Le dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes (MPCVD) est une méthode de synthèse utilisée pour la synthèse de films de diamant.
Elle implique l'utilisation d'un rayonnement micro-ondes pour générer un plasma à haute énergie dans une chambre de réacteur.
Le plasma est constitué d'un mélange d'électrons, d'ions atomiques, d'ions moléculaires, d'atomes neutres, de molécules et de fragments moléculaires dans leur état fondamental et excité.
La principale voie de génération de précurseurs/fragments gazeux réactifs dans le plasma est la dissociation par impact électronique.
4 points clés expliqués
1. Le procédé MPCVD
Dans le procédé MPCVD, un gaz contenant du carbone, tel que le méthane, est introduit dans la chambre du réacteur avec d'autres gaz tels que des atomes d'hydrogène, d'oxygène ou de fluor.
Le générateur de micro-ondes, généralement un magnétron ou un klystron, génère des micro-ondes de l'ordre de 2,45 GHz, qui sont couplées à la chambre à vide à travers une fenêtre en quartz.
Le système d'alimentation en gaz, composé de régulateurs de débit massique (MFC), contrôle le flux de gaz dans la chambre à vide.
2. Génération et réaction du plasma
Sous l'excitation d'un rayonnement micro-ondes, le mélange gazeux subit une décharge luminescente dans la chambre de réaction, ce qui entraîne la dissociation moléculaire du gaz de réaction et la génération de plasma.
Le plasma réagit ou se décompose à la surface du substrat, produisant un dépôt de film de diamant.
Le processus de dépôt permet d'obtenir des films de diamant de haute qualité présentant de grandes surfaces, une bonne homogénéité, une grande pureté et une bonne morphologie cristalline.
3. Avantages de la MPCVD
Les avantages de la méthode MPCVD sont notamment sa capacité à préparer des diamants monocristallins de grande taille et la production de boules de plasma importantes et stables dans la chambre de dépôt, ce qui permet de déposer des films de diamant sur une grande surface.
La méthode du plasma micro-ondes offre également un contrôle supérieur sur le processus de dépôt par rapport à d'autres méthodes telles que la méthode de la flamme.
4. Films de diamant de haute qualité
Globalement, la MPCVD est une technique qui utilise le plasma induit par micro-ondes et des précurseurs gazeux réactifs pour déposer des films de diamant de haute qualité et aux propriétés spécifiques.
Poursuivez votre exploration, consultez nos experts
Vous cherchez à synthétiser des films de diamant de haute qualité ? Découvrez la puissance du dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-ondes (MPCVD) avec KINTEK !
Notre équipement et notre technologie de pointe garantissent de grandes surfaces, une bonne homogénéité, une grande pureté et une excellente morphologie cristalline.
Dites adieu aux méthodes dépassées et libérez le potentiel du MPCVD pour vos besoins en films diamantés.
Contactez-nous dès aujourd'hui pour plus d'informations et révolutionnez votre processus de dépôt de diamant !
