes sous vide offre une pléthore d'avantages qui en font un choix de premier ordre pour divers processus et applications de traitement thermique. Voici quelques-uns de ses principaux avantages :
- Polyvalence des procédés de traitement thermique : Le four prend en charge une large gamme de processus de traitement thermique, ce qui le rend adapté à divers matériaux et industries. Cette polyvalence permet de répondre à divers besoins en matière de traitement des matériaux.
- Cycles à grande vitesse avec trempe au gaz à haute pression : Le four est conçu pour faciliter les cycles à grande vitesse, qui sont essentiels pour une production efficace. La fonction de trempe au gaz à haute pression améliore le processus de refroidissement, ce qui se traduit par des cycles plus rapides et une productivité accrue.
- Efficacité énergétique et des ressources : Grâce à sa faible consommation d'énergie et de gaz de traitement, le four est respectueux de l'environnement et rentable. Cette efficacité permet non seulement de réduire les coûts d'exploitation, mais aussi de minimiser l'empreinte écologique.
- Respect de l'environnement et faibles émissions : La conception du four garantit de faibles émissions de gaz de traitement, ce qui en fait un choix écologique pour les industries qui cherchent à minimiser leur impact sur l'environnement.
- Conception simple et modulaire : La conception simple du four permet une installation et une maintenance aisées. Sa nature modulaire signifie qu'il peut être adapté et ajusté à des tâches spécifiques et aux conditions de l'usine, ce qui garantit des performances optimales.
- Qualité garantie et résultats reproductibles : Le four est conçu pour offrir une qualité garantie et des résultats de processus reproductibles, ce qui est crucial pour les industries où la précision et la cohérence sont primordiales.
- Maintenance prédictive : Des fonctions avancées telles que la maintenance prédictive permettent d'identifier les problèmes potentiels avant qu'ils ne s'aggravent, ce qui réduit au minimum les temps d'arrêt et prolonge la durée de vie de l'équipement.
Présentation de la structure
Ce four électrique possède deux types de chauffage au graphite et au fil de résistance, qui conviennent au frittage de poudres métalliques, de matériaux non métalliques inorganiques, etc. sous vide et sous pression à chaud à température élevée ; bien entendu, le frittage sous pression à chaud peut également être effectué sous atmosphère protectrice. De cette manière, la densification du matériau peut être achevée, la déformation peut être évitée et la taille des grains de la nanopoudre peut être supprimée.
| Spécifications |
|
|---|---|
| Coquille du four |
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| Côté four |
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| L'élément chauffant |
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| La couche d'isolation |
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| Système de vide |
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| Circuit principal du système de commande électrique |
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Caractéristiques
- Structure de la chambre à vide en acier inoxydable SUS304 à double couche, méthode de refroidissement par circulation d'eau froide pour maintenir la température de la surface du four.
- Structure de support à double colonne, système de presse hydraulique stable, pression pouvant être contrôlée manuellement ou automatiquement, régulation et maintien précis de la pression.
- Matériaux d'isolation thermique avancés avec une faible conductivité thermique et un bon effet d'isolation thermique, ce qui permet d'isoler efficacement la chaleur et de réduire la consommation d'énergie.
- La plage de température est large. Une variété d'éléments chauffants peuvent être sélectionnés, tels que le graphite, le molybdène, le tungstène, le chauffage par induction, etc. La température peut atteindre 2800 ℃ dans une atmosphère protectrice appropriée, ce qui peut s'adapter au frittage par pressage à chaud de différents matériaux ;
- Configuration diversifiée du système de vide, différents degrés de vide sont sélectionnés en fonction du processus ;
- Un système de chargement et de déchargement est fourni, qui peut être utilisé pour le frittage par pressage à chaud dans un environnement sous vide, une atmosphère inerte ou une atmosphère réductrice ;
- Configuration humanisée, les opérations manuelles et intelligentes peuvent être réalisées ;
- Un four à usages multiples peut être utilisé comme simple four de frittage sous vide ou sous atmosphère ;
- Divers types de fonctions optionnelles sont disponibles, décharge verticale supérieure, décharge verticale latérale, pressurisation unidirectionnelle, pressurisation bidirectionnelle, etc.
Caractéristiques techniques
| Température de travail | 1500℃ / 2200℃ |
|---|---|
| Élément chauffant | Molybdène/Graphite |
| Pression de travail | 10-400T |
| Distance de la presse | 100 à 200 mm |
| Pression du vide | 6x10-3Pa |
| Diamètre de la zone de travail effective | 90-600 mm |
| Diamètre de la zone de travail effective | 120-600 mm |
Avertissements
La sécurité des opérateurs est la question la plus importante ! Veuillez faire fonctionner l'équipement avec des précautions. Travailler avec des gaz inflammables, explosifs ou toxiques est très dangereux, les opérateurs doivent prendre toutes les précautions nécessaires avant de démarrer le équipement. Travailler en pression positive à l’intérieur des réacteurs ou des chambres est dangereux, l'opérateur doit suivre strictement les procédures de sécurité. Supplémentaire des précautions doivent également être prises lors de l'utilisation de matériaux réactifs à l'air, surtout sous vide. Une fuite peut aspirer de l'air dans l'appareil et provoquer un une réaction violente se produit.
Conçu pour vous
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FAQ
A quoi sert un four sous vide ?
Qu'est-ce qu'un four CVD ?
Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est une technologie qui utilise diverses sources d'énergie telles que le chauffage, l'excitation du plasma ou le rayonnement lumineux pour faire réagir chimiquement des substances chimiques gazeuses ou en phase vapeur sur la phase gazeuse ou l'interface gaz-solide pour former des dépôts solides dans le réacteur au moyen de réaction chimique. Pour le dire simplement, deux ou plusieurs matières premières gazeuses sont introduites dans une chambre de réaction, puis elles réagissent l'une avec l'autre pour former un nouveau matériau et le déposer sur la surface du substrat.
Le four CVD est un système de four combiné avec une unité de four tubulaire à haute température, une unité de contrôle des gaz et une unité de vide, il est largement utilisé pour l'expérimentation et la production de préparation de matériaux composites, de processus microélectronique, d'optoélectronique semi-conducteur, d'utilisation de l'énergie solaire, de communication par fibre optique, supraconducteur technologie, domaine des revêtements de protection.
Qu'est-ce que les fours dentaires ?
Qu'est-ce qu'une presse de laboratoire ?
A quoi sert un four de pressage à chaud sous vide ?
Quel est le processus d'un four sous vide?
Comment fonctionne le four CVD ?
Le système de four CVD se compose d'une unité de four tubulaire à haute température, d'une unité de contrôle précise de la source de gaz réactif, d'une station de pompe à vide et des pièces d'assemblage correspondantes.
La pompe à vide consiste à éliminer l'air du tube de réaction et à s'assurer qu'il n'y a pas de gaz indésirables à l'intérieur du tube de réaction, après quoi le four tubulaire chauffera le tube de réaction à une température cible, puis l'unité de contrôle précise de la source de gaz de réaction peut introduire différents gaz avec un rapport défini dans le tube du four pour la réaction chimique, le dépôt chimique en phase vapeur sera formé dans le four CVD.
Qu'est-ce que le processus de fusion à l'arc sous vide ?
Quelles sont les applications des presses à granulés ?
Quels sont les différents types de fours dentaires ?
A quoi sert une presse hydraulique en laboratoire ?
Qu'est-ce que la méthode PECVD ?
Quels sont les avantages d'un four de pressage à chaud sous vide ?
Quel gaz est utilisé dans un four sous vide ?
Quel gaz est utilisé dans le procédé CVD ?
Il existe d'énormes sources de gaz pouvant être utilisées dans le processus CVD, les réactions chimiques courantes de CVD comprennent la pyrolyse, la photolyse, la réduction, l'oxydation, le redox, de sorte que les gaz impliqués dans ces réactions chimiques peuvent être utilisés dans le processus CVD.
Nous prenons la croissance du graphène CVD par exemple, les gaz utilisés dans le processus CVD seront CH4, H2, O2 et N2.
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Comment fonctionne une presse à granulés ?
Quelle est la température d'un four dentaire ?
Quels sont les différents types de presses de laboratoire ?
A quoi sert le PECVD ?
Comment fonctionne un four de pressage à chaud sous vide ?
Quel est l'élément chauffant utilisé dans un four sous vide ?
Quel est l'avantage du système CVD ?
- Une large gamme de films peut être produite, film métallique, film non métallique et film d'alliage multi-composants selon les besoins. En même temps, il peut préparer des cristaux de haute qualité difficiles à obtenir par d'autres méthodes, telles que GaN, BP, etc.
- La vitesse de formation du film est rapide, généralement plusieurs microns par minute voire des centaines de microns par minute. Il est possible de déposer simultanément de grandes quantités de revêtements avec une composition uniforme, ce qui est incomparable aux autres méthodes de préparation de film, telles que l'épitaxie en phase liquide (LPE) et l'épitaxie par jet moléculaire (MBE).
- Les conditions de travail sont réalisées dans des conditions de pression normale ou de vide faible, de sorte que le revêtement a une bonne diffraction et que les pièces aux formes complexes peuvent être uniformément revêtues, ce qui est bien supérieur au PVD.
- En raison de la diffusion mutuelle du gaz de réaction, du produit de réaction et du substrat, un revêtement avec une bonne force d'adhérence peut être obtenu, ce qui est crucial pour la préparation de films renforcés en surface tels que des films résistants à l'usure et anti-corrosion.
- Certains films se développent à une température bien inférieure au point de fusion du matériau du film. Dans des conditions de croissance à basse température, le gaz de réaction et la paroi du réacteur et les impuretés qu'ils contiennent ne réagissent presque pas, de sorte qu'un film de haute pureté et de bonne cristallinité peut être obtenu.
- Le dépôt chimique en phase vapeur permet d'obtenir une surface de dépôt lisse. En effet, par rapport au LPE, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est effectué sous une saturation élevée, avec un taux de nucléation élevé, une densité de nucléation élevée et une distribution uniforme sur tout le plan, ce qui donne une surface lisse macroscopique. Dans le même temps, dans le dépôt chimique en phase vapeur, le libre parcours moyen des molécules (atomes) est beaucoup plus grand que le LPE, de sorte que la distribution spatiale des molécules est plus uniforme, ce qui favorise la formation d'une surface de dépôt lisse.
- Faibles dommages causés par les radiations, condition nécessaire à la fabrication de semi-conducteurs à oxyde métallique (MOS) et d'autres dispositifs
Comment fonctionne le four de fusion à arc sous vide ?
Quels sont les avantages d’utiliser une presse à granulés ?
A quoi sert le four à porcelaine ?
Quels sont les avantages du PECVD ?
Que signifie PECVD ?
Le PECVD est une technologie qui utilise le plasma pour activer le gaz de réaction, favoriser la réaction chimique à la surface du substrat ou près de l'espace de surface et générer un film solide. Le principe de base de la technologie de dépôt chimique en phase vapeur par plasma est que, sous l'action d'un champ électrique RF ou CC, le gaz source est ionisé pour former un plasma, le plasma à basse température est utilisé comme source d'énergie, une quantité appropriée de gaz de réaction est introduit, et la décharge de plasma est utilisée pour activer le gaz de réaction et réaliser le dépôt chimique en phase vapeur.
Selon la méthode de génération de plasma, il peut être divisé en plasma RF, plasma DC et plasma micro-ondes CVD, etc.
Quels facteurs doivent être pris en compte lors du choix d’une presse à granulés ?
Quelle est la différence entre ALD et PECVD ?
Quelle est la différence entre CVD et PECVD ?
La différence entre la technologie PECVD et la technologie CVD traditionnelle est que le plasma contient un grand nombre d'électrons à haute énergie, qui peuvent fournir l'énergie d'activation requise dans le processus de dépôt chimique en phase vapeur, modifiant ainsi le mode d'alimentation en énergie du système de réaction. Étant donné que la température des électrons dans le plasma est aussi élevée que 10000K, la collision entre les électrons et les molécules de gaz peut favoriser la rupture de la liaison chimique et la recombinaison des molécules de gaz de réaction pour générer des groupes chimiques plus actifs, tandis que l'ensemble du système de réaction maintient une température plus basse.
Ainsi, par rapport au processus CVD, le PECVD peut effectuer le même processus de dépôt chimique en phase vapeur avec une température plus basse.
Quelle est la différence entre le PECVD et la pulvérisation ?
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